一种自动化上料的基片清洗烘干装置的制作方法

本发明涉及基片清洗，具体的，涉及一种自动化上料的基片清洗烘干装置。

背景技术：

1、基片清洗烘干是半导体、光电子、微电子、平板显示等行业中至关重要的生产工艺环节，主要用于清除基片表面的杂质、微粒、有机物和金属离子，确保基片的高洁净度，以满足后续工艺的严格要求，清洗后的基片需要进行烘干，以去除表面和微孔隙中的水分，防止水渍和氧化。现有的基片清洗和烘干通常分为两个单独的工序，在基片清洗完毕后，需要用转运装置转移到烘干箱内，在转运的过程中，基片表面容易受到空气中灰尘的污染，影响基片的清洁度。

2、因此，需要一种在基片清洗完成后不需要转运基片即可实现基片烘干功能的装置。

技术实现思路

1、本发明提出一种自动化上料的基片清洗烘干装置，解决了相关技术中的在基片清洗完毕后，需要用转运装置转移到烘干箱内，在转运的过程中，基片表面容易受到空气中灰尘的污染的问题。

2、本发明的技术方案如下：

3、一种自动化上料的基片清洗烘干装置，用清洗液对基片进行清洗，包括：

4、机箱，具有容纳槽；

5、清洗池，滑动设置于所述容纳槽内，所述清洗池具有清洗槽；

6、提升件，设置于所述机箱上；

7、基片放置架，设置于所述提升件上，所述提升件用于带动所述基片放置架进入或离开所述清洗池，所述基片放置架具有插槽，所述基片可拆卸设置于所述插槽内；

8、通风盖板，滑动设置于所述机箱上，所述通风盖板用于遮挡所述容纳槽，所述通风盖板具有出风通道，所述出风通道用于向所述容纳槽内输送热风。

9、优选的，还包括：

10、导轨，设置于所述机箱上；

11、滑动座，滑动设置于所述导轨上，所述滑动座具有承载面，所述清洗池设置于所述承载面上；

12、驱动件，设置于所述机箱上，所述驱动件具有驱动端，所述滑动座设置于所述驱动端上，所述驱动件用于驱动所述滑动座沿所述导轨直线往复移动。

13、优选的，所述清洗槽具有进水口，所述容纳槽具有出水口，还包括：

14、注液箱，设置于所述机箱内；

15、注液软管，一端与所述注液箱连通，另一端与所述进水口连通，所述注液箱用于向所述清洗槽内提供所述清洗液。

16、优选的，还包括：

17、支撑板，设置于所述清洗槽内，所述支撑具有通槽，所述支撑板将所述清洗槽分为放置区和液流区，所述进水口位于所述液流区内；

18、立柱，设置于所述支撑板上，所述立柱位于所述放置区内；

19、所述基片放置架包括：

20、底板，具有连接孔，所述底板通过所述连接孔滑动设置于所述立柱上；

21、把手，设置于所述底板上，所述把手可拆卸设置于所述提升件上。

22、优选的，所述承载面上具有限位槽，还包括：

23、固定座，设置于所述滑动座上且位于所述限位槽底部，所述固定座具有凸起；

24、转轴，一端转动设置于所述容纳槽内，另一端转动且滑动设置于所述固定座上，所述转轴依次贯穿所述限位槽和所述清洗槽，所述转轴周向侧壁上具有螺旋导槽，所述凸起一端滑动抵接于所述螺旋导槽内，所述凸起沿所述螺旋导槽滑动后，驱动所述转轴转动；

25、扰流叶片，设置于所述转轴伸入所述清洗槽的一端，所述扰流叶片用于搅动所述清洗槽内的清洗液。

26、优选的，还包括：

27、热风机，设置于所述机箱内，所述出风通道与所述热风机连通；

28、动力件，设置于所述机箱上，所述通风盖板设置于所述动力件上，所述动力件用于驱动所述通风件关闭或打开。

29、优选的，所述提升件包括：

30、支架，滑动设置于所述机箱上；

31、丝杆电机，设置于所述支架上；

32、液压杆，设置于所述丝杆电机上；

33、连接块，具有卡槽，所述把手可拆卸设置于所述卡槽内，所述通风盖板具有第一凹槽，所述液压杆经所述第一凹槽进入所述清洗槽内。

34、优选的，所述基片放置架包括：

35、框架；

36、固定杆，具有若干个，若干个所述固定杆间隔设置于所述框架内，相邻两所述固定杆之间留有间隙，所述插槽间隔设置于所述固定杆上，所述基片卡接于相邻两所述固定杆的插槽内。

37、优选的，所述通风盖板还具有第二凹槽，所述滑动座滑动设置于所述第二凹槽内，所述滑动座将所述第二凹槽进入所述清洗槽内。

38、优选的，所述驱动件包括：

39、驱动器，设置于所述机箱内；

40、圆盘，设置于所述驱动器上；

41、第一连杆，一端偏心铰接于所述圆盘上；

42、横杆，滑动设置于所述导轨上，所述滑动座设置于所述横杆上，所述第一连杆的另一端铰接于所述横杆上。

43、本发明的工作原理及有益效果为：

44、本发明中的基片放置于放置架的插槽内，放置架浸入清洗池的清洗液中进行清洗。清洗完成后，提升件提拉放置架缓慢上升或间隙上升，防止基片上残留水渍，直至基片完全离开清洗液。在基片放置架缓慢或间歇上升的过程中，通风盖板的出风通道开启，热风进入容纳槽，对基片进行烘干，直至基片完全干燥。整个过程无需人工介入，避免了转运过程中的二次污染。本发明的自动化上料基片清洗烘干装置，通过集成清洗与烘干功能，有效避免了基片在转运过程中的二次污染，提高了基片的清洁度。

技术特征：

1.一种自动化上料的基片清洗烘干装置，用清洗液对基片(17)进行清洗，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种自动化上料的基片清洗烘干装置，其特征在于，还包括：

3.根据权利要求1所述的一种自动化上料的基片清洗烘干装置，其特征在于，所述清洗槽(301)具有进水口(302)，所述容纳槽(2)具有出水口(201)，还包括：

4.根据权利要求3所述的一种自动化上料的基片清洗烘干装置，其特征在于，还包括：

5.根据权利要求2所述的一种自动化上料的基片清洗烘干装置，其特征在于，所述承载面(701)上具有限位槽(22)，还包括：

6.根据权利要求1所述的一种自动化上料的基片清洗烘干装置，其特征在于，还包括：

7.根据权利要求4所述的一种自动化上料的基片清洗烘干装置，其特征在于，所述提升件(4)包括：

8.根据权利要求1所述的一种自动化上料的基片清洗烘干装置，其特征在于，所述基片放置架(16)包括：

9.根据权利要求2所述的一种自动化上料的基片清洗烘干装置，其特征在于，所述通风盖板(5)还具有第二凹槽(502)，所述滑动座(7)滑动设置于所述第二凹槽(502)内，所述滑动座(7)将所述第二凹槽(502)进入所述清洗槽(301)内。

10.根据权利要求2所述的一种自动化上料的基片清洗烘干装置，其特征在于，所述驱动件(9)包括：

技术总结本发明涉及基片清洗技术领域，提出了一种自动化上料的基片清洗烘干装置，用清洗液对基片进行清洗，包括：机箱，具有容纳槽；清洗池，滑动设置于容纳槽内，清洗池具有清洗槽；提升件，设置于机箱上；基片放置架，设置于提升件上，提升件用于带动基片放置架进入或离开清洗池，基片放置架具有插槽，基片可拆卸设置于插槽内；通风盖板，滑动设置于机箱上，通风盖板用于遮挡容纳槽，通风盖板具有出风通道，出风通道用于向容纳槽内输送热风。通过上述技术方案，解决了相关技术中在基片清洗完毕后，需要用转运装置转移到烘干箱内，在转运的过程中，基片表面容易受到空气中灰尘的污染的问题。技术研发人员：袁庆祝,常丽敏,荆学顺,李剑,单雅萍,齐雪娇受保护的技术使用者：唐山万士和电子有限公司技术研发日：技术公布日：2024/9/12