2－杂芳基吡啶化合物的制造方法与流程

本发明涉及一种2－杂芳基吡啶化合物的制造方法。

背景技术：

1、含氮杂环是构成作为医药和农药的原药的化合物的主要部分结构(分子砌块)。近年来，正在积极进行具有吡啶环的有害节肢动物防除剂的开发。例如，专利文献1～5中记载了一种具有五元杂芳基和含硫烃基的吡啶化合物。

2、另外，非专利文献1公开了如下内容：通过2－氯－n,n－二甲基氨基三亚甲六氟磷酸盐与苯乙酸甲酯和3－甲氧基－3－氧代丙酸的反应来制造3－苯基－5－氯－2－吡啶酮(4g)和3－羟基羰基－5－氯－2－吡啶酮(4h)。

3、

4、专利文献6公开了基于下述方案的吡啶环的构建方法。

5、

6、上述方案中，q表示吡啶基等，r1表示可以具有1个以上卤素原子的c1～c6烷基，r2表示可以具有1个以上卤素原子的c1～c6烷基等，r3、r4和r5表示氢原子等，n表示0等。

7、现有技术文献

8、专利文献

9、专利文献1：wo 2017/016910a

10、专利文献2：wo 2017/050685a

11、专利文献3：wo 2020/050212a

12、专利文献4：wo 2020/071304a

13、专利文献5：wo 2020/090585a

14、专利文献6：wo 2018/194077a

15、非专利文献

16、非专利文献1:jean-francuois marcoux et al."ageneral preparation ofpyridines and pyridones via the annulation of ketones and esters"j.org.chem.,vol.66,no.12,2001,4194-4199

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供作为分子砌块之一的具有含硫官能团的2－杂芳基吡啶化合物的制造方法。

2、为了实现上述目的而反复进行研究，结果完成了包含以下方式的本发明。

3、〔1〕一种式(3)表示的化合物(以下，有时称为化合物(3))的制造方法，包括：使式(1)表示的化合物(以下，有时称为化合物(1))与式(2)表示的化合物(以下，有时称为化合物(2))在金属醇盐或碱的存在下进行化学反应。

4、

5、(在式(1)中，q表示取代或无取代的五～六元或九～十元杂芳基，r1表示c1～6烷基。)

6、

7、(在式(2)中，r2表示氢原子、取代或无取代的c1～6烷基、取代或无取代的c3～6环烷基、取代或无取代的苯基、或者取代或无取代的五～六元杂芳基。)

8、

9、(在式(3)中，q、r1和r2表示与式(1)中和式(2)中的q、r1和r2相同的基团。)

10、〔2〕根据〔1〕所述的制造方法，其中，式(1)和式(3)中的q为式(5)表示的基团。

11、

12、(在式(5)中，*表示键合部位，r3表示c1～6烷基，r4表示氢原子、取代或无取代的c1～6烷基、取代或无取代的c2～6烯基、或1,3－二氧杂环戊烷－2－基。)

13、〔3〕一种式(4)表示的化合物(以下，化合物(4)有时称为)的制造方法，包括：使式(3)表示的化合物(以下，有时称为化合物(3))与羟胺或其盐进行化学反应、以及使上述化学反应的产物进行脱水反应。

14、

15、(在式(3)中，q表示取代或无取代的五～六元或九～十元杂芳基，r1表示c1～6烷基，r2表示氢原子、取代或无取代的c1～6烷基、取代或无取代的c3～6环烷基、取代或无取代的苯基、或者取代或无取代的五～六元杂芳基。)

16、

17、(在式(4)中，q、r1和r2表示与式(3)中的q、r1和r2相同的基团)。

18、〔4〕一种式(4)表示的化合物的制造方法，包括：使式(3)表示的化合物与氨或铵盐在醇存在下进行化学反应、以及使上述化学反应的产物在有机系氧化剂的存在下进行氧化。

19、

20、(在式(3)中，q表示取代或无取代的五～六元或九～十元杂芳基，r1表示c1～6烷基，r2表示氢原子、取代或无取代的c1～6烷基、取代或无取代的c3～6环烷基、取代或无取代的苯基、或者取代或无取代的五～六元杂芳基。)

21、

22、(在式(4)中，q、r1和r2表示与式(3)中的q、r1和r2相同的基团。)

23、〔5〕根据〔3〕或〔4〕所述的制造方法，其中，式(3)和式(4)中的q为式(5)表示的基团。

24、

25、(在式(5)中，*表示键合部位，r3表示c1～6烷基，r4表示氢原子、取代或无取代的c1～6烷基、取代或无取代的c2～6烯基、或1,3－二氧杂环戊烷－2－基。)

26、〔6〕一种式(3a)表示的化合物。

27、

28、(在式(3a)中，r1表示c1～6烷基，r2表示氢原子、取代或无取代的c1～6烷基、取代或无取代的c3～6环烷基、取代或无取代的苯基、或者取代或无取代的五～六元杂芳基，r3表示c1～6烷基，r4表示氢原子、取代或无取代的c1～6烷基、取代或无取代的c2～6烯基、或1,3－二氧杂环戊烷－2－基。)

29、根据本发明的制造方法，能够以高收率得到式(3)表示的化合物和式(4)表示的化合物。

技术特征：

1.一种式(3)表示的化合物的制造方法，包括：使式(1)表示的化合物与式(2)表示的化合物在金属醇盐或者碱的存在下进行化学反应，

2.根据权利要求1所述的制造方法，其中，式(1)和式(3)中的q为式(5)表示的基团，

3.一种式(4)表示的化合物的制造方法，包括：

4.一种式(4)表示的化合物的制造方法，包括：

5.根据权利要求3或4所述的制造方法，其中，式(3)和式(4)中的q为式(5)表示的基团，

6.一种式(3a)表示的化合物，

技术总结本发明提供一种式(3)表示的化合物的制造方法、以及式(4)表示的化合物的制造方法等，所述式(3)表示的化合物的制造方法包括：使式(1)表示的化合物与式(2)表示的化合物在金属醇盐或者碱的存在下进行化学反应，所述式(4)表示的化合物的制造方法包括：使式(3)表示的化合物与羟胺或其盐进行化学反应、以及使上述化学反应的产物进行脱水反应。在式(1)中，Q表示取代或无取代的五～六元或九～十元杂芳基，R1表示C1～6烷基。在式(2)中，R2表示氢原子、取代或无取代的C1～6烷基、取代或无取代的C3～6环烷基、取代或无取代的苯基、或者取代或无取代的五～六元杂芳基。在式(3)中，Q、R1和R2表示与式(1)中和式(2)中的Q、R1和R2相同的基团。在式(4)中，Q、R1和R2表示与式(3)中的Q、R1和R2相同的基团。技术研发人员：小林真一,松田浩一受保护的技术使用者：日本曹达株式会社技术研发日：技术公布日：2024/6/18