一种铜排表面氧化层去除装置的制作方法

本技术涉及氧化层去除装置领域，尤其涉及一种铜排表面氧化层去除装置。

背景技术：

1、铜及铜合金材料广泛应用于工业零部件、工艺品、电子元件等领域，虽然，铜及铜合金本身具有一定的防氧化能力，但是如果不做任何的保护处理，铜表面还是会发生氧化现象。

2、现有的铜排去氧化，通常是将铜排放入装有稀盐酸的反应框中，使铜排表面的氧化物与酸反应溶解，由于稀盐酸具有一定腐蚀性，工作人员在将铜排放入反应框中时，稀盐酸可能溅出，导致工作人员皮肤或眼睛烧伤，较为危险。

3、因此现在研发出了一种能够自动将铜排放入稀盐酸中进行反应，避免稀盐酸溅到皮肤上导致烧伤的铜排表面氧化层去除装置。

技术实现思路

1、为了克服现有的铜排去氧化，工作人员在将铜排放入反应框中时，稀盐酸可能溅出，导致工作人员皮肤或眼睛烧伤，较为危险的缺点，本实用新型提供一种能够自动将铜排放入稀盐酸中进行反应，避免稀盐酸溅到皮肤上导致烧伤的铜排表面氧化层去除装置。

2、本实用新型的技术方案为：一种铜排表面氧化层去除装置，包括有底座、清洗框、风干箱、风扇、固定杆、导向杆、安装架和升降机构，底座有两个，底座左部上侧之间连接有多个清洗框，底座右部上侧之间连接有风干箱，风干箱前后两侧均转动式连接有风扇，风干箱前后两部左侧均连接有固定杆，风干箱后部连接有导向杆，导向杆与后部固定杆连接，固定杆之间连接有安装架，安装架与导向杆滑动式连接，安装架上设有能够使铜排进行升降的升降机构。

3、作为本实用新型的一种优选技术方案，升降机构包括有气缸、推杆和放置架，安装架前后两部均连接有气缸，气缸伸缩端上均连接有推杆，推杆上均连接有放置架，放置架均与安装架滑动式连接，启动气缸，推杆向下移动，使得放置架向下移动，将铜排浸入左部清洗框中的稀盐酸中，去除表面氧化层。

4、作为本实用新型的一种优选技术方案，还包括有移动机构，移动机构包括有电机和丝杆，风干箱后侧连接有电机，电机输出轴上连接有丝杆，丝杆与风干箱转动式连接，丝杆也与前部固定杆转动式连接，丝杆与安装架螺纹式连接，启动电机，丝杆旋转，固定杆对丝杆进行支撑固定，带动安装架在导向杆上向右移动，使得放置架向右移动。

5、作为本实用新型的一种优选技术方案，清洗框上开有出水口。

6、作为本实用新型的一种优选技术方案，放置架为l型结构。

7、作为本实用新型的一种优选技术方案，放置架上设有限位板。

8、有益效果：1、本实用新型通过将铜排放置在放置架上，启动气缸，推杆向下移动，使得放置架向下移动，将铜排浸入左部清洗框中的稀盐酸中，达到了能够自动将铜排放入稀盐酸中进行反应，避免稀盐酸溅到皮肤上导致烧伤的效果。

9、2、本实用新型通过启动电机，丝杆旋转，固定杆对丝杆进行支撑固定，带动安装架在导向杆上向右移动，使得放置架向右移动，达到了能够使铜排移动，方便进行清洗和风干的效果。

技术特征：

1.一种铜排表面氧化层去除装置，其特征在于，包括有底座(1)、清洗框(2)、风干箱(3)、风扇(4)、固定杆(5)、导向杆(6)、安装架(7)和升降机构(8)，底座(1)有两个，底座(1)左部上侧之间连接有多个清洗框(2)，底座(1)右部上侧之间连接有风干箱(3)，风干箱(3)前后两侧均转动式连接有风扇(4)，风干箱(3)前后两部左侧均连接有固定杆(5)，风干箱(3)后部连接有导向杆(6)，导向杆(6)与后部固定杆(5)连接，固定杆(5)之间连接有安装架(7)，安装架(7)与导向杆(6)滑动式连接，安装架(7)上设有能够使铜排进行升降的升降机构(8)。

2.根据权利要求1所述的一种铜排表面氧化层去除装置，其特征在于，升降机构(8)包括有气缸(81)、推杆(82)和放置架(83)，安装架(7)前后两部均连接有气缸(81)，气缸(81)伸缩端上均连接有推杆(82)，推杆(82)上均连接有放置架(83)，放置架(83)均与安装架(7)滑动式连接，启动气缸(81)，推杆(82)向下移动，使得放置架(83)向下移动，将铜排浸入左部清洗框(2)中的稀盐酸中，去除表面氧化层。

3.根据权利要求2所述的一种铜排表面氧化层去除装置，其特征在于，还包括有移动机构(9)，移动机构(9)包括有电机(91)和丝杆(92)，风干箱(3)后侧连接有电机(91)，电机(91)输出轴上连接有丝杆(92)，丝杆(92)与风干箱(3)转动式连接，丝杆(92)也与前部固定杆(5)转动式连接，丝杆(92)与安装架(7)螺纹式连接，启动电机(91)，丝杆(92)旋转，固定杆(5)对丝杆(92)进行支撑固定，带动安装架(7)在导向杆(6)上向右移动，使得放置架(83)向右移动。

4.根据权利要求1所述的一种铜排表面氧化层去除装置，其特征在于，清洗框(2)上开有出水口。

5.根据权利要求2所述的一种铜排表面氧化层去除装置，其特征在于，放置架(83)为l型结构。

6.根据权利要求2所述的一种铜排表面氧化层去除装置，其特征在于，放置架(83)上设有限位板。

技术总结本技术涉及氧化层去除装置领域，尤其涉及一种铜排表面氧化层去除装置。本技术提供一种能够自动将铜排放入稀盐酸中进行反应，避免稀盐酸溅到皮肤上导致烧伤的铜排表面氧化层去除装置。一种铜排表面氧化层去除装置，包括有底座、清洗框、风干箱和风扇等，底座有两个，底座左部上侧之间连接有多个清洗框，底座右部上侧之间连接有风干箱，风干箱前后两侧均转动式连接有风扇。本技术通过将铜排放置在放置架上，启动气缸，推杆向下移动，使得放置架向下移动，将铜排浸入左部清洗框中的稀盐酸中，达到了能够自动将铜排放入稀盐酸中进行反应，避免稀盐酸溅到皮肤上导致烧伤的效果。技术研发人员：黄钦贤,黄加徐受保护的技术使用者：江西省宏梓实业有限公司技术研发日：20230912技术公布日：2024/6/5