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一种载带成型压颗粒装置的制作方法

  • 国知局
  • 2024-12-26 16:22:11

本技术涉及载带生产,尤其是指一种载带成型压颗粒装置。

背景技术:

1、目前载带成型模没有压颗粒装置,因材料本身为颗粒状,在溶胶挤出载带成型后,极少部分材料很难完全溶解,导致部分载带平面会有凸点,凸点会对载带的使用有影响,产生品质隐患。现有技术中为了解决凸点的问题,如专利cn201921164825.1所公开的载带成型机的加热成型装置,其设置有压料带进行压料,但是这种方式需要有两个结构来安装压料带,两个结构也必须分开设置,所以就会出现结构比较多、散乱等情况,安装过程比较麻烦,占用空间也大,而且需要调整好两个结构的位置来保持压料带具有压料的效果,所以需要经常调整压料带的位置才能保持好的压料效果。

技术实现思路

1、本实用新型针对现有技术的问题提供一种载带成型压颗粒装置,对于成型的载带,先通过加热机构进行加热,再通过压料机构将载带的表面压平,减少凸点,通过压轮与加热结构来配合压料,结构上更简单,易于安装,不需要占用太多的空间。

2、为了解决上述技术问题,本实用新型采用如下技术方案:一种载带成型压颗粒装置,包括成型机构、加热机构以及压料机构,所述成型机构用于载带的成型,所述加热机构位于成型机构的一侧,所述压料机构包括压轮,所述压轮与加热机构之间形成压料通道,成型的载带沿加热机构的外周移动至压料通道,经由压料机构的压料后出料。

3、优选的,所述加热机构位于压轮和成型机构之间。

4、优选的,所述压料机构还包括固定组件,所述固定组件包括固定座、固定块、固定柱、固定轴以及压轮轴,所述压轮套设于压轮轴的外周,所述固定轴与压轮轴同轴设置,所述固定轴的两端分别通过两个所述固定柱装配至固定块,所述固定块设置于固定座。

5、优选的,所述固定块开设有条形孔,所述固定座开设有螺孔,通过螺丝穿设条形孔并与螺孔螺接以使固定块安装于固定座。

6、优选的,所述压轮开设有若干环形槽,若干所述环形槽等间隔设置。

7、优选的,所述加热机构包括加热本体、外盖、内盖以及加热主轴,所述外盖和内盖分别安装在加热本体的两端,所述内盖装设于加热主轴。

8、优选的,所述成型机构包括成型模、成型辅助轮以及驱动机构,所述成型辅助轮位于成型模的下方,载带由成型模与成型辅助轮之间挤出,所述驱动机构用于驱动成型模转动。

9、优选的,所述驱动机构包括驱动件、主动轮以及从动轮,所述主动轮与从动轮啮合,所述加热机构和成型模均装设有从动轮,所述驱动件驱动主动轮转动。

10、本实用新型的有益效果:

11、本实用新型提供的一种载带成型压颗粒装置,成型的载带先经过加热机构的加热,保持一定的温度,再由压料通道经过,经由压轮与加热机构之间的挤压,来实现压平载带上的凸点的效果。结构简单,只需要安装好压轮与加热机构之间的位置,避免占用太多的空间。

技术特征:

1.一种载带成型压颗粒装置,其特征在于:包括成型机构、加热机构以及压料机构,所述成型机构用于载带的成型,所述加热机构位于成型机构的一侧,所述压料机构包括压轮,所述压轮与加热机构之间形成压料通道,成型的载带沿加热机构的外周移动至压料通道,经由压料机构的压料后出料;

2.根据权利要求1所述一种载带成型压颗粒装置,其特征在于:所述加热机构位于压轮和成型机构之间。

3.根据权利要求2所述一种载带成型压颗粒装置,其特征在于:所述压料机构还包括固定组件,所述固定组件包括固定座、固定块、固定柱、固定轴以及压轮轴,所述压轮套设于压轮轴的外周,所述固定轴与压轮轴同轴设置,所述固定轴的两端分别通过两个所述固定柱装配至固定块,所述固定块设置于固定座。

4.根据权利要求3所述一种载带成型压颗粒装置,其特征在于:所述固定块开设有条形孔,所述固定座开设有螺孔,通过螺丝穿设条形孔并与螺孔螺接以使固定块安装于固定座。

5.根据权利要求2所述一种载带成型压颗粒装置,其特征在于:所述压轮开设有若干环形槽,若干所述环形槽等间隔设置。

6.根据权利要求1所述一种载带成型压颗粒装置,其特征在于:所述驱动机构包括驱动件、主动轮、第一从动轮以及第二从动轮,所述驱动件驱动主动轮转动,所述主动轮与第一从动轮啮合,所述第一从动轮与第二从动轮啮合,所述主动轮装设于所述成型模,所述第二从动轮装设于加热机构。

技术总结本技术涉及载带生产技术领域,尤其是指一种载带成型压颗粒装置,包括成型机构、加热机构以及压料机构,所述成型机构用于载带的成型,所述加热机构位于成型机构的一侧,所述压料机构包括压轮,所述压轮与加热机构之间形成压料通道,成型的载带沿加热机构的外周移动至压料通道,经由压料机构的压料后出料。本技术提供的载带成型压颗粒装置,成型的载带先经过加热机构的加热,保持一定的温度,再由压料通道经过,经由压轮与加热机构之间的挤压,来实现压平载带上的凸点的效果。技术研发人员:林鹏,刘志清,胡巍受保护的技术使用者:湖北勤为半导体材料有限责任公司技术研发日:20231201技术公布日:2024/12/12

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