方向性电磁钢板及其制造方法与流程

本公开涉及方向性电磁钢板及其制造方法。本申请基于2022年3月28日提出的日本专利申请第2022-052345号主张优先权，在此引用其内容。

背景技术：

1、方向性电磁钢板是含有7质量％以下的si、具有二次再结晶粒向{110}<001>取向(goss取向、即高斯取向)集聚得到的二次再结晶集合组织的钢板。方向性电磁钢板主要被用作电力用变压器的铁芯，除了要求能量损失(铁损)的减小以外，低噪声化的需求也在变高。

2、为了低铁损化，以前已知有在相对于方向性电磁钢板的表面在与轧制方向交叉的方向上照射激光或电子束而使磁畴宽度变窄的磁畴细分化技术。近年来，为了提供铁损特性良好的方向性电磁钢板，提出了关于磁畴细分化的各种的改良技术(例如，参照专利文献1～专利文献5)。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1：日本特开2012-57219号公报

6、专利文献2：日本特开2012-12664号公报

7、专利文献3：日本特开2012-77380号公报

8、专利文献4：日本特开2012-126973号公报

9、专利文献5：日本特许第3148092号公报

10、专利文献6：国际公开第2016/056501号

11、专利文献7：国际公开第2013-160955号

12、专利文献8：日本特开2015-206114号公报

13、专利文献9：日本特开2012-57219号公报

技术实现思路

1、发明要解决的课题

2、但是，如果对方向性电磁钢板实施磁畴细分化处理，则由于回流磁畴而磁致伸缩特性发生变化，发生变压器的噪声增大这样的问题。这样，由于方向性电磁钢板的低铁损化与低噪声化处于权衡的关系，所以要求两者能够兼顾的最优的磁畴细分化技术。在专利文献1～专利文献9的任一个中都没有公开能够不使噪声增大地降低铁损的磁畴细分化处理方法。本申请发明人想到，由于在磁畴细分化处理前的方向性电磁钢板中磁畴宽度及β角不均匀，所以仅对特定的部位实施磁畴细分化处理是有效的。但是，这样的磁畴细分化处理方法在任一专利文献中都没有公开。

3、本公开的目的是提供一种能够兼顾低铁损化和低噪声化的方向性电磁钢板及其制造方法。

4、用来解决课题的手段

5、(1)有关本发明的一技术方案的方向性电磁钢板，在方向性电磁钢板的表面中，相对于轧制直角方向成0°～45°的角度并且在轧制方向上排列的磁畴控制处理线的总延长线中，存在具有5μm～50μm的深度及10μm～300μm的宽度的槽的部分所占的比例即槽存在比例在β角是1°以下的区域即第1区域中为50％以上，上述β角是绕轧制直角方向的轴的结晶粒的从goss取向即高斯取向偏离的偏离角；上述槽存在比例在上述β角超过2°的区域即第2区域中小于50％。

6、(2)优选的是，在上述(1)所记载的方向性电磁钢板中，上述槽存在比例在上述β角超过1°且2°以下的区域即第3区域中为20％以上80％以下；上述第1区域的上述槽存在比例≥上述第3区域的上述槽存在比例≥上述第2区域的上述槽存在比例。

7、(3)优选的是，在上述(1)或(2)所记载的方向性电磁钢板中，具有5μm～50μm的深度及10μm～300μm的宽度的上述槽在轧制方向上以1～20mm的间隔而存在。

8、(4)有关本发明的另一技术方案的方向性电磁钢板的制造方法包括：图像取得步骤，取得方向性电磁钢板的磁畴图像；决定步骤，基于磁畴图像的磁畴宽度的空间分布、以及绕轧制直角方向的轴的结晶粒的从goss取向即高斯取向偏离的偏离角即β角，在相对于方向性电磁钢板的轧制直角方向成0°～45°的角度并且在轧制方向上排列的磁畴控制处理线中决定形成具有5μm～50μm的深度及10μm～300μm的宽度的槽的部位；以及槽形成步骤，在磁畴控制处理线中在由决定步骤所决定的部位处形成槽。

9、(5)优选的是，在上述(4)所记载的方向性电磁钢板的制造方法中，上述决定步骤在上述磁畴控制处理线中将上述β角为1°以下的部位决定为形成上述槽的部位。

10、(6)优选的是，在上述(4)或(5)所记载的方向性电磁钢板的制造方法中，上述决定步骤使用二维傅里叶变换，从上述磁畴图像导出上述磁畴宽度的空间分布。

11、发明效果

12、根据有关本发明的实施方式的方向性电磁钢板，能够兼顾低铁损化和低噪声化。

13、根据有关本发明的实施方式的方向性电磁钢板的制造方法，能够提供兼顾了低铁损化和低噪声化的方向性电磁钢板。

技术特征：

1.一种方向性电磁钢板，

2.如权利要求1所述的方向性电磁钢板，

3.如权利要求1或2所述的方向性电磁钢板，其特征在于，

4.一种方向性电磁钢板的制造方法，

5.如权利要求4所述的方向性电磁钢板的制造方法，

6.如权利要求4或5所述的方向性电磁钢板的制造方法，

技术总结在方向性电磁钢板的表面中，在相对于轧制直角方向成0°～45°的角度并且在轧制方向上排列的磁畴控制处理线的总延长线中，存在具有5μm～50μm的深度及10μm～300μm的宽度的槽的部分即槽形成线所占的比例即槽存在比例在β角为1°以下的区域即第1区域中为50％以上，槽存在比例在β角超过2°的区域即第2区域中小于50％，所述β角是绕轧制直角方向的轴的结晶粒的从Goss取向偏离的偏离角。技术研发人员：川村悠祐受保护的技术使用者：日本制铁株式会社技术研发日：技术公布日：2024/9/17