沉积装置的制作方法

本技术涉及沉积装置。

背景技术：

1、向使用者提供图像的智能电话、数码相机、笔记本计算机、导航仪和智能电视机等电子设备包括用于显示图像的显示装置。显示装置生成图像，将生成的图像通过显示屏幕提供给使用者。在显示装置的制造中，可以使用溅射(sputtering)工序。

2、溅射技术是为了生成瞄准溅射目标物的离子使得溅射目标物的原子在基板上沉积为膜而利用等离子体的成膜技术。尤其是，在半导体和光电产业中加以利用的各种制造工序中为了生成金属、氧化物、氮化物、半导体薄膜而使用溅射技术。

技术实现思路

1、本实用新型涉及可以以均匀的厚度将配置在基板上的沉积层沉积得薄的沉积装置以及利用其的沉积方法。

2、本实用新型的一实施例涉及的沉积装置包括：腔体，提供内部空间；移动部件，移动被提供沉积物质的基板；以及沉积源，收纳在所述内部空间中，提供所述沉积物质，所述沉积源包括：第一沉积源，在所述基板通过所述移动部件沿着第一方向移动的期间对所述基板进行第一沉积；以及第二沉积源，在对所述基板进行所述第一沉积之后进行第二沉积。

3、可以是，在所述腔体的所述内部空间中定义进行所述第一沉积的第一区域以及进行所述第二沉积的第二区域，所述第二区域被配置成在所述第一方向上与所述第一区域间隔开。

4、可以是，所述腔体包括所述基板进入所述腔体的所述内部空间的腔体入口，所述第一区域与所述腔体入口相邻。

5、可以是，本实用新型的一实施例涉及的沉积装置还包括：阻断膜，在所述第一区域与所述第二区域之间，所述阻断膜包括第一部分和第二部分。

6、可以是，所述第二部分在平面上与所述第一区域及所述第二区域部分重叠。

7、可以是，所述第二部分在进行所述第二沉积之前朝向与所述第一方向相反的方向移动以便密封所述第一沉积源，从而所述第二部分与整个所述第一区域重叠。

8、可以是，所述第一沉积源包括第一目标物，所述第二沉积源包括第二目标物，所述第一目标物的个数不同于第二目标物的个数。

9、可以是，所述第二目标物是多个，所述第一目标物的个数少于所述第二目标物的个数。

10、可以是，所述第一目标物的截面形状是四边形，所述第一目标物被配置成相对于所述基板倾斜。

11、可以是，所述第一沉积源还包括：第一磁铁；以及屏蔽层，配置在所述第一目标物与所述第一磁铁之间。

12、可以是，所述第二目标物是在与所述第一方向垂直地交叉的第二方向上延伸的圆筒形。

13、可以是，所述第二沉积源还包括：旋转驱动装置，使所述第二目标物旋转；以及第二磁铁，在所述第二目标物的内部。

14、可以是，本实用新型的一实施例涉及的沉积装置还包括：第三沉积源，在对所述基板进行所述第二沉积之后，在所述基板通过所述移动部件沿着所述第一方向移动的期间进行第三沉积。

15、可以是，本实用新型的一实施例涉及的沉积装置还包括：电压施加装置，向所述第一沉积源和所述第二沉积源施加电源电压。

16、可以是，本实用新型的一实施例涉及的沉积装置还包括：基板保持器，在所述第二沉积源上固定所述基板。

17、本实用新型的一实施例涉及的沉积方法可以包括：提供沉积装置的步骤，所述沉积装置包括腔体、具备配置在所述腔体的内部空间的第一沉积源和第二沉积源的沉积源、移动被提供沉积物质的基板的移动部件以及固定所述基板的基板保持器；通过所述移动部件使所述基板进入所述腔体的所述内部空间的步骤；在所述基板沿着第一方向移动的期间通过所述第一沉积源进行第一沉积的步骤；在配置于所述第二沉积源上的所述基板保持器上固定所述基板的步骤；以及在所述基板保持器上固定所述基板之后通过所述第二沉积源进行第二沉积的步骤。

18、可以是，进行所述第一沉积的步骤包括：向所述腔体的所述内部空间施加真空压的步骤；向所述腔体的所述内部空间供给工序气体的步骤；以及向所述第一沉积源施加电源电压的步骤。

19、可以是，所述沉积装置还包括配置在所述第一沉积源与所述第二沉积源之间的阻断膜，本实用新型的一实施例涉及的沉积方法还包括：在进行所述第二沉积的步骤之前所述阻断膜密封所述第一沉积源的步骤。

20、可以是，通过所述第一沉积在所述基板上形成第一沉积层，通过所述第二沉积在所述第一沉积层上形成第二沉积层，所述第一沉积层的厚度比所述第二沉积层的厚度薄。

21、可以是，所述沉积源还包括第三沉积源，本实用新型的一实施例涉及的沉积方法还包括：在进行所述第二沉积的步骤之后在所述基板沿着所述第一方向移动的期间通过所述第三沉积源进行第三沉积的步骤。

22、(实用新型效果)

23、根据本实用新型，可以在一个腔体内实施第一沉积工序和第二沉积工序，从而可以减少沉积所需的腔体的个数来简化沉积装置的结构。

技术特征：

1.一种沉积装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的沉积装置，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的沉积装置，其特征在于，

4.根据权利要求2所述的沉积装置，其特征在于，还包括：

5.根据权利要求4所述的沉积装置，其特征在于，

6.根据权利要求4所述的沉积装置，其特征在于，

7.根据权利要求1所述的沉积装置，其特征在于，

8.根据权利要求7所述的沉积装置，其特征在于，

9.根据权利要求7所述的沉积装置，其特征在于，

10.根据权利要求7所述的沉积装置，其特征在于，

技术总结本技术的沉积装置包括：腔体，提供内部空间；移动部件，移动被提供沉积物质的基板；以及沉积源，收纳在内部空间中，提供沉积物质。沉积源包括：第一沉积源，对基板进行通过移动部件在第一方向上移动的第一沉积；以及第二沉积源，在对基板进行第一沉积之后进行第二沉积。可以在一个腔体内实施第一沉积工序和第二沉积工序，从而可以减少沉积所需的腔体的个数来简化沉积装置的结构。技术研发人员：申铉亿,朴俊龙受保护的技术使用者：三星显示有限公司技术研发日：20231008技术公布日：2024/7/18