涡轮泵和半导体刻蚀设备的制作方法

本技术涉及半导体，尤其涉及一种涡轮泵和半导体刻蚀设备。

背景技术：

1、随着科学技术的不断发展，半导体刻蚀设备已广泛应用于各种各样的制造业中，为人们的生活和工作带来了极大的便利。

2、半导体刻蚀设备中的涡轮泵会产生大量的颗粒物，特别是在后段工程中产生的大量聚合物会附着到涡轮泵的叶片上。而涡轮泵叶片上附着颗粒物会造成以下不良影响：(1)叶片上附着的颗粒物会返扬到车间中，从而对晶圆产品造成污染；(2)叶片上附着的颗粒物若不清除，颗粒物日积月累到一定厚度后会导致叶片碰撞而损坏涡轮泵。

3、目前一般是在定期机台维护的时候，操作人员手持氮气枪吹扫结合用真空吸附管吸附清除颗粒物，但氮气枪吹扫的时候，会导致颗粒物到处飞扬而污染车间环境；而且由于氮气枪吹扫的时间一般较长，最少半小时，操作人员需长时间手持氮气枪，不仅操作人员容易疲劳，同时还增加了人力成本投入。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种涡轮泵和半导体刻蚀设备，减少或避免了颗粒物对车间环境的污染，且无需操作人员手持氮气枪，节省了人力，对叶片上颗粒物的清洁效果好，避免了颗粒物在叶片上积累，延长了涡轮泵的寿命。

2、为实现上述目的，本实用新型的所述涡轮泵，包括涡轮泵本体、隔离罩和气体吹扫管路；所述涡轮泵本体包括若干叶片和叶片收容腔体，若干所述叶片沿所述叶片收容腔体的周向设置构成叶片层，且所述叶片相对于所述叶片收容腔体的侧壁倾斜设置；所述隔离罩盖合于所述涡轮泵本体的开口端；所述气体吹扫管路包括连接管路和支管路，所述连接管路贯穿所述隔离罩且与所述支管路连通，所述支管路的出气端朝向所述叶片设置。

3、本实用新型的所述涡轮泵的有益效果在于：通过所述隔离罩盖合于所述涡轮泵本体的开口端，使得颗粒物不会扩散到车间环境中，减少或避免了颗粒物对车间环境的污染，从而减少或避免了颗粒物污染晶圆产品；通过所述气体吹扫管路包括连接管路和支管路，所述连接管路贯穿所述隔离罩且与所述支管路连通，所述支管路的出气端朝向所述叶片设置，无需操作人员手持氮气枪，节省了人力；且所述支管路的出气端朝向所述叶片设置，使得从出气端吹出的吹扫气体能吹动叶片转动，从而提高了对叶片上颗粒物的清洁效果，避免了颗粒物在叶片上积累，延长了涡轮泵的寿命。

4、优选的，所述支管路设有至少3个，且至少3个所述支管路的出气端位于同一圆周上。其有益效果在于：有利于使出气端吹出的吹扫气体带动叶片转动，从而提高清洁效果。

5、优选的，当所述涡轮泵本体水平放置时，至少3个所述支管路的出气端在所述叶片层的上端面的投影连接形成出气端投影环，所述出气端投影环与所述叶片层的边缘的距离大于0且小于等于3cm。其有益效果在于：即所述出气端靠近所述叶片层的边缘设置，使得出气端吹出的吹扫气体有助于提高叶片的转速，从而提高清洁效果，距离大于3cm，叶片的转速过慢，清洁效果差。

6、优选的，所述支管路包括连通的横向支管路和倾斜支管路，所述横向支管路与所述叶片层的上端面平行设置，且所述横向支管路所在的平面和所述倾斜支管路所在的平面之间的夹角为45°～90°。其有益效果在于：有利于使出气端吹出的吹扫气体带动叶片转动，从而提高清洁效果。

7、优选的，所述倾斜支管路垂直于所述叶片的表面设置，且所述出气端所在的平面平行于所述叶片的表面所在的平面。其有益效果在于：使得出气端吹出的吹扫气体能正对着叶片吹扫，有利于提高叶片的转速，从而提高清洁效果。

8、优选的，所述涡轮泵还包括真空吸附管路，所述真空吸附管路与所述叶片收容腔体连通。其有益效果在于：通过真空吸附管路将颗粒吸走清除，防止二次污染。

9、优选的，所述叶片层设有多层，多层所述叶片层层叠设置，所述涡轮泵本体的侧壁设有用于连接所述真空吸附管路的阀门，且所述阀门的设置位置低于处于最底层的所述叶片层。其有益效果在于：便于通过真空吸附管路将颗粒吸走清除，防止二次污染。

10、优选的，所述出气端与所述叶片层的上端面之间的距离不小于3cm。其有益效果在于：避免对叶片造成干涉，以及防止损伤叶片。

11、优选的，至少3个所述支管路中任意相邻的所述支管路的夹角相同。其有益效果在于：有利于提高清洁效果，对叶片上的颗粒物实现全面清除。

12、优选的，所述隔离罩呈半球形结构，且所述隔离罩为不锈钢隔离罩。其有益效果在于：便于在所述隔离罩内设置气体吹扫管路。

13、优选的，所述半导体刻蚀设备包括所述涡轮泵。

技术特征：

1.一种涡轮泵，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的涡轮泵，其特征在于，所述支管路设有至少3个，且至少3个所述支管路的出气端位于同一圆周上。

3.根据权利要求1或2所述的涡轮泵，其特征在于，当所述涡轮泵本体水平放置时，至少3个所述支管路的出气端在所述叶片层的上端面的投影连接形成出气端投影环，所述出气端投影环与所述叶片层的边缘的距离大于0且小于等于3cm。

4.根据权利要求1所述的涡轮泵，其特征在于，所述支管路包括连通的横向支管路和倾斜支管路，所述横向支管路与所述叶片层的上端面平行设置，且所述横向支管路所在的平面和所述倾斜支管路所在的平面之间的夹角为45°～90°。

5.根据权利要求4所述的涡轮泵，其特征在于，所述倾斜支管路垂直于所述叶片的表面设置，且所述出气端所在的平面平行于所述叶片的表面所在的平面。

6.根据权利要求1所述的涡轮泵，其特征在于，还包括真空吸附管路，所述真空吸附管路与所述叶片收容腔体连通。

7.根据权利要求6所述的涡轮泵，其特征在于，所述叶片层设有多层，多层所述叶片层层叠设置，所述涡轮泵本体的侧壁设有用于连接所述真空吸附管路的阀门，且所述阀门的设置位置低于处于最底层的所述叶片层。

8.根据权利要求1所述的涡轮泵，其特征在于，所述出气端与所述叶片层的上端面之间的距离不小于3cm。

9.根据权利要求2所述的涡轮泵，其特征在于，至少3个所述支管路中任意相邻的所述支管路的夹角相同。

10.根据权利要求1所述的涡轮泵，其特征在于，所述隔离罩呈半球形结构，且所述隔离罩为不锈钢隔离罩。

11.一种半导体刻蚀设备，其特征在于，包括如权利要求1-10任意一项所述的涡轮泵。

技术总结本技术提供了一种涡轮泵和半导体刻蚀设备，所述涡轮泵包括涡轮泵本体、隔离罩和气体吹扫管路；所述涡轮泵本体包括若干叶片和叶片收容腔体，若干所述叶片沿所述叶片收容腔体的周向设置构成叶片层，且所述叶片相对于所述叶片收容腔体的侧壁倾斜设置；所述隔离罩盖合于所述涡轮泵本体的开口端；所述气体吹扫管路包括连接管路和支管路，所述连接管路贯穿所述隔离罩且与所述支管路连通，所述支管路的出气端朝向所述叶片设置。本技术减少或避免了颗粒物对车间环境的污染，且无需操作人员手持氮气枪，节省了人力，对叶片上颗粒物的清洁效果好，避免了颗粒物在叶片上积累，延长了涡轮泵的寿命。技术研发人员：请求不公布姓名受保护的技术使用者：芯恩（青岛）集成电路有限公司技术研发日：20231110技术公布日：2024/7/4