一种台式匀胶机的辅助定位装置的制作方法

本技术涉及匀胶机，具体为一种台式匀胶机的辅助定位装置。

背景技术：

1、匀胶机是在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上的设备，膜的厚度取决于匀胶机的转速和溶胶的黏度。

2、现有的匀胶机包括机体、控制面板、溢胶锅、玻璃盖、提手与旋转台，旋转台在驱动电机的控制下高速旋转，旋转台的中心处还设置有吸附孔，吸附孔与真空泵连通，用于对基片的吸附，使其在高速旋转时不会脱离，增加匀胶机的使用效果。

3、对于上述技术条件，还存在有缺陷：上述匀胶机用的旋转台上只有轴心处设置有一个吸附孔，在基片旋转时，靠一个吸附孔从中心吸附的效果不够良好，同时缺少对基片的旋转方向进行支撑。

4、基于此，本实用新型设计了一种台式匀胶机的辅助定位装置，以解决上述问题。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种台式匀胶机的辅助定位装置，以解决上述技术问题。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种台式匀胶机的辅助定位装置，包括机体，所述机体的内部设有真空泵，所述机体的一侧设置有控制面板，所述机体的顶部设置有溢胶锅，所述溢胶锅上设置有玻璃盖，所述玻璃盖上固定连接有提手，所述机体的内部设置有驱动电机，所述驱动电机的输出轴上设置有旋转台，所述旋转台上设置有基片，所述旋转台的内部还设置有主吸附孔，所述旋转台上且位于主吸附孔的两侧还设置有辅吸附孔，所述旋转台上还设置有两组限位块。

3、通过采用上述技术方案，能够增加旋转台上基片的吸附效果，从而使得基片旋转效果更好。

4、优选的，两组所述限位块分别位于旋转台上的两侧。

5、通过采用上述技术方案，能够增加基片的旋转方向上的支撑效果，降低吸附孔的负载。

6、优选的，所述旋转台上且位于两组限位块的下方均开设有定位槽，所述旋转台上且位于定位槽的内部转动连接有丝杆，所述丝杆与限位块的底部之间为螺纹连接。

7、通过采用上述技术方案，方便对于限位块的位置进行调节，从而能够适用于不同宽度的基片。

8、优选的，所述丝杆的一端贯穿旋转台且固定连接有旋钮。

9、通过采用上述技术方案，方便转动丝杆。

10、优选的，所述主吸附孔、两组辅吸附孔均与机体内部的真空泵连通。

11、通过采用上述技术方案，能够对于基片进行更好的吸附。

12、优选的，所述玻璃盖与溢胶锅的连接处设置有密封圈。

13、通过采用上述技术方案，能够增加其的密封效果。

14、综上所述，本申请具有以下有益技术效果：通过设置的两组限位块，能够对基片旋转时对其进行支撑，从而减小主吸附孔的负载，进而增加吸附的稳定性，再通过设置的丝杆与旋钮，能够对于限位块的位置进行调节，使其能够适用于不同宽度的基片，增加使用的效果。

技术特征：

1.一种台式匀胶机的辅助定位装置，包括机体(1)，所述机体(1)的内部设有真空泵，所述机体(1)的一侧设置有控制面板(2)，所述机体(1)的顶部设置有溢胶锅(3)，所述溢胶锅(3)上设置有玻璃盖(4)，所述玻璃盖(4)上固定连接有提手(5)，其特征在于：所述机体(1)的内部设置有驱动电机，所述驱动电机的输出轴上设置有旋转台(6)，所述旋转台(6)上设置有基片(7)，所述旋转台(6)的内部还设置有主吸附孔(8)，所述旋转台(6)上且位于主吸附孔(8)的两侧还设置有辅吸附孔(9)，所述旋转台(6)上还设置有两组限位块(12)。

2.根据权利要求1所述的一种台式匀胶机的辅助定位装置，其特征在于：两组所述限位块(12)分别位于旋转台(6)上的两侧。

3.根据权利要求1所述的一种台式匀胶机的辅助定位装置，其特征在于：所述旋转台(6)上且位于两组限位块(12)的下方均开设有定位槽(10)，所述旋转台(6)上且位于定位槽(10)的内部转动连接有丝杆(11)，所述丝杆(11)与限位块(12)的底部之间为螺纹连接。

4.根据权利要求3所述的一种台式匀胶机的辅助定位装置，其特征在于：所述丝杆(11)的一端贯穿旋转台(6)且固定连接有旋钮(13)。

5.根据权利要求1所述的一种台式匀胶机的辅助定位装置，其特征在于：所述主吸附孔(8)、两组辅吸附孔(9)均与机体(1)内部的真空泵连通。

6.根据权利要求1所述的一种台式匀胶机的辅助定位装置，其特征在于：所述玻璃盖(4)与溢胶锅(3)的连接处设置有密封圈。

技术总结本技术公开了一种台式匀胶机的辅助定位装置，属于匀胶机技术领域，包括机体，所述机体的内部设有真空泵，所述机体的一侧设置有控制面板，所述机体的顶部设置有溢胶锅，所述溢胶锅上设置有玻璃盖，所述玻璃盖上固定连接有提手，所述机体的内部设置有驱动电机，所述驱动电机的输出轴上设置有旋转台，所述旋转台上设置有基片，所述旋转台的内部还设置有主吸附孔，本技术，通过设置的两组限位块，能够对基片旋转时对其进行支撑，从而减小主吸附孔的负载，进而增加吸附的稳定性，再通过设置的丝杆与旋钮，能够对于限位块的位置进行调节，使其能够适用于不同宽度的基片，增加使用的效果。技术研发人员：王旭亮受保护的技术使用者：厦门徕泽丰科技有限公司技术研发日：20240102技术公布日：2024/8/27