半自动单面曝光光刻机的制作方法

本技术属于光刻机，具体涉及一种半自动单面曝光光刻机。

背景技术：

1、光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备，但目前大多数单面曝光光刻机都采用一个或者左右两个摄像头进行对位，这导致对位速度和精准度不能满足要求，使其影响产品生产效率，对此需要进行改进。

技术实现思路

1、本实用新型旨在至少在一定程度上解决上述技术问题。为此，本实用新型目的在于提供一种半自动单面曝光光刻机。

2、本实用新型所采用的技术方案为：

3、一种半自动单面曝光光刻机，包括机架，机架上设有工作台，工作台上设有左下镜头、左上镜头、平行光源、右上镜头、掩模机构、右下镜头、对位机构，左上镜头和右上镜头分别位于掩模机构上方的左右两侧，左下镜头和右下镜头分别位于掩模机构下方的左右两侧，平行光源位于掩模机构正上方，对位机构位于掩模机构下方；对位机构连接设有找平机构和送料机构，机架上设有升降机构，升降机构与找平机构相连。

4、优选地，所述左上镜头、右上镜头、左下镜头和右下镜头均安装在xyz三轴运动机构上。所述工作台上设有光源安装架，平行光源安装在光源安装架上。

5、本实用新型的有益效果为：

6、本实用新型所提供的半自动单面曝光光刻机，人工将硅片放到送料机构的载片台上，将载片台推到中心，然后自动运行对位和单面曝光，人工取出曝光后的硅片，重复上述循环即可实现半自动化的光刻作业。

技术特征：

1.一种半自动单面曝光光刻机，其特征在于：包括机架(1)，机架(1)上设有工作台(2)，工作台(2)上设有左下镜头(3)、左上镜头(5)、平行光源(7)、右上镜头(8)、掩模机构(10)、右下镜头(11)、对位机构(12)，左上镜头(5)和右上镜头(8)分别位于掩模机构(10)上方的左右两侧，左下镜头(3)和右下镜头(11)分别位于掩模机构(10)下方的左右两侧，平行光源(7)位于掩模机构(10)正上方，对位机构(12)位于掩模机构(10)下方；对位机构(12)连接设有找平机构(4)和送料机构(9)，机架(1)上设有升降机构(13)，升降机构(13)与找平机构(4)相连。

2.根据权利要求1所述的半自动单面曝光光刻机，其特征在于：所述左上镜头(5)、右上镜头(8)、左下镜头(3)和右下镜头(11)均安装在xyz三轴运动机构(14)上。

3.根据权利要求1所述的半自动单面曝光光刻机，其特征在于：所述工作台(2)上设有光源安装架(6)，平行光源(7)安装在光源安装架(6)上。

4.根据权利要求1所述的半自动单面曝光光刻机，其特征在于：所述送料机构(9)包括可以滑动拉出和推进的载片台。

技术总结本技术属于光刻机技术领域，公开了一种半自动单面曝光光刻机，包括机架，机架上设有工作台，工作台上设有左下镜头、左上镜头、平行光源、右上镜头、掩模机构、右下镜头、对位机构，左上镜头和右上镜头分别位于掩模机构上方的左右两侧，左下镜头和右下镜头分别位于掩模机构下方的左右两侧，平行光源位于掩模机构正上方，对位机构位于掩模机构下方；对位机构连接设有找平机构和送料机构，机架上设有升降机构，升降机构与找平机构相连。本技术的半自动单面曝光光刻机，人工将硅片放到送料机构的载片台上，将载片台推到中心，然后自动运行对位和单面曝光，人工取出曝光后的硅片，重复上述循环即可实现半自动化的光刻作业。技术研发人员：张其文,扶小莲,刘阳波,陈正洪受保护的技术使用者：四川鸿源鼎芯科技有限公司技术研发日：20231023技术公布日：2024/5/29