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一种静态合成STT分子筛膜的方法、STT分子筛膜及其在分离H2中的应用

  • 国知局
  • 2024-06-20 13:42:57

本发明涉及一种静态合成stt分子筛膜的方法、stt分子筛膜及其在分离h2中的应用,属于分子筛膜。

背景技术:

1、h2/ch4分离不仅是焦炉煤气提纯的重要步骤,在天然气管道掺氢终端分离过程中也同样重要。对于管道输氢而言,管道运行压力一般为1-4mpa。

2、物理老化是聚合物膜的一个问题,因为它的孔隙结构是热力学亚稳态的。分子筛膜具有优先吸附和快速反渗透的特性,因此被广泛用于研究co2/ch4分离。然而,由于分子筛膜的竞争吸附作用,很少有人研究利用分子筛膜进行h2/ch4分离。

3、stt分子筛在[-101]方向的孔径为0.24×0.35nm(七元环,7mr),在[101]方向的孔径为0.37×0.53nm(九元环,9mr)。独特的孔道保证了stt分子筛膜对h2/ch4分离具有卓越的尺寸排阻效果。由于使用氢氟酸(hf)和长时间合成,stt分子筛膜很少被研究。近两年,采用无氟前驱体合成stt分子筛膜被报道。然而,由于水热合成过程中高压釜必须旋转,因此合成过程比较复杂。此外,只有少量的营养物质参与膜的相互生长,增加了制造成本和化学废物的数量。

技术实现思路

1、本发明的第一个目的在于解决对于高质量stt分子筛膜制备过程中需要转动合成,提供一种静态合成stt分子筛膜的方法,通过调节含水量,原位将液态前驱体转化为半固态,避免营养沉淀,晶种逐渐长大并融合在一起形成stt分子筛膜。

2、本发明的第二个目的,提供一种小粒径stt分子筛制备的方法,小粒径stt分子筛作为晶种能良好地形成连续均匀的晶种层。

3、本发明的第三个目的,提供一种stt分子筛合成液回收利用的方法,由于半固态的合成液前驱体的成核过程受到抑制,无定形前驱体可重新用于膜的合成,并且该stt分子筛膜对高压h2/ch4混合物也表现出优异的分离性能。

4、为了实现上述目的,本发明所采用的技术方案为:

5、一种静态合成制备stt分子筛膜的方法,包括如下步骤:

6、s1、在支撑体的表面涂覆sio2颗粒后煅烧;

7、s2、在煅烧后的支撑体表面涂覆stt分子筛晶种;

8、s3、将涂晶后的支撑体置于合成液中,在静态条件下进行水热合成;反应后的合成液为半固态,且合成液中的原料摩尔比为:1sio2:(0.1-0.3)tmadaoh:(40-130)h2o;

9、s4、清洗烘干后,在臭氧气氛下焙烧去除模板剂。

10、优选地,所述的步骤s1中,所述的支撑体的材质为具有多通道的氧化铝中空纤维;

11、所述的氧化铝中空纤维的平均孔径范围50-500nm,孔隙率20-50%;

12、煅烧的条件是:600-1000k,6-10h。

13、优选地,所述的步骤s2中,涂覆stt分子筛晶种时使用的是含有0.3-1.2%的小粒径stt分子筛晶种的水悬浮液;

14、所述的小粒径stt分子筛晶种的合成方法是:将sio2、naoh、al(oh)3、tmadaoh与h2o混合得到混合液,再将常规的stt分子筛晶种加入至混合液中,水热结晶后得到;

15、其中,混合液中,sio2、naoh、al(oh)3、tmadaoh与h2o的摩尔比为:1:(0.1-0.3):(0.002-0.01):(0.1-0.5):(130-180);

16、混合液中加入常规的stt分子筛晶种的质量浓度是0.05-0.2wt.%;

17、水热结晶的条件是:400-550k,10-48h。

18、优选地,所述的步骤s3中,静态条件包括在水热合成过程中不进行旋转;

19、水热合成的条件是:400-550k,24-120h。

20、优选地,在合成液中还添加了0.001-0.15wt.%的小粒径stt分子筛晶种。

21、优选地,所述的合成液中的原料摩尔比为1sio2:0.2tmadaoh:84h2o。

22、优选地,所述的步骤s4中,臭氧气氛下焙烧的条件是:450-500k,48-100h。

23、一种回收合成液进行stt分子筛膜重复制备的方法,是回收原料摩尔比为1sio2:0.2tmadaoh:84h2o的合成液,向回收的合成液中额外添加占合成液总质量5-20wt.%的tmadaoh溶液后,再进行stt分子筛膜的制备。

24、一种stt分子筛膜,由任一上述的方法制备得到。

25、上述的stt分子筛膜在分离h2中的应用,是用于从h2/ch4混合气体中分离h2,运行压力0.1-2.8mpa。

26、本发明的有益效果在于:

27、1、采用静态合成方法,并通过调节水含量来使反应后的合成液由液态转化为半固态,能够避免营养沉淀,晶种层向连续膜能够有效生长,继而能够制备高质量的stt分子筛膜;

28、2、在支撑体的表面涂覆sio2颗粒后煅烧,可以利用sio2颗粒在大孔支撑体的表面形成中间过渡层,避免合成的stt晶种渗入支撑体孔道中生长使分离通量下降;

29、3、采用直接合成的小粒径stt分子筛作为晶种,避免使用高能球磨仪,减少设备需求;

30、4、由于反应后的合成液呈现半固态且相对结晶度较低,使得合成液可被重复利用,减少化学废物的总量;

31、5、本发明静态条件下合成的stt分子筛膜在常压下的h2渗透率和h2/ch4混合物选择性分别为6.1×10-8mol·m-2·s-1·pa-1和115,均比旋转条件下合成的膜高出两倍;且在进料压力为2.1mpa时,h2/ch4选择性降至14,h2通量为2.0nm3·m-2·h-1,这为stt分子筛膜在高压下h2分离中的实际应用铺平了道路。

技术特征:

1.一种静态合成制备stt分子筛膜的方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的静态合成制备stt分子筛膜的方法,其特征在于,所述的步骤s1中,所述的支撑体的材质为具有多通道的氧化铝中空纤维;

3.根据权利要求1所述的静态合成制备stt分子筛膜的方法,其特征在于,所述的步骤s2中,涂覆stt分子筛晶种时使用的是含有0.3-1.2wt.%的小粒径stt分子筛晶种的水悬浮液;

4.根据权利要求1所述的静态合成制备stt分子筛膜的方法,其特征在于,所述的步骤s3中,静态条件包括在水热合成过程中不进行旋转;

5.根据权利要求4所述的静态合成制备stt分子筛膜的方法,其特征在于,在合成液中还添加了0.001-0.15wt.%的stt分子筛晶种。

6.根据权利要求5所述的静态合成制备stt分子筛膜的方法,其特征在于,所述的合成液中的原料摩尔比为1sio2:0.2tmadaoh:84h2o。

7.根据权利要求1所述的静态合成制备stt分子筛膜的方法,其特征在于,所述的步骤s4中,臭氧气氛下焙烧的条件是:450-500k,48-100h。

8.一种回收合成液进行stt分子筛膜重复制备的方法,其特征在于,是回收权利要求7所述的合成液,向回收的合成液中额外添加占合成液总质量5-20wt.%的tmadaoh溶液液后,再进行stt分子筛膜的制备。

9.一种stt分子筛膜,其特征在于,由权利要求1-7任一所述的方法制备得到。

10.一种权利要求9所述的stt分子筛膜在分离h2中的应用,其特征在于,是用于从h2/ch4混合气体中分离h2,运行压力0.1-2.8mpa。

技术总结本发明公开了一种静态合成STT分子筛膜的方法、STT分子筛膜及其在分离H<subgt;2</subgt;中的应用,所述静态合成STT分子筛膜的方法包括如下步骤:在支撑体的表面涂覆SiO<subgt;2</subgt;颗粒后煅烧;在煅烧后的支撑体表面涂覆小粒径STT分子筛晶种;将涂晶后的支撑体置于合成液中,在静态条件下进行水热合成;反应后的合成液为半固态,且合成液中的原料摩尔比为:1SiO<subgt;2</subgt;:(0.1‑0.3)TMAdaOH:(40‑130)H<subgt;2</subgt;O;清洗烘干后,在臭氧气氛下焙烧去除模板剂。该方法通过调节含水量,液态合成液原位转变为半固态凝胶,避免营养物质沉降,晶种逐渐长大并融合在一起形成STT分子筛膜。由于半固态合成液前驱体的成核过程受到抑制,无定形前驱体可重新用于膜的合成。该STT分子筛膜对高压H<subgt;2</subgt;/CH<subgt;4</subgt;混合物表现出优异的分离性能。技术研发人员:王学瑞,代勇,周韬,朱明宇,顾学红受保护的技术使用者:南京工业大学技术研发日:技术公布日:2024/6/13

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