洞口屏蔽结构及施工方法与流程

本发明涉及建筑施工，尤其涉及一种洞口屏蔽结构及施工方法。

背景技术：

1、核磁共振成像(mri)技术利用强大的磁场和射频脉冲来获取人体内部结构的高清晰度图像。为了确保扫描的准确性和高质量，防止外部电磁干扰对成像过程的影响，mri室需采取特殊的屏蔽措施，但超导核磁共振设备需安装失超管，以输送成像所必须的氦气。失超管需穿过屏蔽层与外界连接，因此既要保证失超管能够穿过屏蔽层，又要兼顾屏蔽层的屏蔽性能。

2、现有技术中的屏蔽结构工艺，铜箔与管线连接处的施工难度大，由于铜箔面积大、厚度小，在装配过程中容易整块损坏，导致生产成本高、施工质量无法保证。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种洞口屏蔽结构及施工方法，施工效率高，节约材料的同时，屏蔽效果好。

2、为达此目的，本发明采用以下技术方案：

3、洞口屏蔽结构，包括：

4、外框架，连接于墙体，所述墙体上设置有预留开口，所述外框架沿所述预留开口的周向延伸；

5、内框架，设置于所述预留开口处，连接于所述外框架，所述内框架将所述预留开口分割为安装区域和固定区域；

6、固定铜箔，覆盖于所述固定区域；

7、装配铜箔，覆盖于安装区域，管线穿设于所述装配铜箔上。

8、作为优选，还包括包裹铜箔，所述包裹铜箔设置于所述管线与装配铜箔的接缝处，并且包裹于所述管线外部。

9、作为优选，所述包裹铜箔位于所述墙体内侧的包裹长度不低于500mm，位于所述墙体外侧的包裹长度不低于100mm。

10、作为优选，所述装配铜箔的开口处设置有第一弯折部，所述第一弯折部向所述墙体内侧延伸并且贴合于所述包裹铜箔。

11、作为优选，所述第一弯折部的长度不低于30mm。

12、作为优选，所述外框架连接于所述墙体内侧，所述固定铜箔覆盖于所述墙体外部，在所述安装区域的边缘处，所述固定铜箔设置有向所述墙体内侧延伸的第二弯折部。

13、作为优选，所述第二弯折部的长度不低于100mm。

14、作为优选，所述第二弯折部固定连接于所述外框架背向所述墙体的一侧。

15、作为优选，还包括保温层，所述保温层沿所述管线的延伸方向包裹于所述管线的外部。

16、施工方法，使用上述洞口屏蔽结构，包括如下步骤：

17、s1、外框架安装于预留开口处；

18、s2、内框架连接于外框架；

19、s3、固定铜箔覆盖于固定区域；

20、s4、装配铜箔覆盖于安装区域；

21、s5、管线穿设于装配铜箔上。

22、本发明的有益效果：

23、外框架与内框架二者相互配合，在原有的预留开口的基础上，结合施工的实际需求，将预留开口划分为安装区域和固定区域，固定铜箔覆盖于固定区域，装配铜箔覆盖于安装区域；可进一步根据实际需要穿设的管线尺寸确定装配铜箔上的开口大小，以保证管线能够穿过装配铜箔的同时，不会造成整体结构屏蔽性能的损失；若出现工差、开孔操作失误等偶然情况，只需更换装配铜箔并且重复作业即可，无需更换大面积的铜箔，极大程度上节约成本的同时，便于装配，并且能够保证洞口位置的屏蔽效果。

技术特征：

1.洞口屏蔽结构，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的洞口屏蔽结构，其特征在于，还包括包裹铜箔(5)，所述包裹铜箔(5)设置于所述管线(300)与装配铜箔(4)的接缝处，并且包裹于所述管线(300)外部。

3.根据权利要求2所述的洞口屏蔽结构，其特征在于，所述包裹铜箔(5)位于所述墙体(100)内侧的包裹长度不低于500mm，位于所述墙体(100)外侧的包裹长度不低于100mm。

4.根据权利要求2所述的洞口屏蔽结构，其特征在于，所述装配铜箔(4)的开口处设置有第一弯折部(41)，所述第一弯折部(41)向所述墙体(100)内侧延伸并且贴合于所述包裹铜箔(5)。

5.根据权利要求4所述的洞口屏蔽结构，其特征在于，所述第一弯折部(41)的长度不低于30mm。

6.根据权利要求1所述的洞口屏蔽结构，其特征在于，所述外框架(1)连接于所述墙体(100)内侧，所述固定铜箔(3)覆盖于所述墙体(100)外部，在所述安装区域(201)的边缘处，所述固定铜箔(3)设置有向所述墙体(100)内侧延伸的第二弯折部(31)。

7.根据权利要求6所述的洞口屏蔽结构，其特征在于，所述第二弯折部(31)的长度不低于100mm。

8.根据权利要求6所述的洞口屏蔽结构，其特征在于，所述第二弯折部(31)固定连接于所述外框架(1)背向所述墙体(100)的一侧。

9.根据权利要求1-8任一所述的洞口屏蔽结构，其特征在于，还包括保温层(6)，所述保温层(6)沿所述管线(300)的延伸方向包裹于所述管线(300)的外部。

10.施工方法，其特征在于，使用权利要求1-9任一所述的洞口屏蔽结构，包括如下步骤：

技术总结本发明属于建筑施工技术领域，公开了涉及一种洞口屏蔽结构及施工方法，洞口屏蔽结构包括外框架、内框架、固定铜箔和装配铜箔。外框架连接于墙体，墙体上设置有预留开口，外框架与内框架二者相互配合，在原有的预留开口的基础上，结合施工的实际需求，将预留开口划分为安装区域和固定区域，固定铜箔覆盖于固定区域，装配铜箔覆盖于安装区域；可进一步根据实际需要穿设的管线尺寸确定装配铜箔上的开口大小，以保证管线能够穿过装配铜箔的同时，不会造成整体结构屏蔽性能的损失；若出现工差、开孔操作失误等偶然情况，只需更换装配铜箔并且重复作业即可，无需更换大面积的铜箔，极大程度上节约成本，便于装配，并且能够保证洞口位置的屏蔽效果。技术研发人员：寻文靓,王佳俊,鞠丽伟,任丽芳受保护的技术使用者：北京天润建设有限公司技术研发日：技术公布日：2025/1/6