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雾化设备的制作方法

  • 国知局
  • 2024-10-21 14:19:38

本申请涉及电子雾化领域,特别是涉及雾化设备。

背景技术:

1、雾化器是一种可以通过加热雾化基质,使雾化基质雾化产生雾气的产品。在目前市场上的雾化设备中,通常需要使用导线将雾化设备中的电路板、电池以及气流传感器等电气元件电连接。

2、雾化设备中,通常在雾化设备的出气通道中设置吸附件,用于吸附出气口通道中的冷凝液。然而,在现有的雾化设备中,需要设置吸附件支架来固定安装吸附件,增加了成本。

技术实现思路

1、本申请主要解决的技术问题是提供雾化设备,能够提高降低雾化设备的成本。

2、为解决上述技术问题,本申请采用的一个技术方案是:提供一种雾化设备,包括:

3、雾化组件,设有雾化空间,用于将雾化基质在所述雾化空间雾化形成气溶胶;

4、第一壳体,具有并列设置的第一安装位和第二安装位,所述雾化组件设置于所述第一安装位,所述第二安装位用于安装电池;

5、第二壳体,包覆在所述第一壳体的外周;

6、吸嘴组件,包括吸附件和吸嘴,所述吸嘴与所述第二壳体密封连接,所述吸嘴设有出气通道,所述出气通道与所述雾化空间连通,所述吸附件安装于所述吸嘴内,并围绕所述出气通道的通道口设置。

7、可选地,所述吸嘴设有限位槽和设置于限位槽内的出气管道,所述吸附件安装于所述限位槽中,所述出气通道设于所述出气管道中。

8、可选地,所述吸附件设有过气孔,所述过气孔两端分别连通所述出气通道和所述雾化空间;

9、所述吸附件的一侧抵接于所述第一壳体,所述吸附件的另一侧抵接于所述出气管道。

10、可选地,所述吸嘴中所述限位槽的侧壁设有限位部,所述吸附件卡入所述限位部中。

11、可选地,所述雾化组件包括储液件,所述储液件存储有雾化基质,所述储液件安装于所述第一安装位,所述第一安装位与所述出气通道连通。

12、可选地,所述雾化组件还包括电路板,所述电路板设置于所述第一壳体的一侧,分别与所述电池和所述雾化组件电连接。

13、可选地,所述雾化组件包括储液件、导液件和加热体,所述雾化空间设于所述储液件中,所述导液件和所述加热体设置在所述雾化空间内,所述导液件与所述储液件连接,所述加热体与所述导液件连接,所述导液件用于将所述雾化基质引导至所述加热体,所述加热体将所述雾化基质雾化形成气溶胶。

14、可选地,所述雾化组件还包括与所述加热体连接的加热体引脚,所述第一壳体在第一安装位的底部设有第一进气通道和引脚孔,所述第一进气通道和所述引脚孔都连通所述雾化空间,所述加热体引脚穿过所述引脚孔与所述电路板电连接。

15、可选地,所述雾化设备还包括气流支架,所述气流支架与所述电路板固定连接,所述气流支架设有第二进气通道,所述电路板设有贯通所述电路板两侧的第一进气口,所述第一进气口与所述第二进气通道连通,所述第二进气通道与所述第一进气通道连通。

16、可选地,所述雾化设备还包括底盖,所述底盖连接于所述第一壳体远离所述吸嘴组件的一侧,所述底盖设有朝向所述第二壳体的通气槽,所述通气槽连通所述雾化组件,所述底盖的底部设有连通外界和所述通气槽的第二进气口。

17、本申请的有益效果是:本申请的雾化设备包括雾化组件、第一壳体、第二壳体和吸嘴组件。雾化组件设有雾化空间,用于将雾化基质在雾化空间雾化形成气溶胶。第一壳体具有并列设置的第一安装位和第二安装位,雾化组件设置于第一安装位,第二安装位用于安装电池。第二壳体包覆在第一壳体的外周。吸嘴组件包括吸附件和吸嘴,吸嘴与第二壳体密封连接,吸嘴设有出气通道,出气通道与雾化空间连通,吸附件安装于吸嘴内,并围绕出气通道的通道口设置。区别于现有技术的情况,本申请的吸附件安装于吸嘴中,无需设置吸附件支架,降低了生产成本。

技术特征:

1.一种雾化设备,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的雾化设备,其特征在于,

3.根据权利要求2所述的雾化设备,其特征在于,

4.根据权利要求2所述的雾化设备,其特征在于,

5.根据权利要求1所述的雾化设备,其特征在于,

6.根据权利要求1所述的雾化设备,其特征在于,

7.根据权利要求6所述的雾化设备,其特征在于,

8.根据权利要求7所述的雾化设备,其特征在于,

9.根据权利要求8所述的雾化设备,其特征在于,

10.根据权利要求1所述的雾化设备,其特征在于,

技术总结本申请公开了雾化设备。雾化设备包括雾化组件、第一壳体、第二壳体和吸嘴组件。雾化组件设有雾化空间,用于将雾化基质在雾化空间雾化形成气溶胶。第一壳体具有并列设置的第一安装位和第二安装位,雾化组件设置于第一安装位,第二安装位用于安装电池。第二壳体包覆在第一壳体的外周。吸嘴组件包括吸附件和吸嘴,吸嘴与第二壳体密封连接,吸嘴设有出气通道,出气通道与雾化空间连通,吸附件安装于吸嘴内,并围绕出气通道的通道口设置。通过上述方式,本申请雾化设备制造成本低。技术研发人员:沈礼周受保护的技术使用者:爱奇迹(香港)有限公司技术研发日:技术公布日:2024/10/17

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