一种晶格匹配的氮化钽光阳极制备方法
- 国知局
- 2024-07-27 11:43:39
本发明属于光电化学水分解光电极材料制备,具体涉及一种晶格匹配的氮化钽光阳极制备方法。
背景技术:
1、人工光合作用可以将太阳能转化为可再生的清洁能源,是减少化石燃料消耗和保护环境的一种有效途径。光电化学水分解(pec)作为人工光合作用被认为是一种很有前途实现太阳能到氢(sth)的转换方式。在用于pec水分解的光阳极材料中,ta3n5以其独特的优势脱颖而出。ta3n5是一种n型半导体,其带隙为2.1ev,因此能够吸收大部分太阳光谱(可吸收波长小于600nm的太阳光谱),此外,其导带和价带的能带位置横跨水的氧化还原电位,这意味着它在能量上适合用于整体水分解。理论上,在标准太阳光照射下,ta3n5能够产生12.9ma cm-2的最大光电流密度,对应于15.9%的理论最大sth转换效率。
2、ta3n5薄膜的制备通常选取nb和ta等导电且耐高温的金属作为基底。但是,由于金属基底表面不平整,其晶格与ta3n5不匹配,ta3n5的结晶度会受到影响。因此,需要寻找一种合适的方法来提高ta3n5的结晶度。
技术实现思路
1、本发明的目的在于提供一种晶格匹配的氮化钽光阳极的制备方法,来提升氮化钽薄膜的结晶度。
2、为实现上述目的,本发明采用如下技术方案:
3、一种晶格匹配的氮化钽光阳极制备方法,包括步骤如下:
4、步骤1、清洗基底;
5、步骤2、采用电子束沉积法在基底上制备nb2o5前驱体薄膜;
6、步骤3、高温氮化nb2o5前驱体薄膜,制备得到nb5n6薄膜;
7、步骤4、采用双源电子束沉积法在nb5n6薄膜上制备梯度mg掺杂ta2o5前驱体薄膜;
8、步骤5、高温氮化mg掺杂ta2o5前驱体薄膜,制备得到mg:ta3n5/nb5n6薄膜;
9、步骤6、使用导电银浆将导电线与mg:ta3n5/nb5n6薄膜四周nb5n6暴露的地方粘连在一起,并使用凝固胶将导电银浆封装覆盖,形成欧姆接触,制备得到mg:ta3n5/nb5n6光阳极。
10、进一步的,所述步骤2具体为:
11、将清洗干净的基底放入电子束沉积系统的样品台中,使用nb2o5作为氧化物前驱体的沉积源并放入腔室的坩埚中,沉积速率为沉积厚度为50-500nm,最终得到nb2o5前驱体薄膜。
12、进一步的,所述步骤3具体为:
13、将制备好的nb2o5前驱体薄膜放入石英舟内并密封于高温管式炉中,在nh3气氛中,在气流量为50-200sccm,温度为1073-1323k下进行1-12h的高温氮化。进一步的,所述步骤4具体为:
14、将制备所得到的nb5n6薄膜放入电子束沉积系统的样品台中,分别将mgo和ta2o5作为氧化物前驱体的沉积源并放入腔室的坩埚中;当腔室达到5×10-6-1×10-5torr的真空度后通入1-10sccm的氧气;
15、在沉积过程中,使用石英晶振片控制两个源的沉积速率和薄膜的沉积厚度:在固定ta2o5源沉积速率为沉积厚度为100-1000nm的情况下,每沉积一定厚度的ta2o5,mgo源的沉积速率依次降低,以实现mg2+在ta2o5薄膜中的梯度掺杂。
16、进一步的,所述步骤5具体为:
17、将制备好的mg:ta2o5/nb5n6前驱体薄膜装入石英舟中并密封于高温管式炉中,在nh3气氛中,在气流量为50-200sccm,温度为1073-1323k下进行1-12h的高温氮化,最终制备得到mg:ta3n5/nb5n6薄膜。
18、本发明提供的一种晶格匹配的氮化钽光阳极制备方法,是利用电子束共蒸发沉积法和高温氮化法在基底(如硅、石英、蓝宝石、金属等)上引入nb5n6导电层,利用ta3n5与nb5n6具有良好的晶格匹配这一特点,通过双源电子束共蒸发沉积法和高温氮化法在与ta3n5晶格匹配的nb5n6层上沉积梯度mg掺杂ta3n5薄膜,以提升mg掺杂ta3n5薄膜的结晶度。与现有技术相比,本发明中nb5n6导电层不仅可以替代传统金属基底导电的功能,而且还可以解决金属基底因其表面不平整,晶格与ta3n5不匹配,从而影响ta3n5结晶度的问题。为制备ta3n5光阳极和提升其结晶性提供了新的思路,该方法还可以进一步应用到其他光电材料的制备中。
技术特征:1.一种晶格匹配的氮化钽光阳极制备方法,其特征在于,包括步骤如下:
2.根据权利要求1所述的一种晶格匹配的氮化钽光阳极制备方法,其特征在于,所述步骤2具体为:
3.根据权利要求1所述的一种晶格匹配的氮化钽光阳极制备方法,其特征在于,所述步骤3具体为:
4.根据权利要求1所述的一种晶格匹配的氮化钽光阳极制备方法,其特征在于,所述步骤4具体为:
5.根据权利要求1至3任一项所述的一种晶格匹配的氮化钽光阳极制备方法,其特征在于,所述步骤5具体为:
技术总结本发明属于光电化学水分解光电极材料制备技术领域,具体涉及一种晶格匹配的氮化钽光阳极制备方法,该方法是利用电子束共蒸发沉积法和高温氮化法在基底上引入Nb<subgt;5</subgt;N<subgt;6</subgt;导电层,利用Ta<subgt;3</subgt;N<subgt;5</subgt;与Nb<subgt;5</subgt;N<subgt;6</subgt;具有良好的晶格匹配这一特点,通过双源电子束共蒸发沉积法和高温氮化法在与Ta<subgt;3</subgt;N<subgt;5</subgt;晶格匹配的Nb<subgt;5</subgt;N<subgt;6</subgt;层上沉积梯度Mg掺杂Ta<subgt;3</subgt;N<subgt;5</subgt;薄膜,以提升Mg掺杂Ta<subgt;3</subgt;N<subgt;5</subgt;薄膜的结晶度。为制备氮化钽光阳极和提升其结晶性提供了新的思路,该方案还可以进一步应用到其他光电材料的制备中。技术研发人员:李严波,刘怡彤,范泽宇受保护的技术使用者:电子科技大学技术研发日:技术公布日:2024/6/11本文地址:https://www.jishuxx.com/zhuanli/20240726/119306.html
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