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电子部件临时固定用粘合片以及电子部件的处理方法与流程

  • 国知局
  • 2024-08-02 17:11:48

本发明涉及电子部件临时固定用粘合片以及电子部件的处理方法。

背景技术:

1、电子部件的小型/薄型化的要求逐年提高,例如,为了提高半导体器件的特性,以功率器件等领域为中心使半导体晶圆薄化的趋势正在加速。在对薄且脆弱的半导体基板(例如,硅晶圆)进行加工/处理的用途中,广泛使用通过用液态粘接剂临时固定于玻璃等透光性的硬质基板(支承体)上来降低加工/处理过程中的破裂的风险的方法(例如,专利文献1)。在这样的临时固定方法中,经过多次成膜工序在透光性基板上形成光热转换层和接合层,要求如下的激光脱粘性:在加工时牢固地固定被加工物,在剥离时照射规定波长的激光,光热转换层吸收该光并转换为热而热分解,由此能够简单地分离被加工物和透光性基板。然而,由于在光热转换层热分解时发生分解物的烧结,因此存在在接触的硬质基板(支承体)上产生难以清洗的残渣物的课题。因此,将硬质基板(支承体)设为一次性使用、或者即使回收再利用也伴随着巨大的清洗负担,成为使半导体器件的制造成本增大的主要原因之一。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1:日本特许第4565804号

技术实现思路

1、发明要解决的问题

2、本发明是为了解决上述课题而完成的,其目的在于提供一种粘合片,其为供于电子部件向支承体的临时固定的粘合片,其通过激光的照射表现出从支承体的剥离性,并且能够减少剥离后的该支承体上的残渣物。

3、用于解决问题的方案

4、本发明的电子部件临时固定用粘合片具备光热转换层、和直接配置于光热转换层的热分解层,该热分解层的紫外线照射后5%失重温度低于该光热转换层的紫外线照射后5%失重温度。

5、在一个实施方式中,上述光热转换层的紫外线照射后5%失重温度为300℃~600℃。

6、在一个实施方式中,上述热分解层的紫外线照射后5%失重温度为250℃~400℃。

7、在一个实施方式中,上述光热转换层的波长355nm的光的透过率为50%以下。

8、在一个实施方式中,上述光热转换层为由聚酰亚胺系树脂构成的树脂薄膜。

9、在一个实施方式中,上述热分解层的波长355nm的光的透过率为80%以上。

10、在一个实施方式中,上述光热转换层的波长1032nm的光的透过率为50%以下。

11、在一个实施方式中,上述光热转换层为着色薄膜。

12、在一个实施方式中,上述热分解层的波长1032nm的光的透过率为80%以上。

13、在一个实施方式中,上述热分解层包含活性能量射线固化型粘合剂。

14、在一个实施方式中,上述热分解层的紫外线照射后断裂点应变为50%以上。

15、在一个实施方式中,上述光热转换层的200℃下的紫外线照射后拉伸弹性模量为5mpa~2gpa。

16、在一个实施方式中,上述电子部件临时固定用粘合片还具备粘合剂层,所述电子部件临时固定用粘合片依次层叠有该粘合剂层、上述光热转换层、以及上述热分解层。

17、根据本发明的另一方面,提供一种电子部件的处理方法。该处理方法在上述粘合片上配置电子部件后,对该电子部件进行规定的处理。

18、在一个实施方式中,上述处理为研磨加工、切割加工、芯片接合、引线接合、蚀刻、蒸镀、模制、重布线形成、贯通孔形成、或器件表面的保护。

19、发明的效果

20、根据本发明,能够提供一种供于电子部件向支承体的临时固定的粘合片,其通过激光的照射表现出从支承体的剥离性,并且能够减少剥离后的该支承体上的残渣物。

技术特征:

1.一种电子部件临时固定用粘合片,其具备光热转换层、和直接配置于光热转换层的热分解层,

2.根据权利要求1所述的电子部件临时固定用粘合片,其中,所述光热转换层的紫外线照射后5%失重温度为300℃~600℃。

3.根据权利要求1或2所述的电子部件临时固定用粘合片,其中,所述热分解层的紫外线照射后5%失重温度为250℃~400℃。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的电子部件临时固定用粘合片,其中,所述光热转换层的波长355nm的光的透过率为50%以下。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的电子部件临时固定用粘合片,其中,所述光热转换层为由聚酰亚胺系树脂构成的树脂薄膜。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的电子部件临时固定用粘合片,其中,所述热分解层的波长355nm的光的透过率为80%以上。

7.根据权利要求1~3中任一项所述的电子部件临时固定用粘合片,其中,所述光热转换层的波长1032nm的光的透过率为50%以下。

8.根据权利要求1~3以及7中任一项所述的电子部件临时固定用粘合片,其中,所述光热转换层为着色薄膜。

9.根据权利要求1~3、7以及8中任一项所述的电子部件临时固定用粘合片,其中,所述热分解层的波长1032nm的光的透过率为80%以上。

10.根据权利要求1~9中任一项所述的电子部件临时固定用粘合片,其中,所述热分解层包含活性能量射线固化型粘合剂。

11.根据权利要求1~10中任一项所述的电子部件临时固定用粘合片,其中,所述热分解层的紫外线照射后断裂点应变为50%以上。

12.根据权利要求1~11所述的电子部件临时固定用粘合片,其中,所述光热转换层的200℃下的紫外线照射后拉伸弹性模量为5mpa~2gpa。

13.根据权利要求1~12中任一项所述的电子部件临时固定用粘合片,其还具备粘合剂层,

14.一种电子部件的处理方法,其在权利要求1~13中任一项所述的粘合片上配置电子部件后,对该电子部件进行规定的处理。

15.根据权利要求14所述的电子部件的处理方法,其中,所述处理为研磨加工、切割加工、芯片接合、引线接合、蚀刻、蒸镀、模制、重布线形成、贯通孔形成、或器件表面的保护。

技术总结本发明提供一种粘合片,其被供于电子部件向支承体的临时固定,其通过激光的照射表现出从支承体的剥离性,并且能够减少剥离后的该支承体上的残渣物。本发明的电子部件临时固定用粘合片具备光热转换层、和直接配置于光热转换层的热分解层,该热分解层的紫外线照射后5%失重温度低于该光热转换层的紫外线照射后5%失重温度。技术研发人员:上野周作,加藤和通,平山高正受保护的技术使用者:日东电工株式会社技术研发日:技术公布日:2024/5/16

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