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三氟甘露糖中间体的合成方法与流程

  • 国知局
  • 2024-06-20 10:45:39

本发明属于医药合成,更为具体的说涉及三氟甘露糖中间体的合成方法。

背景技术:

1、2-脱氧-2-[18f]氟-d-葡萄糖(18f-fdg)作为葡萄糖的结构类似物,其代谢途径与天然葡萄糖类似,18f-fdg通过细胞膜上的糖转运蛋白(glut)的转运进入组织细胞内,在己糖激酶作用下催化磷酸化,生成6-磷酸-[18f]氟脱氧葡萄糖(6-磷酸-fdg)。与6-磷酸-葡萄糖不同的是,6-磷酸-fdg不能被进一步磷酸化,从而进入三羧酸循环代谢,并且其脱磷酸反应的速率也非常小,因此在细胞内滞留、累计。在葡萄糖代谢平衡时,6-磷酸-fdg的滞流量大体与组织葡萄糖消耗量一致。故而,fdg能反映体内葡萄糖的代谢状态。

2、18f-fdg是最重要的影像学检查pet/ct最常用的显像剂,可用于评估心脏、肺脏以及脑部的葡萄糖代谢状况,同时在肿瘤成像方面,可用于癌症的诊断、分期和治疗监测。大多数类型的恶性肿瘤细胞代谢活跃,葡萄糖代谢水平远高于正常的组织,这就使得18f-fdg大量分布于肿瘤细胞中。临床上可通过18f-fdg pet/ct了解肿瘤代谢信息,获得准确的解剖定位,对疾病的治疗方案、手术及放化疗方案的制定都有极为重要的意义。

3、目前,三氟甘露糖是临床上所使用的标记合成18f-fdg的一种重要前体化合物,它的经典合成方法是采用d-甘露糖作为起始原料进行的。d-甘露糖的来源主要有植物提取法、化学合成法和生物转化法,但这几种方法均难以大规模生产应用。其中专利cn201910202196.5中提出一种d-甘露糖的合成方法,d-甘露醇经过硅醚保护、羟基保护、脱除一个硅醚、氧化、脱除另外一个硅醚、脱羟基保护基得到d-甘露糖,此合成方法存在两次脱除硅醚步骤,并且第一次脱硅醚过程会存在脱除两个硅醚保护基的副产物,造成该步骤提纯操作难度大,且主产物收率较低(30~35%),生产成本较高。因此,迫切需要进一步优化工艺,提高d-甘露糖的产量,简化反应步骤与操作难度,降低生产成本。

4、鉴于此,特提出本发明。

技术实现思路

1、本发明的目的是针对上述现有技术问题,旨在提出三氟甘露糖中间体的合成方法。

2、本发明的目的可以通过以下技术方案实现:

3、三氟甘露糖中间体的合成方法,其特征在于,所述合成路线为:

4、

5、其中,r1选自三甲基硅基(tms)、叔丁基二苯基硅基(tbdps)或苄基(bn)中的任意一种;r2选自乙酰基(ac)或苯甲酰基(bz)。

6、该路线具体反应步骤如下:

7、s1,d-甘露醇末端一个羟基被r1基团保护,得到化合物i;

8、进一步地,当r1基团为tms时,所述羟基保护试剂为六甲基二硅氮烷(hmds),反应溶剂为thf,反应温度为50~80℃;优选反应温度为60~70℃。

9、优选地,可加入1~2滴tmscl作催化剂。

10、当r1基团为tbdps时,所述羟基保护试剂为tbdpscl,碱为dipea或三乙胺,反应溶剂为ch2cl2,反应温度为0~30℃;优选碱为dipea,反应温度为20~25℃。

11、当r1基团为bn时,所述羟基保护试剂为bnbr或bncl,碱为nah或kh,反应试剂为dmf,反应温度为-50~-90℃;优选碱为nah,反应温度为-70~-80℃。

12、s2,化合物i中的全部羟基被r2基团保护,得到化合物ii;

13、进一步地,当r2基团为ac时,所述羟基保护试剂为乙酸酐,反应溶剂为吡啶;当r2基团为bz时,所述羟基保护试剂为bzcl,碱为三乙胺,反应溶剂为ch2cl2;反应温度0~30℃。

14、s3,脱除化合物ii中r1保护基,得到化合物iii;

15、进一步地,当r1基团为tms时,使用三氟乙酸脱除r1保护基,反应溶剂为ch2cl2;当r1基团为tbdps时,使用tbaf脱除保护基,反应溶剂为thf,反应温度为0~30℃;当r1基团为bn时,使用pd/c加氢脱保护基。

16、s4,将化合物iii中伯羟基氧化为醛基,得到化合物iv;

17、进一步地,氧化剂选自邻二氧碘基苯甲酸(ibx)、二甲亚砜(dmso)-草酰氯体系、氯铬酸吡啶盐(pcc)或重铬酸吡啶盐(pdc)中的任意一种;优选氧化剂邻二氧碘基苯甲酸,反应溶剂为乙腈,反应温度60~100℃;优选反应温度70~90℃。

18、s5,脱除化合物iv中r2保护基,得到的中间体自身发生羟醛缩合反应,得到目标产物v。

19、进一步地,当r2为ac时,使用k2co3脱保护基;当r2为bz时,使用甲醇钠/甲醇溶液脱保护基;反应温度为0~30℃。

20、本发明的有益效果:本发明公开了一种三氟甘露糖中间体的合成方法。相对现有技术cn201910202196.5通过两个硅醚保护伯羟基后再经多步反应得到目标产物的技术方案,本发明仅对d-甘露醇中的一个伯羟基保护,再将其余羟基保护,随后脱除末端羟基保护基、氧化、脱所有保护基得目标产物,简化了现有反应步骤,总收率高达55~65%。本发明提供的三氟甘露糖中间体的合成方法条件简便、成本低,适合工业化生产。

技术特征:

1.三氟甘露糖中间体的合成方法,其特征在于,所述合成步骤为:

2.根据权利要求1所述三氟甘露糖中间体的合成方法,其特征在于,在s1反应中,当r1基团为tms时,所述羟基保护试剂为六甲基二硅氮烷(hmds),反应溶剂为thf,反应温度为50~80℃;当r1基团为tbdps时,所述羟基保护试剂为tbdpscl,碱为dipea或三乙胺,反应溶剂为ch2cl2,反应温度为0~30℃;当r1基团为bn时,所述羟基保护试剂为bnbr或bncl,碱为nah或kh,反应试剂为dmf,反应温度为-50~-90℃。

3.根据权利要求1所述三氟甘露糖中间体的合成方法,其特征在于,在s2反应中,所述r2基团保护的试剂选自乙酸酐或bzcl。

4.根据权利要求1所述三氟甘露糖中间体的合成方法,其特征在于,在s3反应中,当r1基团为tms时,使用三氟乙酸脱除r1保护基,反应溶剂为ch2cl2;当r1基团为tbdps时,使用tbaf脱除r1保护基,反应溶剂为thf,反应温度为0~30℃;当r1基团为bn时,使用pd/c加氢脱除r1保护基。

5.根据权利要求1所述三氟甘露糖中间体的合成方法,其特征在于,在s4反应中,氧化剂选自邻二氧碘基苯甲酸(ibx)、二甲亚砜(dmso)-草酰氯体系、氯铬酸吡啶盐(pcc)或重铬酸吡啶盐(pdc)中的任意一种。

6.根据权利要求1所述三氟甘露糖中间体的合成方法,其特征在于,在s5反应中,当r2为ac时,使用k2co3脱除保护基;当r2为bz时,使用甲醇钠/甲醇溶液脱除保护基。

技术总结本发明属于医药合成技术领域,特别是涉及三氟甘露糖中间体的合成方法。本发明以D‑甘露醇为原料,先对D‑甘露醇末端的其中一个羟基进行保护,随后保护剩余羟基,再脱除末端羟基保护基、氧化、脱除剩余羟基保护得目标产物。本发明提供的三氟甘露糖中间体的合成方法反应步骤少,操作过程简单、产率高且生产成本低,适合工业化生产。技术研发人员:杨大参,戴娟,许家芳,方久利,罗志刚受保护的技术使用者:南京江原安迪科正电子研究发展有限公司技术研发日:技术公布日:2024/6/18

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