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封装产品切割后焊接面残胶的清理方法与流程

  • 国知局
  • 2024-11-19 09:42:39

本申请涉及封装产品加工技术,具体涉及一种封装产品切割后焊接面残胶的清理方法。

背景技术:

1、qfn的封装产品,通常情况下为一面塑封平面材料,一面的线路板焊接引脚,在塑封后由单颗产品阵列组成一个大的联合单元,该单元经过切割刀切割成一颗颗单颗产品,切割时将平面的塑封体面贴在uv膜上,露出焊接面,切割过程中采用了树脂刀片,刀片高速转动,同时转动切入的刀刃喷入大量水进行冷却与切割碎屑的冲洗,切割完成后在设备里面对切割产品面进行高压水冲洗,吹扫,进一步去除切割残渣,由于常规的qfn塑封体面是一个平面,大量切削水在切割过程中直接喷在焊接面,使得切割塑封残渣与切入uv膜划下的uv胶水即刻被大量的水冲走,所以较少对焊接面产生沾污。

2、但是对于一些qfn封装中,特别是诸如mems产品,塑封体上为了实现实际应用中加压冲击等效果,会在塑封体面建立凸点或者直接贴上铁片凸起,使得塑封体面不再光滑,当塑封面上的凸起大于100um时候,对于本身单颗的封装体只有2*2mm长宽、1mm的厚度时候,如果保持切割时候的贴膜在塑封体上,就会在切割时候由于uv膜胶层厚度不足造成粘力不够,切割时候的晃动造成切割不良品,比如切割在垂直方向不再垂直,或者贴膜过后产品剥离困难等情况,所以通常会采用焊接面贴在uv膜那一面,由此,在切割过程中,切割水、塑封残渣、uv胶混合物会在每分钟2万多转的高速下,高速喷在封闭的焊接腔内,造成这些混合物较牢固地黏附在焊接面上,常规的超声加丙酮的方式很难除去焊接面上的混合物,从而使得产品的焊接面由于较重的沾污影响后面的测试、上板焊接功能,造成了大量的不良品。

技术实现思路

1、为了克服上述缺陷,本申请提供一种封装产品切割后焊接面残胶的清理方法,该清理方法能够有效去除产品上顽固的残胶,简单可行,避免了由于残胶造成产品大量不良的情况发生。

2、本申请为了解决其技术问题所采用的技术方案是:

3、一种封装产品切割后焊接面残胶的清理方法,包括如下步骤:

4、贴膜环的制作:利用uv贴膜机将uv膜贴合于金属环上形成贴膜环;

5、散落产品:将切割后的小颗粒产品散落在防静电桌面上,将产品待清洗的相对面定义为第一面和第二面,并将产品贴合于桌面的那一面定义为第一面;

6、粘黏产品:利用贴膜环上uv膜有胶面覆盖在产品的第二面上,用滚轮滚压,使得产品粘在uv膜上,翻转贴膜环使产品的第一面朝上;

7、第一面擦洗:利用沾有酒精的无纺布或无尘棉签直接擦洗产品的第一面,将产品的第一面擦洗干净;

8、uv膜解胶:利用uv解胶机对粘有产品的uv膜进行解胶;

9、第二面擦拭:利用贴膜环上新的uv膜有胶面覆盖在产品的第一面上,用滚轮滚压,使产品的第一面粘黏在uv膜上,并撕掉解胶后的uv膜,利用沾有酒精的无纺布或无尘棉签直接擦洗产品的第二面,将产品的第二面擦洗干净;

10、剥离产品:再次利用uv解胶机对贴膜环上uv膜进行解胶,并剥离产品,从而完成产品的整个清洗过程。

11、可选地,在所述散落产品的步骤中,将空的金属环放置于防静电桌面上,并将产品散落在金属环的空旷区域,使产品摊平在桌面上。

12、可选地,在所述第一面擦洗和第二面擦洗的步骤中,将产品放置于显微镜下查看擦洗情况,当满足单颗产品的镀金焊接面残胶面积在15%以内、具有残胶的产品数量小于产品总数量的5%即可;并在离子风机的作用下进行清洗产品,以避免运动产生的静电对产品造成损坏。

13、可选地,在所述粘黏产品的步骤中,滚轮为采用防静电硅橡胶材料制成的防静电滚轮,滚轮的直径为25-35mm,且滚轮配备手握柄。

14、可选地,在所述uv膜解胶和剥离产品的步骤中,利用uv解胶机中的uv光对uv膜进行光照,使uv膜中的uv胶固化,粘性降低,便于产品脱离uv膜。

15、可选地,在所述uv膜解胶和剥离产品的步骤中,uv解胶机的工作条件为:uv光的波长为365±15nm,照射密度为230±10mw/cm2,照射功率在190mj/cm2以上,光照时间为20-50s。

16、可选地,在所述剥离产品的步骤中,在离子风机的作用下,利用超声振动使得产品从uv膜上剥离下来,超声振动的频率为96±5khz,超声器头部直径为10±2mm。

17、本申请的有益效果是:本申请中利用贴膜环上的uv膜粘黏产品,利用无纺布或无尘棉签对产品的塑封面和焊接面进行清洗,并通过uv解胶机对uv膜进行解胶,实现产品的剥离,因此,本清理方法能够有效去除产品上顽固的残胶,简单可行,避免了由于残胶造成产品大量不良的情况发生,减少了产品的浪费,且清理过程中不需要将产品长时间放在溶剂和超声环境下进行清洗,提高了产品清洗后的良品率,具有非常强的实用性。

技术特征:

1.一种封装产品切割后焊接面残胶的清理方法,其特征在于:包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的封装产品切割后焊接面残胶的清理方法,其特征在于:在所述散落产品的步骤中,将空的金属环放置于防静电桌面上,并将产品散落在金属环的空旷区域,使产品摊平在桌面上。

3.根据权利要求1所述的封装产品切割后焊接面残胶的清理方法,其特征在于:在所述第一面擦洗和第二面擦洗的步骤中,将产品放置于显微镜下查看擦洗情况,当满足单颗产品的镀金焊接面残胶面积在15%以内、具有残胶的产品数量小于产品总数量的5%即可;并在离子风机的作用下进行清洗产品,以避免运动产生的静电对产品造成损坏。

4.根据权利要求1所述的封装产品切割后焊接面残胶的清理方法,其特征在于:在所述粘黏产品的步骤中,滚轮为采用防静电硅橡胶材料制成的防静电滚轮,滚轮的直径为25-35mm,且滚轮配备手握柄。

5.根据权利要求1所述的封装产品切割后焊接面残胶的清理方法,其特征在于:在所述uv膜解胶和剥离产品的步骤中,利用uv解胶机中的uv光对uv膜进行光照,使uv膜中的uv胶固化,粘性降低,便于产品脱离uv膜。

6.根据权利要求5所述的封装产品切割后焊接面残胶的清理方法,其特征在于:在所述uv膜解胶和剥离产品的步骤中,uv解胶机的工作条件为:uv光的波长为365±15nm,照射密度为230±10mw/cm2,照射功率在190mj/cm2以上,光照时间为20-50s。

7.根据权利要求1所述的封装产品切割后焊接面残胶的清理方法,其特征在于:在所述剥离产品的步骤中,在离子风机的作用下,利用超声振动使得产品从uv膜上剥离下来,超声振动的频率为96±5khz,超声器头部直径为10±2mm。

技术总结本申请涉及一种封装产品切割后焊接面残胶的清理方法,包括如下步骤:利用UV贴膜机将UV膜贴合于金属环上形成贴膜环;将切割后的小颗粒产品散落在防静电桌面上;利用贴膜环上UV膜有胶面覆盖在产品的第二面上,用滚轮滚压,使得产品粘在UV膜上;利用沾有酒精的无纺布或无尘棉签直接擦洗产品;利用UV解胶机对粘有产品的UV膜进行解胶;利用贴膜环上新的UV膜有胶面覆盖在产品的第一面上,用滚轮滚压,使产品的第一面粘黏在UV膜上,并撕掉解胶后的UV膜,擦洗产品的第二面;再次利用UV解胶机对贴膜环上UV膜进行解胶,并剥离产品。本清理方法能够有效去除产品上顽固的残胶,简单可行,避免了由于残胶造成产品大量不良的情况发生。技术研发人员:郑志荣,陶江宝,孙长委受保护的技术使用者:苏州固锝电子股份有限公司技术研发日:技术公布日:2024/11/14

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