光学层叠体、透镜部及显示方法与流程

本发明涉及光学层叠体、透镜部及显示方法。

背景技术：

1、以液晶显示装置及场致发光(el)显示装置(例如，有机el显示装置)为代表的图像显示装置正在迅速普及。在图像显示装置中，为了实现图像显示、提高图像显示的性能，一般使用偏振构件、相位差构件等光学构件(例如，参照专利文献1)。

2、近年来，开发出了图像显示装置的新用途。例如，用于实现virtual reality(虚拟现实，vr)的带显示器的护目镜(vr护目镜)已开始产品化。由于vr护目镜在各种场景下的利用已得到了研究，因此，期望其轻质化、视觉辨认性的提高等。轻质化例如可以通过将用于vr护目镜的透镜薄型化来实现。另一方面，也期望开发出适于使用了薄型透镜的显示系统的光学构件。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1：日本特开2021-103286号公报

技术实现思路

1、发明所要解决的问题

2、鉴于上述情况，本发明的主要目的在于提供能够实现vr护目镜的轻质化、视觉辨认性的提高的光学层叠体。

3、解决问题的方法

4、1.本发明的实施方式的光学层叠体具备具有基材和表面处理层的层叠膜、和相位差构件，上述层叠膜的基材与上述相位差构件相邻地配置，上述相位差构件依次包含第一相位差层、粘接剂层以及第二相位差层，上述粘接剂层的厚度为0.5μm以上且1.3μm以下。

5、2.上述1所述的光学层叠体的层叠体平滑性可以为0.7arcmin以下。

6、3.在上述1或2所述的光学层叠体中，上述粘接剂层可以为树脂的固化层。

7、4.在上述1～3中任一项所述的光学层叠体中，上述层叠膜的表面平滑性可以为0.5arcmin以下。

8、5.在上述1～4中任一项所述的光学层叠体中，上述层叠膜的上述基材可以包含(甲基)丙烯酸类树脂。

9、6.在上述1～5中任一项所述的光学层叠体中，上述层叠膜的上述表面处理层可以具有防反射功能。

10、7.在上述1～6中任一项所述的光学层叠体中，上述第一相位差层可以显示出nx＞ny≥nz的折射率特性，可以满足re(450)＜re(550)＜re(650)的关系。

11、8.在上述1～7中任一项所述的光学层叠体中，上述第二相位差层可以显示出nz＞nx≥ny的折射率特性。

12、9.上述1～8中任一项所述的光学层叠体的可见度修正单体透射率的y值可以为93％以上。

13、10.本发明的实施方式的透镜部用于对使用者显示图像的显示系统，其中，上述透镜部具备：

14、反射型偏振构件，其将从显示图像的显示元件的显示面朝向前方出射、并在偏振构件及第1λ/4构件通过后的光反射；

15、第一透镜部，其配置于上述显示元件与上述反射型偏振构件之间的光路上；

16、半反射镜，其配置于上述显示元件与上述第一透镜部之间，使从上述显示元件出射的光透过，并使在上述反射型偏振构件进行了反射后的光朝向上述反射型偏振构件进行反射；

17、第二透镜部，其配置于上述反射型偏振构件的前方；以及

18、上述1～9中任一项所述的光学层叠体，该光学层叠体配置于上述半反射镜与上述反射型偏振构件之间的光路上。

19、11.本发明的实施方式的显示方法具有：

20、使经由偏振构件及第1λ/4构件而出射的显示图像的光在半反射镜及第一透镜部通过的步骤；

21、使在所述半反射镜及所述第一透镜部通过后的光在上述1～9中任一项所述的光学层叠体通过的步骤；

22、使在所述光学层叠体通过后的光在反射型偏振构件朝向所述半反射镜反射的步骤；

23、使在所述反射型偏振构件及所述半反射镜进行了反射后的光能够通过所述光学层叠体在所述反射型偏振构件透过的步骤；以及

24、使在所述反射型偏振构件透过后的光通过第二透镜部的步骤。

25、发明的效果

26、根据本发明的实施方式的光学层叠体，能够实现vr护目镜的轻质化、视觉辨认性的提高。

技术特征：

1.一种光学层叠体，其具备：

2.根据权利要求1所述的光学层叠体，其层叠体平滑性为0.7arcmin以下。

3.根据权利要求1所述的光学层叠体，其中，

4.根据权利要求1所述的光学层叠体，其中，

5.根据权利要求1所述的光学层叠体，其中，

6.根据权利要求1所述的光学层叠体，其中，

7.根据权利要求1所述的光学层叠体，其中，

8.根据权利要求1所述的光学层叠体，其中，

9.根据权利要求1所述的光学层叠体，其可见度修正单体透射率的y值为93％以上。

10.一种透镜部，其用于对使用者显示图像的显示系统，

11.一种显示方法，该方法具有：

技术总结本发明提供能够实现VR护目镜的轻质化、视觉辨认性的提高的光学层叠体。本发明的实施方式的光学层叠体具备具有基材和表面处理层的层叠膜(31)、和相位差构件(22)，上述层叠膜的基材与上述相位差构件相邻地配置，上述相位差构件依次包含第一相位差层(22a)、粘接剂层(50)以及第二相位差层(22b)，上述粘接剂层的厚度为0.5μm以上且1.3μm以下。技术研发人员：小岛理,北野康平,后藤周作受保护的技术使用者：日东电工株式会社技术研发日：技术公布日：2024/11/4