一种半导体硅片酸腐蚀机的循环清洗装置及其使用方法与流程

本发明涉及半导体清洗，具体是涉及一种半导体硅片酸腐蚀机的循环清洗装置及其使用方法。

背景技术：

1、硅片是半导体集成电路制作所用的硅晶片，在硅晶片上可以加工成各种电路元件结构，而硅片半导体生产加工过程中，为了使硅片半导体的表面洁净度达到工艺要求，几乎每道工序完成后都需要对硅片半导体进行冲洗，而且集成电路的集成度越高，加工工序就越多，清洗的次数就越多。

2、中国专利公开了一种半导体晶圆生产用清洗装置cn202023205836.5，包括水箱、滑套、顶架和滤板，所述水箱外部一侧的底端设置有排水阀，且水箱内部顶端的两侧皆固定连接有放置板，所述水箱的顶端设置有顶架，且顶架底端的中间位置固定连接有连接箱，所述顶架底端的两侧皆滑动连接有滑套，所述水箱外部一侧的中间位置安装有控制面板。本发明通过在连接齿轮的一侧活动连接的半齿轮，电机可以带动连接齿轮转动，则连接齿轮可以带动半齿轮转动，使半齿轮可以带动双向喷头进行转动，使其喷水位置得到调节，当连接齿轮与半齿轮的无齿部分接触时，则双向喷头停止转动，如此循环可以实现双向喷头间断性角度的调节，则可以实现喷水角度不断的调节，提高了清洗效率。

3、因此可看出，上述装置在对晶圆半导体进行加工清洗时，通常现将晶圆半导体进行夹紧固定，但是当需要对晶圆半导体的另一面进行冲洗时，还需要将晶圆半导体的固定解除，然后重新固定再进行冲洗，操作十分的麻烦，大大增加了工人的劳动强度。

技术实现思路

1、为解决上述技术问题，提供一种半导体硅片酸腐蚀机的循环清洗装置及其使用方法，本技术方案解决了上述背景技术中提出的当需要对晶圆半导体的另一面进行冲洗时，还需要将晶圆半导体的固定解除，然后重新固定再进行冲洗，操作十分麻烦的问题。

2、为达到以上目的，本发明采用的技术方案为：

3、一种半导体硅片酸腐蚀机的循环清洗装置，包括：

4、底座，所述底座的顶端左右两侧分别通过螺栓固定连接有框架和支撑板，所述底座的顶端中部贯穿开设有进水槽；

5、推进机构，所述推进机构安装于框架的内部；

6、翻转机构，所述翻转机构设置在支撑板的右侧，用于对夹持的半导体进行翻面；

7、夹持机构，所述夹持机构设置有两组，一组所述夹持机构连接在推进机构上，另一组所述夹持机构安装在翻转机构上；

8、冲洗机构，所述冲洗机构固定安装于底座的顶端后侧，用于对半导体进行冲洗；

9、收集机构，所述收集机构固定连接在底座的顶端中部，用于收集清洗后的半导体。

10、优选的，所述推进机构包括第一螺纹杆、第一活动件、第二活动件、推进板、第一连接臂和第二连接臂，所述第一螺纹杆转动连接在框架内部靠近左侧的位置处，所述第一螺纹杆两端开设的螺纹旋向相反，且所述第一活动件和第二活动件分别螺纹连接于第一螺纹杆的两端，所述推进板的左侧焊接有滑轨，所述滑轨的前后两端分别滑动连接有第一滑动件和第二滑动件，所述第一连接臂的一端转动连接于第一活动件的内部，所述第一连接臂的另一端转动连接于第二滑动件的内部，且所述第二活动件的内部转动连接有第二连接臂，所述第二连接臂远离第二活动件的一端转动连接在第一滑动件的内部，所述推进板的右侧中部固定安装有连接杆，且所述连接杆远离推进板的一端与一组所述夹持机构固定连接。

11、优选的，所述翻转机构包括转动杆、从动齿轮和驱动齿轮，所述支撑板的内部通过轴承转动连接有转动杆，所述转动杆的一端与另一组所述夹持机构固定连接，且所述转动杆的另一端固定安装有从动齿轮，所述支撑板的右侧靠近底端的位置处转动连接有驱动齿轮，所述驱动齿轮通过齿轮传送带与驱动齿轮传动连接，所述驱动齿轮的右侧中部固定连接在驱动电机的输出端，所述驱动电机通过电机安装板固定安装在底座的顶端右侧。

12、优选的，所述夹持机构包括固定框，所述连接杆和转动杆相互靠近的一端均固定连接有固定框，所述固定框内部的中间位置处转动连接有第二螺纹杆，所述第二螺纹杆的两端开设的螺纹旋向相反，且所述第二螺纹杆的两端分别螺纹连接有第一夹持板和第二夹持板，所述第一夹持板和第二夹持板相互靠近的一侧均安装有橡胶垫，所述固定框的内部还固定安装有两组固定杆，两组所述固定杆分别位于第二螺纹杆的两侧，且所述第一夹持板和第二夹持板均滑动连接于固定杆的表面，所述固定框的顶端固定安装有防护框，所述防护框的内部固定连接有步进电机，所述第二螺纹杆的一端固定连接在步进电机的输出端。

13、优选的，所述冲洗机构包括l型板，所述l型板焊接在底座的顶端后侧，所述l型板的横板底端固定安装有喷头，所述框架的顶端中部固定安装有循环泵，所述底座的底端与进水槽相对应的位置处设置有水箱，所述水箱、循环泵和喷头均通过水管依次连通。

14、优选的，所述收集机构包括固定块，所述底座的顶端前后两侧均通过螺栓固定连接有两组固定块，左右两侧所述固定块之间转动连接有丝杆，所述丝杆的一端贯穿左侧所述固定块的内侧，并固定连接有第一锥齿轮，所述丝杆的外表面上螺纹连接有活动块，两组所述活动块之间固定安装有收集箱。

15、优选的，所述收集机构还包括双轴电机，所述双轴电机固定安装在底座的顶端，所述双轴电机的两输出端均固定连接有转轴，所述转轴远离双轴电机输出端的一端固定安装有与第一锥齿轮啮合的第二锥齿轮，所述转轴转动连接在固定板的内部，且所述固定板的底端固定连接于底座的顶端。

16、优选的，所述框架内部靠近左侧的位置处还固定连接有导向轨，所述第一活动件和第二活动件均滑动连接在导向轨的表面，所述框架的前侧固定安装有伺服电机，所述第一螺纹杆的一端固定连接在伺服电机的输出端。

17、优选的，所述框架内部的前后两侧均开设有滑槽，所述推进板的前后两侧均固定安装有与滑槽相适配的滑块，且所述滑块滑动连接于滑槽的内部，所述滑轨的两侧均固定连接有限位板。

18、一种半导体硅片酸腐蚀机的循环清洗装置的使用方法，包括：

19、s1：将半导体的右侧固定在右侧的夹持机构内，其次通过伺服电机的输出端带动第一螺纹杆转动，使得第一活动件和第二活动件相互远离，进而第一滑动件和第二滑动件相互远离，使得推进板向右侧运动，带动左侧的夹持机构向右侧运动，接着左侧的夹持机构对半导体的左侧进行夹持固定；

20、s2：清洗机构对半导体的正面进行清洗，接着通过驱动电机的输出端带动驱动齿轮转动，驱动齿轮通过齿轮传送带带动驱动齿轮转动，使得转动杆转动，从而实现对半导体进行翻转，再通过清洗机构对半导体的反面进行清洗；

21、s3：通过通双轴电机的两输出端均可带动两组转轴同步转动，使得两组第二锥齿轮均同步转动，带动两组第一锥齿轮均同步转动，使得两组丝杆均同步转动，带动收集箱水平向右侧运动，解除对半导体的夹持，半导体落入下方的收集箱中对半导体收集。

22、与现有技术相比，本发明提供了一种可循环利用水资源的半导体生产用清洗装置及其使用方法，具备以下有益效果：

23、1、本发明设置有夹持机构，通过步进电机的输出端带动第二螺纹杆转动，使得第一夹持板和第二夹持板相互靠近或者远离，从而便于对半导体进行夹持固定或者解除夹持。

24、2、本发明其次设置有翻转机构，通过驱动电机的输出端带动驱动齿轮转动，驱动齿轮通过齿轮传送带带动驱动齿轮转动，使得转动杆转动，从而实现对夹持固定的半导体进行翻转。

25、3、本发明还设置有收集机构，通过双轴电机的两输出端均可带动两组转轴同步转动，使得两组第二锥齿轮均同步转动，带动两组第一锥齿轮均同步转动，使得两组丝杆均同步转动，带动收集箱水平向右侧运动，解除对半导体的夹持，半导体落入下方的收集箱中对半导体收集。

26、综上所述，本发明在对半导体的另一面进行冲洗时，不需要将半导体的固定解除，然后重新固定再进行冲洗，方便快捷，极大地降低了工人的劳动强度，满足了工作人员的需求。