保护膜及其制备方法与流程

本申请涉及保护膜领域，具体而言，涉及一种保护膜及其制备方法。

背景技术：

1、在生产手机盖板玻璃的制程中，有一道针对摄像头镜头区域的镀膜工艺，常用uv固化减粘保护膜模切除去镜头区的圆孔的工艺，来确保镀膜区域的精准操作，真空电镀150℃-45min，但现有的耐高温低收缩保护膜在上述真空电镀的过程中，依然产生保护膜收缩造成的溢镀严重问题，导致返工和不良率达到30％以上。

技术实现思路

1、本申请实施例的目的在于提供一种保护膜及其制备方法，其能够有效降低或抑制保护膜在150℃真空电镀的过程中的收缩，缓解因电镀过程中保护膜收缩造成的溢镀问题。

2、第一方面，本申请实施例提供一种保护膜，其包括基膜以及粘接于基膜任一表面的uv减粘层；其中，基膜为环烯烃共聚物或环烯烃聚合物，uv减粘层含有硅烷偶联剂。

3、本申请提供的保护膜，通过限定uv减粘层含有硅烷偶联剂，利用硅烷偶联剂和特定材质(环烯烃共聚物以及环烯烃聚合物)的基膜配合，获得高温低收缩率保护膜，从而有效降低保护膜在150℃的收缩率，缓解因电镀过程中保护膜收缩造成的溢镀问题。

4、第二方面，本申请实施例提供一种上述保护膜的制备方法，其包括：

5、在离型膜涂布含有硅烷偶联剂的uv减粘丙烯酸酯胶水，加热固化，形成uv减粘层；

6、在uv减粘层背离离型膜的一面贴合基膜。

7、本申请提供的制备方法操作简单，可工业化生产。

技术特征：

1.一种保护膜，其特征在于，包括基膜以及粘接于所述基膜任一表面的uv减粘层；

2.根据权利要求1所述的保护膜，其特征在于，所述uv减粘层由uv减粘胶水固化所得，所述uv减粘胶水按重量份数计，包括：己内酯丙烯酸酯100份、光引发剂1-3份、异氰酸酯固化剂0.3-0.6份、所述硅烷偶联剂0.3-0.6份，以及溶剂50-65份。

3.根据权利要求2所述的保护膜，其特征在于，

4.根据权利要求2所述的保护膜，其特征在于，所述uv减粘层中还含有抗静电剂，所述抗静电剂的添加量为所述己内酯丙烯酸酯质量的1％-5％；

5.根据权利要求1-3任意一项所述的保护膜，其特征在于，所述基膜的厚度为12-50μm。

6.根据权利要求1-3任意一项所述的保护膜，其特征在于，所述uv减粘层的厚度为10-15μm。

7.根据权利要求1-3任意一项所述的保护膜，其特征在于，在150℃保温1h，所述保护膜在md方向收缩率≤0.05％，td方向收缩率在0。

8.根据权利要求1-3任意一项所述的保护膜，其特征在于，还包括离型膜，所述离型膜贴合于所述uv减粘层背离所述基膜的一面。

9.一种如权利要求1-8任一项所述的保护膜的制备方法，其特征在于，包括：

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：将所述基膜贴合于所述uv减粘层之前，对所述基膜进行表面处理，以使所述基膜的表面能≥44dn。

技术总结本申请提供一种保护膜及其制备方法，涉及保护膜领域。保护膜包括基膜以及粘接于基膜任一表面的UV减粘层；基膜为环烯烃共聚物或环烯烃聚合物，UV减粘层含有硅烷偶联剂。通过限定UV减粘层含有硅烷偶联剂，利用硅烷偶联剂和特定材质(环烯烃共聚物以及环烯烃聚合物)的基膜配合，获得高温低收缩率保护膜，从而有效降低保护膜在150℃的收缩率，缓解因电镀过程中保护膜收缩造成的溢镀问题。技术研发人员：杨永林,尹万安,王霞,刘永春受保护的技术使用者：绍兴旭源新材料科技有限公司技术研发日：技术公布日：2024/6/11