一种纳米石墨均匀性镀铜设备的制作方法

本技术涉及电镀设备，具体为一种纳米石墨均匀性镀铜设备。

背景技术：

1、镀铜工艺是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层铜层的过程，在生产应用中电镀工艺镀铜工艺有着重要的意义，通过在金属表面电镀铜可以提高金属的耐腐蚀性、导电性以及增进美观效果等，化学镀铜,化学镀铜技术起始于1947年，narcus首先报道了化学镀铜溶液化学。初始阶段化学镀铜液的稳定性很差，溶液易自动分解，且施镀范围不能控制，所有与溶液接触的地方都有沉积物。而真正意义上的商品化学镀铜出现于20世纪50年代，随着印制线路板(pcb)通孔金属化的发展，化学镀铜得到了最早的应用。第一个类似现代的化学镀铜溶液由cahill公开发表于1957年，镀液为碱性酒石酸铜镀浴，甲醛为还原剂。现在，经过50多年的开发研究，形成了相对完善的化学镀的溶液化学知识以及工艺技术基础，并建立了初步的基础理论体系。化学镀铜是在有钯等催化活性物质的表面，通过甲醛等还原剂的作用，使铜离子还原析出。

2、在中国实用新型专利申请公开说明书cn206872977u公开的一种本实用新型公开了一种镀铜设备，其技术方案要点是包括电镀槽，电镀槽内设置有转动装置，转动装置包括转动连接在电镀槽内的滚筒，滚筒上开设有投料口且该处设置有盖板，滚筒上设置有驱动其转动的电机，滚筒上设置有固定板，固定板上设置有凸件，电镀槽上滑移连接有转移装置，转移装置包括吊架，吊架上设置有升降装置，升降装置包括升降连接有在吊架上且与凸件配合驱动固定板升降的吊杆，在完成电镀操作后，可以通过上升吊杆将滚筒从电镀槽中升出，然后通过滑移吊架的位置将其滑移至下料的位置，然后打开盖板即可将电镀好的零件从投料口排出，便于对于滚筒内电镀好零件的取出操作，且工作人员不用手拿镀件，更具安全性。

3、但是该装置缺少均匀镀铜的装置，该装置在实际使用时，会出现镀铜不均匀，镀铜表面凹凸不平的情况，影响工作效率，不仅如此该装置还缺少清洁装置，不能把镀铜过程中产生的杂质过滤，影响后续使用，使再次镀铜的过程中表面吸附上杂质。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种纳米石墨均匀性镀铜设备，以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

3、一种纳米石墨均匀性镀铜设备，

4、镀铜箱，所述镀铜箱两侧开设有槽孔，所述槽孔内部滑动连接有移动杆，所述移动杆一端固定连接有连接块，所述连接块一侧固定连接有伸缩杆，所述伸缩杆一端固定连接有固定杆，所述固定杆外表面套接有移动环，所述移动环外表面卡接有适配块，所述适配块一侧贯穿连接有调节螺栓，所述调节螺栓顶端螺纹连接有调节旋钮，所述适配快底端固定连接有适配夹；

5、所述镀铜箱内底壁固定连接有上下调节柱，所述上下调节柱一侧贯穿连接有滑动块，所述滑动块一端固定连接有过滤箱，所述镀铜箱底端固定连接有底座，所述底座底端固定连接有加固组件。

6、优选的，所述加固组件包括加固块和防滑加固垫，所述底座底端固定连接有加固块，所述加固块外表面套接有防滑加固垫。

7、优选的，所述镀铜箱外表面开设有槽孔，所述槽孔内部固定连接有透明板。

8、优选的，所述适配夹左右两端卡接有防滑垫，所述适配夹上开设有卡槽，所述防滑垫上卡接有与卡槽相适配的卡块。

9、优选的，所述固定杆外表面套接有多个移动环，所述移动环数量不少于两个。

10、优选的，所述镀铜箱外表面贯穿连接有控制杆，所述控制杆一端固定连接于过滤箱。

11、与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

12、1. 该一种纳米石墨均匀性镀铜设备，通过移动杆、连接块、伸缩杆、固定杆、调节螺栓、调节旋钮、适配夹的设置，使用时，工作人员把需要镀铜的物体放置在适配夹中间，通过调节螺栓带动调节旋钮，调节旋钮带动适配夹，通过移动杆带动连接块，连接块带动伸缩杆，伸缩杆带动固定杆，再通过固定杆和适配夹的配合使用，从而达到了均匀镀铜的效果。

13、2. 该一种纳米石墨均匀性镀铜设备，通过镀铜箱、上下调节柱、滑动块、过滤箱的设置，使用时，当镀铜箱内部杂质过多时，通过上下调节柱带动滑动块，滑动块带动过滤箱，再通过过滤箱和镀铜箱的配合使用，从而达到了清洁内部杂质的效果，避免了内部杂质堆积，影响镀铜效果的作用。

技术特征：

1.一种纳米石墨均匀性镀铜设备，其特征在于：包括

2.根据权利要求1所述的一种纳米石墨均匀性镀铜设备，其特征在于：所述加固组件（15）包括加固块（1501）和防滑加固垫（1502），所述底座（14）底端固定连接有加固块（1501），所述加固块（1501）外表面套接有防滑加固垫（1502）。

3.根据权利要求1所述的一种纳米石墨均匀性镀铜设备，其特征在于：所述镀铜箱（1）外表面开设有槽孔，所述槽孔内部固定连接有透明板（16）。

4.根据权利要求1所述的一种纳米石墨均匀性镀铜设备，其特征在于：所述适配夹（10）一侧卡接有防滑垫（17），所述适配夹（10）上开设有卡槽，所述防滑垫（17）上卡接有与卡槽相适配的卡块。

5.根据权利要求1所述的一种纳米石墨均匀性镀铜设备，其特征在于：所述固定杆（5）外表面套接有多个移动环（6），所述移动环（6）数量不少于两个。

6.根据权利要求1所述的一种纳米石墨均匀性镀铜设备，其特征在于：所述镀铜箱（1）外表面贯穿连接有控制杆（18），所述控制杆（18）一端固定连接于过滤箱（13）。

技术总结本技术涉及电镀设备技术领域，具体为一种纳米石墨均匀性镀铜设备，镀铜箱，所述镀铜箱两侧开设有槽孔，所述槽孔内部滑动连接有移动杆，所述移动杆一端固定连接有连接块，所述连接块一侧固定连接有伸缩杆，所述伸缩杆一端固定连接有固定杆，所述固定杆外表面套接有移动环，所述移动环外表面卡接有适配块。本技术通过移动杆、连接块、伸缩杆、固定杆、调节螺栓、调节旋钮、适配夹的设置，使用时，工作人员把需要镀铜的物体放置在适配夹中间，通过调节螺栓带动调节旋钮，调节旋钮带动适配夹，通过移动杆带动连接块，连接块带动伸缩杆，伸缩杆带动固定杆，再通过固定杆和适配夹的配合使用，从而达到了均匀镀铜的效果。技术研发人员：支建明受保护的技术使用者：太仓市金鹿电镀有限公司技术研发日：20231127技术公布日：2024/7/15