生产环形物体的方法、成膜装置、环形物体和硬盘驱动装置与流程

本发明涉及一种通过喷射而在环形物体的整个表面上形成膜来生产该环形物体的方法、成膜装置、环形物体和硬盘驱动装置。

背景技术：

1、随着近年来云计算的扩展，许多硬盘驱动装置(以下也称为hdd装置)用于云数据中心以增加储存容量。

2、在安装在hdd装置中的磁盘之间设置环形间隔物，以便保持磁盘彼此间隔开。这些间隔物的作用是防止磁盘彼此接触，并将磁盘精确地定位在彼此间隔开的预定位置。传统上，具有电导率和低制造成本的金属材料已经用作这些间隔物的材料。顺便提及，当间隔物的材料和磁盘的基板的材料具有不同的线性膨胀系数时(例如，当玻璃基板用作磁盘的基板时)，间隔物和磁盘彼此接触，因此，hdd装置中的温度变化导致间隔物和磁盘之间在热膨胀方面发生差异。结果，磁盘可能翘曲，并且磁头的浮动特性可能劣化。从向hdd装置中的磁盘写入数据和从磁盘读取数据的角度而言，磁头的浮动特性的劣化不是优选的。记录密度越大，该问题的影响越大。

3、因此，近年来，考虑到将玻璃基板用作磁盘的基板的情况(即，为了减小线性膨胀系数之间的差异)或者为了减轻间隔物的重量并增加间隔物的刚性，已经研究了由玻璃制成的间隔物(以下称为“玻璃间隔物”)的使用。然而，玻璃是绝缘体，因此由于高速旋转的磁盘和玻璃间隔物与空气等之间的摩擦，静电很可能积累在磁盘或玻璃间隔物上。这不是优选的，因为如果磁盘或间隔物带电，则异物和微小颗粒可能被吸附到其上，并且磁头的记录元件或再现元件可能由于积累的静电向磁头放电而损坏。

4、为了解决这个问题，已知一种玻璃间隔物，其中至少玻璃间隔物的与磁盘接触的接触表面和玻璃间隔物的内圆周表面涂覆有膜厚度为0.1μm至3μm的导电陶瓷膜(专利文献1)。据描述，这可以有效地使充在磁盘上的静电消散，因此接触表面不太可能被磨损。

5、引用列表

6、专利文献

7、专利文献1：jp h9-44969a

技术实现思路

1、技术问题

2、在生产上述玻璃间隔物时，使用诸如pvd(物理气相沉积)和cvd(化学气相沉积)之类的技术来形成膜。然而，如果采用这种成膜方法，通常存在的问题是不能在间隔物的与保持间隔物的保持构件(支撑构件)接触的部分上形成膜。因此，间隔物的表面的由保持构件保持的部分未被膜覆盖而保持暴露，并且玻璃碎片可能变成微粒并作为灰尘从暴露部分散发。为了完全消除暴露部分，可以从成膜装置中取出已进行过一次成膜的间隔物，并且在利用保持构件保持间隔物的设置有膜的区域的同时进行二次成膜。然而，由于执行了两次成膜，因此存在膜厚度在与保持构件接触的部分和其他部分之间变得不均匀的问题。此外，还存在成膜工艺复杂且制造成本增加的问题。

3、为了解决上述问题而提出本发明，并且本发明的目的在于提供这样的技术，其在生产环形物体的方法中能够提高成膜工艺的生产率，同时抑制环形物体的表面上的膜厚度的不均匀性。

4、问题的解决方案

5、根据本发明的第一方面，提供了一种生产环形物体的方法，该方法包括以下步骤：

6、将环形基板放置在板上；以及

7、从放置在板上的环形基板的上方朝向环形基板的中央孔喷射包含涂覆原料的气体，以使环形基板从板上浮起，并且在环形基板的表面上形成膜。

8、在根据本发明的第一方面的生产环形物体的方法中，板可以是受到加热的板。

9、在根据本发明的第一方面的生产环形物体的方法中，可以多次喷射气体，以重复地使环形基板多次从板上浮起并落在板上。

10、在根据本发明的第一方面的生产环形物体的方法中，包含涂覆原料的气体的喷射压力可以为0.05mpa至1.0mpa。

11、在根据本发明的第一方面的生产环形物体的方法中，环形基板可以由包括玻璃、陶瓷材料、金属或树脂的材料制成。

12、在根据本发明的第一方面的生产环形物体的方法中，膜可以是导电膜或者可以包含导电金属氧化物。

13、在根据本发明的第一方面的生产环形物体的方法中，环形物体可以是硬盘驱动器的间隔物。

14、根据本发明的第二方面，提供了一种生产环形物体的方法，该方法包括以下步骤：

15、加热处理，其将环形基板放置在放置台上以加热环形基板；以及

16、成膜处理，其朝向环形基板喷射包含涂覆原料的气体，以使环形基板从放置台上浮起并且在环形基板的表面上形成膜。

17、根据本发明的第三方面，提供了一种成膜装置，该成膜装置包括：

18、板，在板上放置环形基板；

19、定位构件，其设置在板上以将环形基板定位在板上的预定范围内；以及

20、喷嘴，其设置在板的上方，以朝向由定位构件定位的环形基板的中央孔喷射包含涂覆原料的气体。

21、在根据本发明的第三方面的成膜装置中，定位构件可以是竖立在板上的预定范围之外的至少一个隔离物。

22、根据本发明的第三方面的成膜装置可以包括多个隔离物，并且隔离物当中的两个相邻隔离物可以围绕预定范围彼此间隔开。

23、在根据本发明的第三方面的成膜装置中，突起可以设置在板上，并且在环形基板位于预定范围内的状态下，突起可以从环形基板的中央孔突出。

24、在根据本发明的第三方面的成膜装置中，定位构件可以是设置在板上的突起，并且环形基板可以通过以突起从环形基板的中央孔突出的方式设置在板上而被定位在预定范围内。

25、根据本发明的第三方面的成膜装置还可以包括加热器，其用于加热板。

26、根据本发明的第四方面，提供了一种环形物体，该环形物体包括：

27、环形基板，其具有彼此相对的第一主表面和第二主表面、外周边缘表面和内周边缘表面；以及

28、膜，其形成在环形基板的整个表面上，

29、其中，外周边缘表面上的膜厚度大于内周边缘表面上的膜厚度。

30、在根据本发明的第四方面的环形物体中，第一主表面上的膜厚度和第二主表面上的膜厚度可以大于外周边缘表面上的膜厚度。

31、在根据本发明的第四方面的环形物体中，环形基板可以由包括玻璃、陶瓷材料、金属或树脂的材料制成。

32、在根据本发明的第四方面的环形物体中，膜可以是导电膜或者可以包含导电金属氧化物。

33、根据本发明的第四方面的环形物体可以是硬盘驱动器的间隔物。

34、根据本发明的第五方面，提供了一种硬盘驱动装置，该硬盘驱动装置包括：根据本发明的第四方面的环形物体；磁盘；以及磁头。

35、本发明的有益效果

36、根据本发明，在生产环形物体的方法中，可以提高成膜工艺的生产率，同时抑制环形物体的表面上的膜厚度的不均匀性。

技术特征：

1.一种生产环形物体的方法，所述方法包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的生产环形物体的方法，

3.根据权利要求2所述的生产环形物体的方法，

4.根据权利要求1至3中任一项所述的生产环形物体的方法，

5.根据权利要求1至4中任一项所述的生产环形物体的方法，

6.根据权利要求1至5中任一项所述的生产环形物体的方法，

7.根据权利要求6所述的生产环形物体的方法，

8.根据权利要求1至7中任一项所述的生产环形物体的方法，

9.一种生产环形物体的方法，所述方法包括以下步骤：

10.一种成膜装置，所述成膜装置包括：

11.根据权利要求10所述的成膜装置，

12.根据权利要求11所述的成膜装置，所述成膜装置包括：

13.根据权利要求10至12中任一项所述的成膜装置，所述成膜装置还包括

14.根据权利要求10所述的成膜装置，

15.根据权利要求10至14中任一项所述的成膜装置，所述成膜装置还包括

16.一种环形物体，所述环形物体包括：

17.根据权利要求16所述的环形物体，

18.根据权利要求16或17所述的环形物体，

19.根据权利要求16至18中任一项所述的环形物体，

20.根据权利要求19所述的环形物体，

21.根据权利要求16至20中任一项所述的环形物体，其中，所述环形物体是硬盘驱动器的间隔物。

22.一种硬盘驱动装置，所述硬盘驱动装置包括：

技术总结生产环形物体(1)的该方法包括以下步骤：将环形基板(20)放置在板(11)上；以及从放置在板(11)上的环形基板(20)的上方向环形基板(20)的中央处的孔喷射包含涂覆原料的气体，以使环形基板(20)从板(11)上浮起，并且在环形基板(20)的表面上形成膜(22)。技术研发人员：三浦正文,桥本和明受保护的技术使用者：豪雅株式会社技术研发日：技术公布日：2024/1/15