一种耐电解性能增强的电镀层及其端子的制作方法
- 国知局
- 2024-07-27 11:54:42
本发明涉及一种用于端子的电镀层及其端子,尤其是涉及一种耐电解性能增强的电镀层及其端子,主要用于电子接口,属于电子设备的。
背景技术:
1、随着智能设备的不断普及,其使用频率越来越高;现有技术中,智能设备如手机、平板等在使用过程中,其接口既可以作为充电接口也可以作为数据传输接口,因其经常与数据线之间进行插拔,且经常会被手触摸到,长时间使用后,容易造成接口的端子腐蚀或磨损,影响智能设备的使用寿命。
2、目前,市场上存在各式各样的电镀层端子,但其几乎都使用铑钌或者铂做耐腐蚀层、钯镍及铑钌做耐磨层。更为重要的是,近来受国际局势影响,金价居高不下,连接器端子公头开始使用硬度更高的镀钯镍规格来代替镀金规格,母座在与镀钯镍的公头对插过程中形成硬碰硬磨损,进而影响到镀层插拔后电解次数。
3、因此,本领域亟需研发一种低成本的镀层来增强对插寿命,同时满足插拔后耐电解测试需求。本发明由此产生。
技术实现思路
1、针对现有技术的上述技术问题,本发明的目的是提供一种耐电解性能增强的电镀层及其端子,其耐磨层使用银镀层或银合金镀层,在电解测试过程中会形成氯化银沉淀,进而填充在铂镀层的孔隙之中,延缓向内的穿孔腐蚀,增强耐电解测试能力。
2、为达到上述目的,本发明是通过以下技术方案实现的:
3、一种耐电解性能增强的电镀层,端子的表面从内到外依次设置有第一镀层、第二镀层、第三镀层、第四镀层、第五镀层、第六镀层和第七镀层,所述的第一镀层为内镍组合镀层,第二镀层为内铂镀层,第三镀层为内钯镍镀层,第四镀层为外铂镀层,第五镀层为外铂钌镀层,第六镀层为银镀层或银合金镀层,第七镀层为外金镀层。
4、所述的银合金镀层为银锑合金镀层、银钯合金镀层、银钴合金镀层、银镍合金镀层、银锡合金镀层或银铜合金镀层。
5、所述的内镍组合镀层由填平镍、高磷镍和高温镍的两种或三种堆叠组成。
6、所述第一镀层的厚度为2-5μm,所述第二镀层的厚度为0.1-3μm,所述第三镀层的厚度为0.2-3μm,所述第四镀层的厚度为0.1-3μm, 所述第五镀层的厚度为0.1-3μm,所述第六镀层的厚度为0.5-10μm,所述第七镀层的厚度为0.05-0.75μm。
7、一种端子,所述端子表面具有如前所述的电镀层。
8、本发明的有益效果如下:
9、本发明耐电解性能增强的电镀层及其端子,通过内镍组合镀层+外铂镀层+外铂钌镀层+银镀层或银合金镀层,能够有效提高端子的耐磨性、防腐蚀性以及硬度,尤其对耐电解性能突出,可代替目前铑钌以及单以铂镀层使用,最高在5%的氯化钠溶液中可抵抗5v电压200min+,20v电压50min+插拔。同时在外铂钌镀层上镀有银镀层或银合金镀层来降低硬碰硬磨损,有效保护内铂镀层、外铂钌镀层等功能层,并可降低接触阻抗,耐盐雾。具有该电镀层的端子耐磨损性能和耐腐蚀的性能具有大幅度的提升,插拔1000-2000次后5v电解次数在160min+,大电压20v电解次数40min+,即大大降低了插拔后耐电解测试能力的衰减,在1000-2000次插拔后,底部耐电解外铂镀层、外铂钌镀层不被磨损,电解测试衰减率可控制在20%以内,相对于使用钯镍镀层做耐磨层插拔后电解衰减率高达50%以上,具有大幅度的提升,大大延长了使用寿命。
技术特征:1.一种耐电解性能增强的电镀层,其特征在于:端子的表面从内到外依次设置有第一镀层、第二镀层、第三镀层、第四镀层、第五镀层、第六镀层和第七镀层,所述的第一镀层为内镍组合镀层,第二镀层为内铂镀层,第三镀层为内钯镍镀层,第四镀层为外铂镀层,第五镀层为外铂钌镀层,第六镀层为银镀层或银合金镀层,第七镀层为外金镀层。
2.如权利要求1所述耐电解性能增强的电镀层,其特征在于:所述的银合金镀层为银锑合金镀层、银钯合金镀层、银钴合金镀层、银镍合金镀层、银锡合金镀层或银铜合金镀层。
3.如权利要求1所述耐电解性能增强的电镀层,其特征在于:所述的内镍组合镀层由填平镍、高磷镍和高温镍的两种或三种堆叠组成。
4.如权利要求1所述耐电解性能增强的电镀层,其特征在于:所述第一镀层的厚度为2-5μm,所述第二镀层的厚度为0.1-3μm,所述第三镀层的厚度为0.2-3μm,所述第四镀层的厚度为0.1-3μm, 所述第五镀层的厚度为0.1-3μm,所述第六镀层的厚度为0.5-10μm,所述第七镀层的厚度为0.05-0.75μm。
5.一种端子,其特征在于:所述端子表面具有如权利要求1-4任一权利要求所述的电镀层。
技术总结本发明涉及一种耐电解性能增强的电镀层,端子的表面从内到外依次设置有第一镀层、第二镀层、第三镀层、第四镀层、第五镀层、第六镀层和第七镀层,第一镀层为内镍组合镀层,第二镀层为内铂镀层,第三镀层为内钯镍镀层,第四镀层为外铂镀层,第五镀层为外铂钌镀层,第六镀层为银镀层或银合金镀层,第七镀层为外金镀层。本发明耐磨层使用银镀层或银合金镀层,在电解测试过程中会形成氯化银沉淀,进而填充在铂镀层的孔隙之中,延缓向内的穿孔腐蚀,增强耐电解测试能力。技术研发人员:肖小兰受保护的技术使用者:江门市富扬表面处理科技有限公司技术研发日:技术公布日:2024/6/30本文地址:https://www.jishuxx.com/zhuanli/20240726/120132.html
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