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粘合剂层和/或胶粘剂层的制作方法

  • 国知局
  • 2024-08-02 17:54:12

本发明涉及粘合剂层和/或胶粘剂层,更具体而言,涉及能够发挥粘合性的粘合剂层和/或能够发挥胶粘性的胶粘剂层。

背景技术:

1、在显示器等光学器件中,以oled为代表的薄型、挠性显示器以层叠有多个光学用膜、薄层器件的状态构成。另外,压敏传感器等要求挠性的器件以压敏构件与基板层叠的状态构成(专利文献1)。这些层叠体中的层间填充剂选择液态固化树脂、粘合剂、胶粘剂,从作业性的提高、由固化收缩引起的翘曲、由应力分散引起的挠性的提高等观点考虑,优选使用粘合剂、胶粘剂(粘合剂等)。

2、上述粘合剂等特别是在挠性构件中承担分散、缓和因弯折、折叠而产生的应力的功能,粘合剂等越柔软,越有效地表现出该功能(专利文献2),使用柔软的粘合剂等。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1:日本特开2012-159463号公报

6、专利文献2:日本特开2020-109177号公报

技术实现思路

1、发明所要解决的问题

2、另一方面,有时柔软的粘合剂等即使在微小的应力下也会大幅变形,在制造、加工粘合剂等时产生问题,例如在利用冲切刀进行裁切时,产生胶糊突出、胶糊缺损、由这些引起的工序污染等。此外,对于这样的粘合剂等而言,在保存时因自重而胶糊突出,在搬运时有时也会产生由振动、接触而导致的胶糊缺损等问题。

3、因此,要求在制造、加工、保存、搬运等粘合或胶粘到构件上前的操作性优异,在使用时、即粘合或胶粘到构件上后的柔软性优异的粘合剂层、胶粘剂层。

4、本发明是为了解决这样的问题而完成的,其目的在于提供在粘合或胶粘到构件上前的操作性优异,在粘合或胶粘到构件上后的柔软性优异的粘合剂层和/或胶粘剂层。

5、用于解决问题的手段

6、本发明人等为了解决上述问题,进行了深入研究,结果发现,利用应力因外部刺激而降低的粘合剂层和胶粘剂层,在粘合或胶粘到构件上前的操作性优异,在粘合或胶粘到构件上后的柔软性优异。本发明是基于这些见解而完成的。

7、即,本发明提供应力因外部刺激而降低的粘合剂层和/或胶粘剂层。通过使粘合剂层或胶粘剂层具有应力因外部刺激而降低的性质,在外部刺激施加前能够使应力变得较高,在粘合剂层或胶粘剂层使用前、即将粘合剂层或胶粘剂层粘合或胶粘到构件上前,不易产生胶糊突出、胶糊缺损,能够使操作性优异。另一方面,与外部刺激施加前相比,外部刺激施加后能够降低应力,在粘合剂层或胶粘剂层的使用时、即在将粘合剂层或胶粘剂层粘合或胶粘到构件上的状态下能够使柔软性优异。

8、上述应力优选在降低后不增加。这样的粘合剂层等在将粘合层等粘合或胶粘到构件上的状态下应力不会增加而保持柔软性。

9、外部刺激施加后的100%应变应力(s2(100))与外部刺激施加前的100%应变应力(s1(100))之比[s2(100)/s1(100)]优选小于0.95。这样的粘合剂层等表现出通过外部刺激施加而使较弱的拉伸应力进一步降低,拉伸时的回弹力低,适于折叠式的构件等较低载荷的用途。

10、外部刺激施加后的100%应变应力(s2(100))优选为10mpa以下。这样的粘合剂层等在外部刺激施加后柔软性更进一步优异。

11、上述粘合剂层等优选用于光学用途。

12、发明效果

13、本发明的粘合剂层和/或胶粘剂层在粘合或胶粘到构件上前的操作性优异,在粘合或胶粘到构件上后柔软性优异。

技术特征:

1.一种粘合剂层和/或胶粘剂层,其中,所述粘合剂层和/或胶粘剂层的应力因外部刺激而降低。

2.根据权利要求1所述的粘合剂层和/或胶粘剂层,其中,所述应力在降低后不增加。

3.根据权利要求1所述的粘合剂层和/或胶粘剂层,其中,外部刺激施加后的100%应变应力(s2(100))与外部刺激施加前的100%应变应力(s1(100))之比[s2(100)/s1(100)]小于0.95。

4.根据权利要求1所述的粘合剂层和/或胶粘剂层,其中,外部刺激施加后的100%应变应力(s2(100))为10mpa以下。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的粘合剂层和/或胶粘剂层,其中,所述粘合剂层和/或胶粘剂层用于光学用途。

技术总结本发明提供在粘合或胶粘到构件上前操作性优异、在粘合或胶粘到构件上后柔软性优异的粘合剂层和/或胶粘剂层。本发明提供应力因外部刺激而降低的粘合剂层和/或胶粘剂层。上述应力优选在降低后不增加。外部刺激施加前的100%应变应力(S1(100))与外部刺激施加后的100%应变应力(S2(100))之比[S1(100)/S2(100)]优选小于0.95。技术研发人员:飞永骏,雨宫虎太朗,水野大辅,仲野武史,岩田智史受保护的技术使用者:日东电工株式会社技术研发日:技术公布日:2024/7/11

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