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一种抗静电光学保护膜的制作方法

  • 国知局
  • 2024-08-05 13:30:09

本技术涉及一种抗静电光学保护膜。

背景技术:

1、cn 116218006 b公开了一种防静电型光学保护膜,包括光学基膜以及涂覆在光学基膜表面的防静电涂料。该现有技术为了获得抗静电效果,采用了十分复杂的防静电涂料制备工艺。与前述现有技术类似,该现有技术的光学基膜是绝缘的,防静电涂料并不能向外将静电导出。而且正如该现有技术强调的,防静电涂料存在相容性问题,需要复杂的工艺才能使得抗静电成分均匀固化,因而意味着防静电涂料可能会存在不同区域的导电性差异,导电性差的区域的静电就无法被导走,仍然会存在静电问题。

2、cn 105733464 b公开了一种液晶偏光板用光学保护膜,所述保护膜为多层结构,在二轴拉伸透明聚酯薄膜的一面涂布功能层,所述功能层具有抗刮性、防污性和抗静电性,在聚酯薄膜的另一面上涂布压敏胶黏剂层,在胶黏剂层上贴覆硅酮型离型膜。该现有技术具备抗静电功能的功能层在保护膜的最外侧,中间隔着绝缘的聚酯薄膜和压敏胶黏剂层。因而该现有技术的光学保护膜只能防止外部静电对偏光板造成影响,剥离光学保护膜时所产生的静电完全无法导出,在组装液晶显示器的时候,剥离光学保护膜所产生的静电对偏光板会造成严重的影响。

技术实现思路

1、本申请要解决的技术问题是提供一种抗静电光学保护膜,以减少或避免前面所提到的问题。

2、为解决上述技术问题,本申请提出了一种抗静电光学保护膜,用于贴附在光学薄膜的工作面上对其进行保护,其中,所述抗静电光学保护膜至少包括聚酯基材层以及用于与光学薄膜粘接的可导电的胶黏剂层;所述聚酯基材层和胶黏剂层之间形成有一层导电层;所述聚酯基材层的厚度为20-250μm,所述胶黏剂层的厚度为5-15μm,所述导电层的厚度为0.1-1μm。

3、优选地,所述导电层由金属导电材料通过蒸镀或真空溅射形成在所述聚酯基材层相对胶黏剂层的一侧表面。

4、优选地,所述导电层局部覆盖所述聚酯基材层的表面。

5、优选地,所述导电层呈斜对角交叉结构形成在所述聚酯基材层的表面。

6、优选地,所述导电层以具有网孔的网格结构形成在所述聚酯基材层的表面。

7、优选地,所述抗静电光学保护膜设置有向外突出的拉耳,所述导电层具有与所述拉耳形状对应的突起。

8、本申请的聚酯基材层和胶黏剂层可以均含有抗静电剂,在聚酯基材层含有抗静电剂的情况下,保护膜剥离时的静电可以通过胶黏剂层导出给聚酯基材层,因而不会有静电残留的问题。由于导电层是由金属导电材料形成的一层致密的导电结构,其电阻率远小于聚酯基材层和胶黏剂层,因而即便聚酯基材层和胶黏剂层的导电性存在不均匀,局部聚集的静电也很容易被导电层导走,因而可以解决抗静电剂分散均匀性的缺陷。

技术特征:

1.一种抗静电光学保护膜,用于贴附在光学薄膜(20)的工作面上对其进行保护,其特征在于,所述抗静电光学保护膜(10)至少包括聚酯基材层(11)以及用于与光学薄膜(20)粘接的可导电的胶黏剂层(12);所述聚酯基材层(11)和胶黏剂层(12)之间形成有一层导电层(13);所述聚酯基材层(11)的厚度为20-250μm,所述胶黏剂层(12)的厚度为5-15μm,所述导电层(13)的厚度为0.1-1μm。

2.如权利要求1所述的抗静电光学保护膜,其特征在于,所述导电层(13)由金属导电材料通过蒸镀或真空溅射形成在所述聚酯基材层(11)相对胶黏剂层(12)的一侧表面。

3.如权利要求2所述的抗静电光学保护膜,其特征在于,所述导电层(13)局部覆盖所述聚酯基材层(11)的表面。

4.如权利要求3所述的抗静电光学保护膜,其特征在于,所述导电层(13)呈斜对角交叉结构形成在所述聚酯基材层(11)的表面。

5.如权利要求3所述的抗静电光学保护膜,其特征在于,所述导电层(13)以具有网孔(131)的网格结构形成在所述聚酯基材层(11)的表面。

6.如权利要求1-5之一所述的抗静电光学保护膜,其特征在于,所述抗静电光学保护膜设置有向外突出的拉耳(111),所述导电层(13)具有与所述拉耳(111)形状对应的突起。

技术总结本申请公开了一种抗静电光学保护膜,至少包括聚酯基材层以及用于与光学薄膜粘接的可导电的胶黏剂层;所述聚酯基材层和胶黏剂层之间形成有一层导电层;所述聚酯基材层的厚度为20‑250μm,所述胶黏剂层的厚度为5‑15μm,所述导电层的厚度为0.1‑1μm。本申请的聚酯基材层和胶黏剂层可以均含有抗静电剂,在聚酯基材层含有抗静电剂的情况下,保护膜剥离时的静电可以通过胶黏剂层导出给聚酯基材层,因而不会有静电残留的问题。由于导电层是由金属导电材料形成的一层致密的导电结构,其电阻率远小于聚酯基材层和胶黏剂层,因而即便聚酯基材层和胶黏剂层的导电性存在不均匀,局部聚集的静电也很容易被导电层导走,因而可以解决抗静电剂分散均匀性的缺陷。技术研发人员:吴培服,潘建忠,钱向飞,张岩,吴和坡受保护的技术使用者:江苏双星彩塑新材料股份有限公司技术研发日:20231204技术公布日:2024/7/18

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