结晶化玻璃以及强化结晶化玻璃的制作方法

本发明涉及一种结晶化玻璃以及具有压缩应力层的强化结晶化玻璃。智能手机、平板电脑等便携电子设备中使用有用以对显示器进行保护的覆盖玻璃。此外，即便于车载用途的光学设备中也使用有用以对透镜进行保护的保护件。进而，近年来，也需要被利用于成为电子设备的外装的壳体等。此外，这些设备迫切需求具有高硬度而能承受严苛使用的材料。就提高了玻璃强度的材料方面有结晶化玻璃。结晶化玻璃使得晶体析出于玻璃内部，相较于非晶质玻璃而言，在机械强度上优异一事已为人所知。进而，作为提高玻璃强度的方法已知有化学强化。使得在玻璃表面层所存在的碱成分与相较于离子半径比该碱成分更大的碱成分进行交换反应，在表面层形成压缩应力层，由此可抑制裂纹的发展而提高机械强度。专利文献1、2中揭示了高强度的结晶化玻璃以及此结晶化玻璃经化学强化所得到的结晶化玻璃。但是，为了进一步扩展作为光学构件的用途，而需要不仅是硬度且折射率也高的结晶化玻璃。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2011-207626。专利文献2：日本特开2017-001937。

背景技术：

技术实现思路

1、发明要解决的问题

2、本发明的目的在于，提供一种具有新颖组成的高折射率且高硬度的结晶化玻璃以及强化结晶化玻璃。

3、用于解决问题的方案

4、本发明提供以下技术。

5、(构成1)

6、一种结晶化玻璃，其以氧化物换算的质量％计含有：sio2成分20.0％以上且不足40.0％，rn2o成分超过0％且为20.0％以下(其中rn选自li、na、k中的1种以上)，al2o3成分7.0％至25.0％，mgo成分0％至25.0％，zno成分0％至45.0％，ta2o5成分0％至20.0％，mgo成分与zno成分与ta2o5成分的合计量为10.0％以上。

7、(构成2)

8、根据构成1所述的结晶化玻璃，其中，以氧化物换算的质量％计含有：tio2成分0％至15.0％，cao成分0％至15.0％，bao成分0％至15.0％，sro成分0％至10.0％。

9、(构成3)

10、根据构成1或是2所述的结晶化玻璃，其中，以氧化物换算的质量％计含有：zro2成分0％至10.0％，wo3成分0％至10.0％，la2o3成分0％至10.0％，gd2o3成分0％至15.0％，bi2o3成分0％至15.0％，p2o5成分0％至10.0％，nb2o5成分0％至10.0％，sb2o3成分0％至5.0％。

11、(构成4)

12、根据构成1至3中任一项所述的结晶化玻璃，其中，前述mgo成分与zno成分与ta2o5成分的合计量为18.0％以上。

13、(构成5)

14、根据构成1至4中任一项所述的结晶化玻璃，其折射率(nd)为1.55以上。

15、(构成6)

16、根据构成1至5中任一项所述的结晶化玻璃，其比重为3.0以上。

17、(构成7)

18、一种强化结晶化玻璃，其以构成1至6中任一项所述的结晶化玻璃为母材，表面具有压缩应力层。

19、发明的效果

20、根据本发明，可提供一种具有新颖组成的高折射率且高硬度的结晶化玻璃以及强化结晶化玻璃。

21、本发明的结晶化玻璃或是强化结晶化玻璃可利用作为智能手机、平板电脑、个人电脑的覆盖玻璃或壳体、滤波器、照相机等的光学用途构件(透镜、基板等)。具体而言，可举出车载用透镜、短焦点投影机用透镜、可穿戴式元件、装饰品(车载、建筑物、智能钥匙等)、触摸面板、介电质滤波器。具有高折射率有利于紧凑化，而具有高强度有利于薄膜化、轻量化。

技术特征：

1.一种结晶化玻璃，其以氧化物换算的质量％计含有：

2.一种结晶化玻璃，其以氧化物换算的质量％计含有：

3.一种结晶化玻璃，其以氧化物换算的质量％计含有：

4.根据权利要求1～3中任一项所述的结晶化玻璃，其中，以氧化物换算的质量％计含有：

5.根据权利要求1～3中任一项所述的结晶化玻璃，其中，以氧化物换算的质量％计含有：

6.根据权利要求1～3中任一项所述的结晶化玻璃，其中，所述mgo成分、zno成分与ta2o5成分的合计量为18.0％以上。

7.根据权利要求1～3中任一项所述的结晶化玻璃，其折射率(nd)为1.55以上。

8.根据权利要求1～3中任一项所述的结晶化玻璃，其比重为3.0以上。

9.一种强化结晶化玻璃，其以权利要求1～3中任一项所述的结晶化玻璃为母材，表面具有压缩应力层。

技术总结本发明的课题在于，获得一种具有新颖组成的高折射率且高硬度的结晶化玻璃以及强化结晶化玻璃。一种结晶化玻璃，其以氧化物换算的质量％计含有：SiO2成分20.0％以上且不足40.0％，Rn2O成分超过0％且为20.0％以下(其中Rn选自Li、Na、K中的1种以上)，Al2O3成分7.0％至25.0％，MgO成分0％至25.0％，ZnO成分0％至45.0％，Ta2O5成分0％至20.0％，且MgO成分与ZnO成分与Ta2O5成分的合计量为10.0％以上。技术研发人员：岛村圭介,八木俊刚,小笠原康平受保护的技术使用者：株式会社小原技术研发日：技术公布日：2024/6/18