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微纳印刷云膜及其规模化制造工艺的制作方法

  • 国知局
  • 2024-11-06 14:55:08

本发明涉及微纳印刷云膜,更具体地说,涉及一种微纳印刷云膜及其规模化制造工艺。

背景技术:

1、纳米印刷云膜是一种集微光学、微纳米加工及微缩印刷于一体,兼具包装和防伪功能的全视角裸眼3d薄膜。它通过在薄膜上形成微光学陈列结构,实现动态、立体图文效果,具有视觉冲击力强、效果新颖独特、易于识别、防伪难度高,纳米印刷云膜可作为包装印刷材料,能与猫眼、全息、浮雕等工艺相结合,制作成各类纸质包装盒以及食品、面膜袋等各类软包装,并兼容纹理、压纹、凹凸等所有后道工艺。同时,它也可作为防伪标签的基材,与二维码、rfid相结合,制作成各种形式的云膜防伪标签,实现商品的防伪追溯。

2、目前在微纳印刷云膜的制造过程中,通常会采用在柱透镜立体光栅表面进行立体印刷的方式形成图案,目前印刷工艺主要有两种方式,一种是在光栅材料上直接印刷,另一种是先在纸张上印刷再粘贴到光栅上或粘贴到塑料薄膜上再压出光栅。光栅厚度在0.008-0.385英寸之间。因此,如果印刷套印不准哪怕是极其微小的偏差,印出的产品都会变成废品很细小的差距都会影响整个版面的效果,因此光栅立体印刷对印刷设备的精度要求很高,套印误差应该小于0.0lmm,鉴于此,我们提出一种微纳印刷云膜及其规模化制造工艺。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种微纳印刷云膜及其规模化制造工艺,以解决现有印刷工艺对于设备的精度要求较高,且版面立体感较低的技术问题。

2、为解决上述技术问题,本发明提供如下技术方案:一种微纳印刷云膜,包括微纳印刷云膜组件;

3、所述微纳印刷云膜组件包括一侧设置有填充层的光栅部件,所述光栅部件远离填充层的一面设置有pet基膜,所述pet基膜远离光栅部件的一面设置有立体印刷层;

4、所述光栅部件包括表面等距分布设置有多个柱透镜立体光棱a的光栅板,所述光栅板位于相邻两个柱透镜立体光棱a间设置有柱透镜立体光栅棱b,所述柱透镜立体光棱a两侧底部与柱透镜立体光栅棱b间形成有凹透镜立体光棱槽,所述柱透镜立体光棱a和柱透镜立体光栅棱b均凸出设置于光栅板的表面,且柱透镜立体光棱a凸出高度高于柱透镜立体光栅棱b。

5、本发明通过在光栅板的表面形成柱透镜立体光棱a和柱透镜立体光栅棱b,并在柱透镜立体光棱a和柱透镜立体光栅棱b之间形成凹透镜立体光棱槽,柱透镜立体光棱a和柱透镜立体光栅棱b的凸镜效果对比凹透镜立体光棱槽的凹镜效果有利于显著提升立体印刷层涂布完成后的位置错动效果,从而增强立体印刷层的立体感。

6、本发明还通过设计将柱透镜立体光棱a的凸出高度高于柱透镜立体光栅棱b,从而在同一角度下对立体印刷层呈现两组远近不一的图像,从而营造显著的景深变化,从而进一步提升了立体印刷层涂布完成后的位置错动效果,进而进一步增强立体印刷层的立体感。

7、一种微纳印刷云膜规模化制造工艺,包括以下步骤;

8、s1、基膜准备;

9、精选具有高透光率、良好热稳定性和化学稳定性的pet基膜材料;

10、实施深度预处理:包括多阶段清洗、表面活化处理以及微观形貌调整,以最大化基膜与后续涂层的结合力;

11、s2、高精度离型层涂布;

12、采用精密涂布设备,微凹版涂布机和狭缝式涂布头,在预处理后的基膜上均匀涂布一层具有优异释放性和附着力的离型层;

13、s3、图文层立体涂布;

14、将主体图片置于计算机内进行分色,并通过光刻机进行雕刻制版,利用高精度涂布机,在离型层上多次涂布出具有高分辨率且边缘清晰的图文层;

15、s4、功能性eva层优化涂布;

16、在图文层之上,采用特制的涂布工艺和设备,均匀涂布一层具有特定物理和化学性质的eva层;

17、s5、光栅层制备;

18、通过纳米级超精密加工中心加工版,制版精度为600线,通过涂布机涂布一层高透热塑性材料,其中高邮热塑性材料的折射率为1.4;

19、s6、填充层制备;

20、在光栅层的表面通过涂布机涂布一层热塑性材料,其中热塑性材料的折射率为1.6;

21、s7、防护层制备;

22、在eva层的表面涂布耐磨层和防水层,提升了云膜的耐用性和稳定性。

23、优选的,所述s1中,采用超声波清洗与溶剂清洗结合的方式对pet基膜材料进行充分清洗,采用等离子体、臭氧以及紫外线照射的方式对pet基膜材料进行表面活化处理,采用纳米粒子沉积或化学蚀刻的方式对pet基膜材料的微观形貌进行调整。

24、优选的,所述s2中,引入在线厚度监测与调整机制,实现离型层厚度的纳米级精度控制,以优化其释放性能和附着强度。

25、优选的,所述s3中,图文层涂布完成后,应用uv固化技术,提升图文层的耐磨性、耐化学性和长期稳定性。

26、优选的,所述s4中,实施多段涂布与局部加热技术,控制eva层的厚度梯度与固化速率,以适应不同微纳结构的加工需求。

27、与现有技术相比,本发明的有益效果是:

28、1、本发明通过在光栅板的表面形成柱透镜立体光棱a和柱透镜立体光栅棱b,并在柱透镜立体光棱a和柱透镜立体光栅棱b之间形成凹透镜立体光棱槽,柱透镜立体光棱a和柱透镜立体光栅棱b的凸镜效果对比凹透镜立体光棱槽的凹镜效果有利于显著提升立体印刷层涂布完成后的位置错动效果,从而增强立体印刷层的立体感。

29、2、本发明还通过设计将柱透镜立体光棱a的凸出高度高于柱透镜立体光栅棱b,从而在同一角度下对立体印刷层呈现两组远近不一的图像,从而营造显著的景深变化,从而进一步提升了立体印刷层涂布完成后的位置错动效果,进而进一步增强立体印刷层的立体感。

30、3、本发明还通过采用涂布的工艺在pet基膜的表面形成立体印刷层,多层涂布工艺相较于传统印刷工艺有利于降低对设备的精度要求,有利于提升版面效果和精度,且多层涂布的方式有利于使得图案呈现层级效果,从而提升图案的立体感,解决了现有印刷工艺对于设备的精度要求较高,且版面立体感较低的问题。

技术特征:

1.一种微纳印刷云膜,其特征在于,包括微纳印刷云膜组件(1);

2.一种微纳印刷云膜规模化制造工艺,包括如权利要求1所述的一种微纳印刷云膜,其特征在于,包括以下步骤;

3.根据权利要求2所述的一种微纳印刷云膜规模化制造工艺,其特征在于,所述s1中,采用超声波清洗与溶剂清洗结合的方式对pet基膜材料进行充分清洗,采用等离子体、臭氧以及紫外线照射的方式对pet基膜材料进行表面活化处理,采用纳米粒子沉积或化学蚀刻的方式对pet基膜材料的微观形貌进行调整。

4.根据权利要求2所述的一种微纳印刷云膜规模化制造工艺,其特征在于,所述s2中,引入在线厚度监测与调整机制,实现离型层厚度的纳米级精度控制,以优化其释放性能和附着强度。

5.根据权利要求2所述的一种微纳印刷云膜规模化制造工艺,其特征在于,所述s3中,图文层涂布完成后,应用uv固化技术,提升图文层的耐磨性、耐化学性和长期稳定性。

6.根据权利要求2所述的一种微纳印刷云膜规模化制造工艺,其特征在于,所述s4中,实施多段涂布与局部加热技术,控制eva层的厚度梯度与固化速率,以适应不同微纳结构的加工需求。

技术总结本发明公开了一种微纳印刷云膜及其规模化制造工艺,涉及微纳印刷云膜技术领域,旨在解决现有印刷工艺对于设备的精度要求较高,且版面立体感较低的技术问题,包括微纳印刷云膜组件,微纳印刷云膜组件包括一侧设置有填充层的光栅部件,光栅部件远离填充层的一面设置有PET基膜,PET基膜远离光栅部件的一面设置有立体印刷层,光栅部件包括表面等距分布设置有多个柱透镜立体光棱A的光栅板,光栅板位于相邻两个柱透镜立体光棱A间设置有柱透镜立体光栅棱B,柱透镜立体光棱A两侧底部与柱透镜立体光栅棱B间形成有凹透镜立体光棱槽。本发明具有增强立体印刷层的立体感的优点。技术研发人员:方崇坤,曹长宏受保护的技术使用者:温州云漫数字印刷有限公司技术研发日:技术公布日:2024/11/4

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