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一种掩模版及制备方法与流程
本技术涉及薄膜,尤其涉及一种掩模版及制备方法。背景技术:1、目前,在显示面板的制备工艺中,常用的掩模版采用硅材料制备得到,可以实现较高分辨率像素结构图形的制备。但是,在显示面板的制备过程中,掩模版需要......
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文本输入模版处理方法、装置及存储介质与流程
本发明涉及数据处理,尤其涉及一种文本输入模版处理方法、装置及存储介质。背景技术:1、在相关技术中,为了能够满足各种业务需求,一般会创建多种类型的文本输入模版以应对不同的场合使用需要,而且,随着业务需求......
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一种光掩模版及提高光掩模版显影均匀性的方法与流程
本发明属于光掩模版加工,涉及一种光掩模版及提高光掩模版显影均匀性的方法。背景技术:1、光刻工艺之所以能够成功地推动集成电路芯片向更小、更快、更高效的方向发展,应该得益于成像光学这一重要的技术载体。光刻......
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基于Excel模版的云产品数据加载动态处理及解析方法及系统与流程
本发明属于云产品数据解析领域,尤其涉及一种基于excel模版的云产品数据加载动态处理及解析方法及系统。背景技术:1、现有技术方案:2、为了满足市场需求,云计算产品不断涌现,不同种类云产品规格属性千差万......
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掩模版粉盒开启器的制作方法
本公开总体上涉及光刻工艺,更具体地,涉及提供掩模版(reticle)粉盒(compactbox)开启器的设备、系统和方法。背景技术:1、掩模版(也称为分划板或掩模版片)是构建到例如光刻透镜中以提供参考......
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一种MicroOLED高精度蒸镀掩模版多阶段清洗系统及清洗方法与流程
本发明属于micro oled掩模版清洗,具体涉及一种micro oled高精度蒸镀掩模版多阶段清洗系统及清洗方法。背景技术:1、micro oled掩模版清洗设备用于去除晶圆蒸镀掩膜版网面可能存在的......
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一种激光模版缝纫机的制作方法
本发明涉及缝纫机械,具体涉及一种激光模版缝纫机。背景技术:1、模板缝纫机是指结合服装模板cad软件、服装模板缝制cad软件以及先进的数控技术进行全自动应用模板生产,提升了生产效率和产品品质,降低了技术......
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一种高精度的模版机的制作方法
本技术涉及模版机,具体为一种高精度的模版机。背景技术:1、模版机就是模板缝纫机,是指结合服装模板软件、服装模板缝制软件以及先进的数控技术进行全自动应用模板生产,提升了生产效率和产品品质,降低了技术工人......
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一种清废上模版前端可单独调整的快速锁版机构的制作方法
本技术涉及一种锁版机构,尤其是涉及一种清废上模版前端可单独调整的快速锁版机构。背景技术:1、在现有印刷后道设备平压平模切清废机中,客户根据产品需要在清废上框自行装清废针或清废条等清废工具,这种装版多采......
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一种辅助绘制不同琢型刻面宝石正视图的模版尺
本技术涉及首饰设计和绘画,尤其涉及能辅助首饰设计绘图的模版尺,具体是一种用于辅助绘制不同琢型刻面宝石的正视图的模版尺。背景技术:1、珠宝首饰设计师在设计珠宝作品时,首饰的设计通常会使用不同大小和不同琢......
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掩模版保护膜结构及掩模结构的制作方法
本技术涉及半导体制造,尤其涉及一种掩模版保护膜结构及掩模结构。背景技术:1、掩模版是集成电路光刻工艺生产的图案模板,为了确保在晶圆表面形成的刻蚀图案的准确性,需要确保掩模版上的有效图形区域不存在任何污......
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用于校准掩模版热效应的方法和系统与流程
本公开涉及掩模版校准装置、系统和方法,例如用于减少光刻工艺中的热效应的掩模版校准装置、系统和方法。背景技术:1、光刻设备是被构造为将所需图案施加到衬底上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(ic)的制......
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光刻掩模版的清洁方法及设备与流程
本发明涉及半导体光刻工艺,特别是涉及一种光刻掩模版(也称为光罩、光刻板)的清洁方法,还涉及一种光刻掩模版的清洁设备。背景技术:1、近年来随着芯片加工工艺的飞速发展与技术进步,光刻工艺节点来到了10nm......
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第零层共板的掩模版组件及其使用方法与流程
本发明涉及半导体集成电路领域,特别是涉及一种第零层共板的掩模版组件。本发明还涉及一种使用第零层共板的掩模版组件的光刻方法。背景技术:1、现在光刻机例如nikon光刻机的第零层(zero layer)光......
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一种灰度掩模版及其制作方法与流程
本申请涉及半导体集成电路工艺制造领域,具体涉及一种多次光刻刻蚀定义玻璃基板制作灰度掩模版的方法及通过该方法制作的灰度掩模版。背景技术:1、光刻(photolithography)是一种利用光化学反应原......