纳米压印涂胶方法，涂胶结构及纳米压印方法与流程

本发明属于纳米压印，具体涉及一种纳米压印涂胶方法，涂胶结构及纳米压印方法。

背景技术：

1、在纳米压印中有一种样品表面结构，其结构尺寸跨度较大，约从50nm至1.5um尺寸跨度，该种样品结构造价比较高，良率也较低。如果能够通过纳米压印技术实现前端的工艺加工，就能够节省大量的加工费用，并提高生产效率。

2、公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在增加对本发明的总体背景的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种纳米压印涂胶方法，涂胶结构及纳米压印方法，其能够实现与模板结构对应的图案化涂胶，解决纳米压印过程中残胶不均匀的问题。

2、为了实现上述目的，本发明一具体实施例提供了一种纳米压印涂胶方法，适用于表面结构尺寸跨度大的纳米压印模板的纳米压印，包括：

3、提供与样品结构对应的图案化电极，所述样品结构为采用表面结构尺寸跨度大的纳米压印模板压印而成；

4、提供衬底，将所述衬底放置于所述图案化电极表面；

5、给所述图案化电极通电以形成电场力，向所述衬底表面喷射带静电的压印胶雾化微粒，所述压印胶雾化微粒在所述电场力的作用下在所述衬底表面形成图案化堆积胶层，所述图案化堆积胶层与所述图案化电极对应。

6、在本发明的一个或多个实施例中，提供与样品结构对应的图案化电极，包括：以样品结构为模板，制备与样品结构一致的图案化电极。

7、在本发明的一个或多个实施例中，采用静电雾化喷涂设备向所述衬底表面喷射带静电的压印胶雾化微粒。

8、在本发明的一个或多个实施例中，所述静电雾化喷涂设备包括高压静电发生器、与高压静电发生器相连的静电雾化喷头以及与静电雾化喷头相连通的注射泵；采用静电雾化喷涂设备向所述衬底表面喷射带静电的压印胶雾化微粒，包括：通过注射泵将压印胶推送至与高压静电发生器相连的静电雾化喷头，喷出带静电的雾化微粒。

9、在本发明的一个或多个实施例中，所述图案化电极以及所述衬底上均形成有对应的定位标尺。

10、本发明一具体实施例还提供了一种纳米压印方法，包括：

11、采用上述的纳米压印涂胶方法进行压印胶的喷涂；

12、提供对应的纳米压印模板，将所述纳米压印模板与形成有堆积胶层的衬底对准压印；

13、固化后脱模。

14、在本发明的一个或多个实施例中，所述纳米压印模板上形成有与衬底对应的定位标尺，通过对位标尺实现纳米压印模板与衬底的对准。

15、在本发明的一个或多个实施例中，在纳米压印模板与衬底对准压印的步骤之前，还包括对形成有堆积胶层的衬底进行烘烤的步骤。

16、在本发明的一个或多个实施例中，在纳米压印模板与衬底对准压印的步骤之前，还包括对纳米压印模板进行表面抗粘附处理。

17、本发明一具体实施例还提供了一种涂胶结构，应用于上述的纳米压印涂胶方法或应用于上述的纳米压印方法，包括：

18、高压静电发生器，用以产生静电；

19、静电雾化喷头，与高压静电发生器相连；

20、注射泵，与静电雾化喷头相连通；

21、图案化电极载台，位于静电雾化喷头的下方；以及，

22、直流负电源，用以连接图案化电极以使其带负电。

23、与现有技术相比，本发明的纳米压印涂胶方法，涂胶结构及纳米压印方法，采用静电喷涂的方式，通过与样品结构对应的图案化电极，引导带静电的压印胶雾化微粒沉积以制备非均匀涂布的压印胶层，实现与样品结构对应的图案化涂胶，解决纳米压印过程中残胶不均匀的问题。

技术特征：

1.一种纳米压印涂胶方法，适用于表面结构尺寸跨度大的纳米压印模板的纳米压印，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的纳米压印涂胶方法，其特征在于，提供与样品结构对应的图案化电极，包括：

3.根据权利要求1所述的纳米压印涂胶方法，其特征在于，采用静电雾化喷涂设备向所述衬底表面喷射带静电的压印胶雾化微粒。

4.根据权利要求3所述的纳米压印涂胶方法，其特征在于，所述静电雾化喷涂设备包括高压静电发生器、与高压静电发生器相连的静电雾化喷头以及与静电雾化喷头相连通的注射泵；

5.根据权利要求1所述的纳米压印涂胶方法，其特征在于，所述图案化电极以及所述衬底上均形成有对应的定位标尺。

6.一种纳米压印方法，其特征在于，包括：

7.根据权利要求6所述的纳米压印方法，其特征在于，所述纳米压印模板上形成有与衬底对应的定位标尺，通过对位标尺实现纳米压印模板与衬底的对准。

8.根据权利要求6所述的纳米压印方法，其特征在于，在纳米压印模板与衬底对准压印的步骤之前，还包括对形成有堆积胶层的衬底进行烘烤的步骤。

9.根据权利要求6所述的纳米压印方法，其特征在于，在纳米压印模板与衬底对准压印的步骤之前，还包括对纳米压印模板进行表面抗粘附处理。

10.一种涂胶结构，应用于如权利要求1-5任一项所述的纳米压印涂胶方法或应用于如权利要求6-9任一项所述的纳米压印方法，其特征在于，包括：

技术总结本发明公开了一种纳米压印涂胶方法，涂胶结构及纳米压印方法，采用静电喷涂的方式，通过与样品结构对应的图案化电极引导带静电的压印胶雾化微粒沉积，实现与样品结构对应的图案化涂胶，解决纳米压印过程中残胶不均匀的问题。技术研发人员：刘超,刘泽,卢英卓受保护的技术使用者：苏州新维度微纳科技有限公司技术研发日：技术公布日：2024/5/29