真空镀膜设备及真空镀膜方法与流程

本发明涉及真空镀膜，尤其涉及真空镀膜设备及真空镀膜方法。

背景技术：

1、真空镀膜是目前较为前沿的镀膜技术，应用范围也越来越广泛，如：玻璃领域，太阳能领域，电子产品领域、刀具生产领域等都应用到真空镀膜技术，其中，真空镀膜设备也从单室间歇式真空镀膜设备发展到多室连续式真空镀膜设备。

2、现有技术的立式连续真空镀膜生产线主要包括：进片室、镀膜室和出片室等，其中，进片室和镀膜室之间设有进片室闸阀，进片室闸阀能够连通或断开进片室和镀膜室之间的连通通道，出片室和镀膜室之间设有出片室闸阀，出片室闸阀能够连通或断开出片室和镀膜室之间的连通通道，且在进片室和镀膜室之间往往设置有前精抽室和前过渡室，在出片室和镀膜室之间往往设置有后过渡室和后精抽室。前精抽室、前过渡室、后过渡室和后精抽室均为被抽真空的真空腔室；且进片室、前精抽室、前过渡室、后过渡室、后精抽室和出片室均设置有输送机构，能够带动基板运动。具体地，输送机构带动基板依次经过进片室、前精抽室和前过渡室，并进入至镀膜室镀膜，待镀膜完成后再通过输送机构带动基板依次经过后过渡室、后精抽室和出片室，从而完成对一个基板的镀膜工作流程。

3、现有技术中的立式连续真空镀膜生产线结构较复杂，占用面积较大，导致生产成本较高。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供真空镀膜设备及真空镀膜方法，以解决现有技术中的立式连续真空镀膜生产线结构复杂，占用面积大，导致生产成本高的问题。

2、为达此目的，本发明采用以下技术方案：

3、真空镀膜设备，其包括两个基板输送室、基板交换室和真空镀膜室，其中一个所述基板输送室、所述基板交换室和另一个所述基板输送室沿第一方向依次设置，所述基板交换室还与所述真空镀膜室沿第二方向间隔设置，所述基板输送室能与所述基板交换室连通或断开，所述真空镀膜室还能与所述基板交换室连通或断开；

4、所述基板输送室设有第一平移机构，所述第一平移机构能够带动基板装载架沿所述第一方向运动，所述基板装载架用于装载基板；

5、所述基板交换室设有基板交换机构，所述基板交换机构被配置为能带动所述基板装载架沿所述第一方向运动，能带动所述基板装载架沿第二方向运动，且能带动所述基板装载架沿第三方向升降，所述第一方向和所述第二方向相互垂直且均垂直于所述第三方向；

6、所述真空镀膜室的中心区域设有中心毂架，以及沿周向围设至所述中心毂架的外周的多个镀膜源，所述中心毂架能带动所述基板装载架绕自身中心轴线转动。

7、作为优选，所述基板交换机构包括第二平移机构、第三平移机构和升降机构，所述第二平移机构能够带动所述基板装载架沿所述第一方向运动，所述第三平移机构能够带动至少部分所述第二平移机构、所述升降机构和所述基板装载架同步沿所述第二方向运动，所述升降机构能够带动至少部分所述第二平移机构和所述基板装载架同步沿所述第三方向升降。

8、作为优选，所述第二平移机构包括安装基体、第二滚轮组件和第二驱动组件，所述安装基体设置于所述升降机构的输出端，所述第二滚轮组件包括多个沿所述第一方向间隔分布且均转动设置于所述安装基体的第二滚轮组，所述基板装载架能放置于所述第二滚轮组，所述第二驱动组件被配置为能与多个所述第二滚轮组连接或分离，且能带动多个所述第二滚轮组转动于所述安装基体。

9、作为优选，所述第二驱动组件包括第二驱动件、连接分离结构和第二传动组件，所述第二驱动件的输出轴与所述连接分离结构的一端连接，所述第二传动组件用于将所述连接分离结构的另一端与多个所述第二滚轮组传动连接。

10、作为优选，所述第二传动组件包括多个第三斜齿轮、转动设置于所述安装基体的第二传动轴，以及固定设置于所述第二传动轴的多个第四斜齿轮，多个所述第三斜齿轮和多个所述第四斜齿轮一一对应设置并啮合，且多个所述第三斜齿轮与多个所述第二滚轮组一一对应设置，所述第三斜齿轮固定设置于所述第二滚轮组的轮轴，所述连接分离结构的另一端与其一所述第二滚轮组的轮轴连接。

11、作为优选，所述连接分离结构包括离合器。

12、作为优选，所述第二滚轮组包括多个沿所述第二方向间隔分布且均转动设置于所述安装基体的第二滚轮，沿所述第二滚轮的轴向，至少两个相邻的所述第二滚轮的轮轴之间通过第二活动结构连接，所述基板装载架能放置于所述第二滚轮上。

13、作为优选，所述第三平移机构包括第三驱动组件，以及沿所述第二方向滑动设置于所述基板交换室的第二安装壳体的安装底板，所述升降机构设置于所述安装底板且位于所述安装基体和所述安装底板之间，所述第三驱动组件能带动所述安装底板沿所述第二方向滑动。

14、作为优选，所述第三驱动组件包括设置于所述第二安装壳体的第三驱动件和滚轴丝杆组件，所述第三驱动件的输出轴与所述滚轴丝杆组件的输入端连接，所述滚轴丝杆组件的输出端与所述安装底板连接。

15、作为优选，所述滚轴丝杆组件包括螺纹连接的丝杆和丝杆螺母，所述第三驱动件的输出轴和所述丝杆连接，所述丝杆螺母与所述安装底板连接。

16、作为优选，所述第二安装壳体和所述安装底板中的一个设置有沿所述第二方向延伸的滑轨，另一个设置有沿所述第二方向延伸的滑块，所述滑轨与所述滑块滑动配合。

17、作为优选，所述升降机构包括设置于所述安装底板的升降驱动件和升降伸缩架，所述升降伸缩架的两端分别与所述安装底板和所述安装基体连接，所述升降驱动件能够带动所述升降伸缩架沿所述第三方向伸缩。

18、作为优选，所述中心毂架沿周向间隔设有多个挂接组件，所述挂接组件包括沿所述中心毂架的高度方向间隔分布的两个挂钩，所述基板装载架沿高度方向间隔设置有两个挂接部，所述挂接部用于与所述挂钩挂接。

19、作为优选，所述基板输送室设有第一抽真空组件，所述基板交换室设有第二抽真空组件，所述真空镀膜室设有第三抽真空组件。

20、作为优选，所述基板输送室和所述基板交换室之间设置有第一闸阀，所述第一闸阀能够连通或断开所述基板输送室和所述基板交换室。

21、作为优选，所述真空镀膜室与所述基板交换室的连通处设置有开合门，所述开合门能够连通或断开所述真空镀膜室与所述基板交换室。

22、真空镀膜方法，用于实施于上述的真空镀膜设备，两个所述基板输送室分别为第一基板输送室和第二基板输送室，所述真空镀膜方法包括：

23、将待镀膜的基板装配于基板装载架；对所述基板交换室和所述真空镀膜室均抽真空；

24、将所述基板装载架放置于所述第一基板输送室的第一平移机构上；关闭所述第一基板输送室；对所述第一基板输送室抽真空；

25、当所述第一基板输送室为设定真空环境后，连通所述第一基板输送室和所述基板交换室；

26、所述第一平移机构和所述基板交换机构带动所述基板装载架沿所述第一方向运动至所述基板交换室；断开所述第一基板输送室和所述基板交换室；连通所述基板交换室和所述真空镀膜室；

27、所述基板交换机构带动所述基板装载架沿所述第一方向运动至正对所述真空镀膜室的位置；所述基板交换机构带动所述基板装载架沿所述第二方向运动至所述基板交换室和所述真空镀膜室的连通处；所述基板交换机构带动所述基板装载架沿所述第三方向升降，并将所述基板装载架挂接于所述中心毂架；

28、所述中心毂架转动设定角度，将已经镀膜完成的基板对应的基板装载架转动至所述真空镀膜室与所述基板交换室的连通处；

29、所述基板交换机构将已经镀膜完成的基板对应的基板装载架从所述中心毂架上拆离，并带动已经镀膜完成的基板对应的基板装载架进入所述基板交换室；

30、断开所述基板交换室和所述真空镀膜室；连通所述基板交换室和所述第二基板输送室；

31、所述基板交换机构带动已经镀膜完成的基板对应的基板装载架运动至所述基板交换室和所述第二基板输送室的连通处；

32、所述第二基板输送室的第一平移机构带动已经镀膜完成的基板对应的基板装载架沿所述第一方向运动至接收终端。

33、本发明的有益效果：

34、本发明的目的在于提供了真空镀膜设备及真空镀膜方法，该真空镀膜设备包括两个基板输送室、基板交换室和真空镀膜室，其中，其中一个基板输送室、基板交换室和另一个基板输送室沿第一方向依次设置，基板交换室还与真空镀膜室沿第二方向间隔设置，第一方向和第二方向相互垂直，可以理解的，两个基板输送室中的任一个可作为将基板输送至真空镀膜室的进片室，另一个作为将基板输送出真空镀膜设备的出片室，基板交换室能够将基板送至真空镀膜室，也能够将基板输送至基板输送室。具体地，真空镀膜设备在对基板进行镀膜时，将基板装载于基板装载架，其中一个基板输送室的第一平移机构带动基板装载架沿第一方向运动，将基板输送至基板交换室，基板交换室的基板交换机构带动基板装载架沿第一方向运动至正对真空镀膜室的位置，基板交换机构再带动基板装载架沿第二方向运动至基板交换室和真空镀膜室的连通处，然后基板交换机构再带动基板装载架沿第三方向升降，并将基板装载架挂接于中心毂架，中心毂架带动基板装载架绕其中心轴线转动，设置于中心毂架的外周的镀膜源对基板装载架上的基板进行镀膜，以实现对基板镀膜，当对基板镀膜完成后，中心毂架带动基板装载架绕其中心轴线转动至基板交换室和真空镀膜室的连通处，基板交换机构将基板装载架从中心毂架上拆离，并带动基板装载架进入基板交换室，基板交换机构再带动基板装载架运动至基板交换室和另一个基板输送室的连通处，另一个基板输送室的第一平移机构再带动基板装载架沿第一方向运动至接收终端。

35、相对于现有技术中的立式连续真空镀膜生产线设置多个真空腔室而言，该真空镀膜设备的结构简单，占用面积小，有效降低了真空镀膜设备的生产成本；其次，该真空镀膜设备，可以以两个基板输送室中的任一个可作为将基板输送至真空镀膜室的进片室，另一个作为将基板输送出真空镀膜设备的出片室，有效提升了真空镀膜设备通用性和实用性，也便于加工真空镀膜设备，从而进一步降低了真空镀膜设备的生产成本。