一种单腔多片外延设备的颗粒改善方法与流程

本申请属于外延片生产设备，尤其是涉及一种单腔多片外延设备的颗粒改善方法。

背景技术：

1、在单腔多片的外延设备加工生产中，颗粒异常是外延产品标准卡控的关键参数，如何有效的解决颗粒异常，成为提高设备以及产品良率的关键。自动化的实行提高了设备的稼动率，smif外延片自动加载室、天车等的实行优化了生产架构，然而在外延片自动加载过程中发现，循环空气净化系统作为净化部搭配外延片自动加载室工作，却成为气流扰动的“元凶”，本应随气流排出的颗粒在外延片自动加载室内部形成紊流，造成了上层产品的颗粒异常，从而导致报废。

技术实现思路

1、本申请提供一种单腔多片外延设备的颗粒改善方法及其颗粒改善方法，解决了现有结构中在自动加载室内上层外延片表面颗粒异常的技术问题。

2、为解决至少一个上述技术问题，本申请采用的技术方案是：

3、一种单腔多片外延设备的颗粒改善方法，步骤包括：在获取外延片进入自动加载室的过程中，控制用于净化外延片的部分气流进入自动加载室后直接从自动加载室中流出，部分气流在进入自动加载室之前被排出。

4、进一步的，从自动加载室中流出的气流横向朝外排出；在进入自动加载室之前被排出的气流竖向朝下排出。

5、进一步的，所述控制用于净化外延片的部分气流进入自动加载室后直接从自动加载室中流出，包括：

6、提前在自动加载室中的挡板上预设若干第二通孔，且所述挡板被构置在自动加载室的侧壁面上；

7、再控制气流沿所述第二通孔横向朝外流出。

8、进一步的，所有第二通孔均沿挡板的宽度方向构置，并布满挡板的高度方向上。

9、进一步的，所述挡板沿所述挡板的宽度方向间隔配置，所述第二通孔为长条孔，其被构置在所述挡板的下段部和中部。

10、进一步的，所述部分气流在进入自动加载室之前被排出，包括：

11、提前在自动加载室之前的载台上预设若干第一通孔，且第一通孔在沿载台长度方向的所在位置区与所述挡板位置相对应；

12、控制部分气流在进入自动加载室之前沿第一通孔竖直朝下流出。

13、进一步的，所述载台被水平横向配置于所述自动加载室的单侧，其与所述挡板垂直配置。

14、进一步的，在所述载台上配设有用于传输硅片的机械手，所述机械手与所述自动加载室对位构置；所述第一通孔分被构置于所述机械手的两侧。

15、进一步的，所述第一通孔均沿所述载台的宽度方向排列，且置于所述机械手其中一侧的所述第一通孔的数量较其另一侧所述第一通孔的数量多。

16、进一步的，在所述载台还配设有寻参校准区，数量较少的所述第一通孔被设置在靠近所述寻参校准区一侧。

17、采用本申请设计的一种单腔多片外延设备的颗粒改善方法，在保证运行过程中气流稳定排出的条件下，最大限度地降低进入外延片自动加载室内部颗粒量的引入量，从而可降低置于自动加载室内部的外延片表面上的颗粒量，改善气流流向并提高清洁载台及外延片自动加载室的清洗时间。

技术特征：

1.一种单腔多片外延设备的颗粒改善方法，其特征在于，步骤包括：在获取外延片进入自动加载室的过程中，控制用于净化外延片的部分气流进入自动加载室后直接从自动加载室中流出，部分气流在进入自动加载室之前被排出。

2.根据权利要求1所述的一种单腔多片外延设备的颗粒改善方法，其特征在于，从自动加载室中流出的气流横向朝外排出；在进入自动加载室之前被排出的气流竖向朝下排出。

3.根据权利要求1或2所述的一种单腔多片外延设备的颗粒改善方法，其特征在于，所述控制用于净化外延片的部分气流进入自动加载室后直接从自动加载室中流出，包括：

4.根据权利要求3所述的一种单腔多片外延设备的颗粒改善方法，其特征在于，所有第二通孔均沿挡板的宽度方向构置，并布满挡板的高度方向上。

5.根据权利要求4所述的一种单腔多片外延设备的颗粒改善方法，其特征在于，所述挡板沿所述挡板的宽度方向间隔配置，所述第二通孔为长条孔，其被构置在所述挡板的下段部和中部。

6.根据权利要求1-2、4-5任一项所述的一种单腔多片外延设备的颗粒改善方法，其特征在于，所述部分气流在进入自动加载室之前被排出，包括：

7.根据权利要求6所述的一种单腔多片外延设备的颗粒改善方法，其特征在于，所述载台被水平横向配置于所述自动加载室的单侧，其与所述挡板垂直配置。

8.根据权利要求7所述的一种单腔多片外延设备的颗粒改善方法，其特征在于，在所述载台上配设有用于传输硅片的机械手，所述机械手与所述自动加载室对位构置；所述第一通孔分被构置于所述机械手的两侧。

9.根据权利要求8所述的一种单腔多片外延设备的颗粒改善方法，其特征在于，所述第一通孔均沿所述载台的宽度方向排列，且置于所述机械手其中一侧的所述第一通孔的数量较其另一侧所述第一通孔的数量多。

10.根据权利要求6-9任一项所述的一种单腔多片外延设备的颗粒改善方法，其特征在于，在所述载台还配设有寻参校准区，数量较少的所述第一通孔被设置在靠近所述寻参校准区一侧。

技术总结一种单腔多片外延设备的颗粒改善方法，步骤包括：在获取外延片进入自动加载室的过程中，控制用于净化外延片的部分气流进入自动加载室后直接从自动加载室中流出，部分气流在进入自动加载室之前被排出。本申提出的颗粒改善方法，在保证运行过程中气流稳定排出的条件下，最大限度地降低进入外延片自动加载室内部颗粒量的引入量，从而可降低置于自动加载室内部的外延片表面上的颗粒量，改善气流流向并提高清洁载台及外延片自动加载室的清洗时间。技术研发人员：张国栋,陈渊凌,贾文,罗晖,谭永麟受保护的技术使用者：天津中环领先材料技术有限公司技术研发日：技术公布日：2024/5/29