表面保护膜的制作方法

本发明涉及具有透光性的表面保护膜。

背景技术：

1、近年来，在各种技术领域中利用具有高透明性的表面保护膜。例如在平板显示器(fpd)的技术领域中，对于组装于fpd的各种光学部件而言，出于在其制造过程、检查工序、运输过程等中的表面保护的目的，有时在部件表面贴合表面保护膜。这样的表面保护膜例如记载于下述专利文献1～3中。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2012-17399号公报

5、专利文献2：日本特开2015-157964号公报

6、专利文献3：日本特开2016-74899号公报

技术实现思路

1、发明所要解决的问题

2、作为表面保护膜的基材而言，有时采用聚酯类基材，因为其耐热性、透明性、尺寸稳定性等各种特性优异。对于作为用于光学部件用途的表面保护膜等的透光性的聚酯类基材的例如pet膜而言，已知多数情况下在制造工艺中通过t型模头法将原料树脂材料挤出成形为膜状、然后经过包含沿该膜的流动方向或长度方向(md)的拉伸和沿宽度方向(td)的拉伸的双轴拉伸处理。

3、另外，对于表面保护膜而言，从作业效率等观点考虑，有时还要求良好的手撕性。

4、本发明基于如上所述的情况而想出，其目的在于提供一种适合于在具有聚酯类基材的同时一并实现良好的手撕性和高再加工性(リワーク性)的表面保护膜。

5、用于解决问题的手段

6、根据本发明提供的表面保护膜具有包含透明基材和粘合剂层的层叠结构。透明基材为基材宽度方向单轴拉伸聚酯类基材且具有75μm以上的厚度。聚酯类基材是指在构成材料中以最大重量比例含有聚酯类树脂的膜或片材等基材。基材宽度方向单轴拉伸聚酯类基材是指在聚酯类基材的制造工艺中在原料树脂材料的挤出成形后经过例如沿与膜状的挤出成形体的流动方向或长度方向(md)正交的宽度方向(td)的单轴拉伸处理的聚酯类基材。粘合剂层例如含有选自由丙烯酸类粘合剂、聚氨酯类粘合剂、聚硅氧烷类粘合剂和橡胶类粘合剂构成的组中的至少一种。在本表面保护膜中，基材宽度方向的埃尔门多夫撕裂强度为0.5n以下，且基材长度方向的埃尔门多夫撕裂强度为1n以上。

7、如上所述，本表面保护膜所具有的透明基材为聚酯类基材。这样的构成适合于在表面保护膜基材、进而在本表面保护膜中享有耐热性、透明性、尺寸稳定性等聚酯类基材容易表现出的各种特性。

8、另外，如上所述，本表面保护膜所具有的透明基材是厚度为75μm以上的宽度方向单轴拉伸聚酯类基材。表面保护膜的埃尔门多夫撕裂强度等撕裂强度强烈地受控于基材的机械特性，这样的构成适合于在本表面保护膜中实现基材宽度方向的埃尔门多夫撕裂强度为0.5n以下且基材长度方向的埃尔门多夫撕裂强度为1n以上的上述构成。

9、除此以外，如上所述，本表面保护膜的基材宽度方向的埃尔门多夫撕裂强度为0.5n以下，且基材长度方向的埃尔门多夫撕裂强度为1n以上。这样的构成适合于在本表面保护膜中实现沿埃尔门多夫撕裂强度相对有意地低至0.5n以下的基材宽度方向的良好的手撕性。与此同时，埃尔门多夫撕裂强度在基材长度方向上为基材宽度方向的2倍以上的1n以上的构成适合于在本表面保护膜中提高沿基材宽度方向的撕裂的指向性。因此，该构成适合于在本表面保护膜处于贴合于被粘物的状态的情况下使剥离力作用于该膜的基材长度方向从而使该膜不开裂地从被粘物适当地剥离。具体而言，适合于在将本表面保护膜与被粘物贴合后先剥离然后再次贴合的作业(再加工作业)时使剥离力作用于该膜的基材长度方向从而使该膜不开裂地从被粘物适当地剥离。不仅在基材宽度方向而且在基材长度方向也容易被撕裂的表面保护膜在再加工作业中的剥离时倾向于容易开裂而难以从被粘物适当地剥离。产生了开裂的表面保护膜不能用于再次贴合中。与此相对，本表面保护膜具有与适合于实现沿基材宽度方向的良好的手撕性的基材宽度方向埃尔门多夫撕裂强度相比足够大的基材长度方向埃尔门多夫撕裂强度，因此适合于在再加工作业时不开裂地从被粘物适当地剥离。

10、如上所述，本表面保护膜适合于在具有聚酯类基材的同时一并实现良好的手撕性和高再加工性。

11、优选粘合剂层的厚度为5μm以上。这样的构成在实现表面保护膜对被粘物的充分的粘合力方面是适合的。

12、优选本表面保护膜的厚度方向的雾度为3％以下。这样的构成对于例如光学部件用途的表面保护膜是适合的。

技术特征：

1.一种表面保护膜，其中，

2.如权利要求1所述的表面保护膜，其中，所述表面保护膜的雾度为3％以下。

技术总结本发明涉及表面保护膜。本发明提供一种适合于在具有聚酯类基材的同时一并实现良好的手撕性和高再加工性的表面保护膜。本发明的表面保护膜(X)具有包含作为透明基材的基材(11)和粘合剂层(12)的层叠结构。基材(11)是具有75μm以上的厚度的基材宽度方向单轴拉伸聚酯类基材。表面保护膜(X)的基材宽度方向上的埃尔门多夫撕裂强度为0.5N以下，且表面保护膜(X)的基材长度方向上的埃尔门多夫撕裂强度为1N以上。技术研发人员：三井数马,野中崇弘,冲田奈津子受保护的技术使用者：日东电工株式会社技术研发日：技术公布日：2024/5/27