晶圆缺陷增强处理方法、装置、存储介质及电子设备与流程
- 国知局
- 2025-01-10 13:13:09
本申请涉及工业视觉智能检测,尤其是涉及到一种晶圆缺陷增强处理方法、装置、存储介质及电子设备。
背景技术:
1、半导体晶圆产品如碳化硅在生产过程中,由于工艺的精度要求高,工序复杂问题,导致产品在生产过程中不可避免的出现瑕疵。人工对于此类产品的质量判定不仅需要高精度仪器的辅助,而且检测的效率较低,因此检测设备是一个更好的选择。检测设备在能够提高生产效率的同时,也能够更方便的观察缺陷的分布情况与原因,为前端生产工艺提供改良方向。
2、高精度的成像在实际采图过程中时常出现抖动,极易出现虚焦或像素波动较大的情况。基于此种现象,在弱缺陷检测时,单纯的依赖ai模型进行分割,难以控制缺陷与背景的有效区分。因此在缺陷检测前需要对缺陷进行增强处理,提高缺陷检出稳定性。
3、目前,对于晶圆弱缺陷,通常可使用对比度拉伸、像素指数、局部像素增强等方式,提高晶圆弱缺陷与背景的对比度。然而,单纯的对比度增强容易受到离群噪点的影响,导致晶圆弱缺陷增强效果不明显。
技术实现思路
1、有鉴于此,本申请提供了一种晶圆缺陷增强处理方法、装置、存储介质及电子设备,主要目的在于能够提升晶圆弱缺陷的增强效果。
2、依据本申请的第一方面,提供了一种晶圆缺陷增强处理方法,该方法包括:
3、获取待处理的晶圆图像;
4、统计所述晶圆图像中的像素值分布;
5、根据所述像素值分布,确定所述晶圆图像对应的背景像素区域;
6、基于所述背景像素区域对所述晶圆图像进行灰度抑制,得到灰度抑制后的晶圆图像;
7、基于所述灰度抑制后的晶圆图像,进行缺陷对比度增强。
8、依据本申请的第二方面,提供了一种晶圆缺陷增强处理装置,该装置包括:
9、获取单元,用于获取待处理的晶圆图像;
10、统计单元,用于统计所述晶圆图像中的像素值分布;
11、确定单元,用于根据所述像素值分布,确定所述晶圆图像对应的背景像素区域;
12、抑制单元,用于基于所述背景像素区域对所述晶圆图像进行灰度抑制,得到灰度抑制后的晶圆图像;
13、增强单元,用于基于所述灰度抑制后的晶圆图像,进行缺陷对比度增强。
14、依据本申请的第三方面,提供了一种存储介质,其上存储有计算机程序,所述程序被处理器执行时实现上述晶圆缺陷增强处理方法。
15、依据本申请的第四方面,提供了一种电子设备,包括存储介质、处理器及存储在存储介质上并可在处理器上运行的计算机程序,所述处理器执行所述程序时实现上述晶圆缺陷增强处理方法。
16、借由上述技术方案,本申请提供的一种晶圆缺陷增强处理方法、装置、存储介质及电子设备,与现有技术相比,通过统计晶圆图像中的像素值分布,并根据像素值分布,确定晶圆图像对应的背景像素区域,能够基于背景像素区域对晶圆图像进行灰度抑制,从而能够降低明显缺陷在灰度拉伸时对弱缺陷的影响,即本申请通过抑制对比度高的噪点,能够在保持明显缺陷效果不变的情况下,增强弱缺陷。
17、上述说明仅是本申请技术方案的概述,为了能够更清楚了解本申请的技术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并且为了让本申请的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂,以下特举本申请的具体实施方式。
技术特征:1.一种晶圆缺陷增强处理方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述统计所述晶圆图像中的像素值分布,包括:
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述像素值分布,确定所述晶圆图像对应的背景像素区域,包括:
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述基于所述像素值分布,拟合关于像素值和像素频次的函数曲线,包括:
5.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述根据所述峰值,确定所述晶圆图像对应的背景像素区域,包括:
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述背景像素区域对所述晶圆图像进行灰度抑制,得到灰度抑制后的晶圆图像,包括:
7.根据权利要求1-6任一项所述的方法,其特征在于,所述在基于所述背景像素区域对所述晶圆图像进行灰度抑制,得到灰度抑制后的晶圆图像之后,所述方法还包括:
8.一种晶圆缺陷增强处理装置,其特征在于,包括:
9.一种存储介质,其上存储有计算机程序,其特征在于,所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1至7中任一项所述的方法。
10.一种电子设备,包括存储介质、处理器及存储在存储介质上并可在处理器上运行的计算机程序,其特征在于,所述处理器执行所述计算机程序时实现权利要求1至7中任一项所述的方法。
技术总结本申请公开了一种晶圆缺陷增强处理方法、装置、存储介质及电子设备,涉及工业视觉智能检测技术领域。其中方法包括:获取待处理的晶圆图像;统计所述晶圆图像中的像素值分布;根据所述像素值分布,确定所述晶圆图像对应的背景像素区域;基于所述背景像素区域对所述晶圆图像进行灰度抑制,得到灰度抑制后的晶圆图像;基于所述灰度抑制后的晶圆图像,进行缺陷对比度增强。本申请能够提升晶圆弱缺陷的增强效果。技术研发人员:杨训根,张武杰受保护的技术使用者:中科慧远半导体技术(广东)有限公司技术研发日:技术公布日:2025/1/6本文地址:https://www.jishuxx.com/zhuanli/20250110/351682.html
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