一种等离子刻蚀设备维护保养平台的制作方法

本技术涉及半导体设备维护保养，特别涉及一种等离子刻蚀设备维护保养平台。

背景技术：

1、随着集成电路芯片的线宽逐渐缩小，对刻蚀工艺本身的精确度以及重复性有了更为严苛的要求，而作为刻蚀工艺关键设备的等离子刻蚀设备，其刻蚀质量关乎芯片最终的质量品质。

2、现有的等离子刻蚀设备的刻蚀腔在长时间使用后，刻蚀腔内的某些零件会变得粗糙，为了避免影响等离子刻蚀设备的正常使用，维护保养人员需定期对这些零件进行打磨。然而，在打磨这些零件的过程中会产生大量飞溅的碎屑，经过一段时间后这些碎屑会堆砌在打磨区域，由于维护保养人员通常只有简易的清扫工具，导致堆砌的碎屑无法被轻易清理出来。

技术实现思路

1、基于此，本实用新型的目的是提供一种等离子刻蚀设备维护保养平台，可以实现对等离子刻蚀设备刻蚀腔内的相关零件进行打磨处理，同时可以对打磨后堆砌在一起的碎屑进行吹扫清理。

2、本实用新型提供了一种等离子刻蚀设备维护保养平台，包括：操作台、吹扫组件、打磨组件，操作台设有第一滑槽，吹扫组件包括压缩机、进气管、出气管、喷气头，进气管的两端分别连通外界大气和压缩机的进气口，出气管的两端分别连通压缩机的出气口和喷气头的进气口，打磨组件包括滑动台、电机、固定件、打磨头，滑动台设滑动设置在第一滑槽内，电机通过固定件固定在滑动台上，电机的转轴与打磨头传动连接。

3、上述等离子刻蚀设备维护保养平台，通过固定件将电机固定在滑动台，以及通过电机驱动打磨头旋转，可以对零件进行打磨处理，同时将滑动台滑动设置在第一滑槽内，可以使打磨头随着滑动台水平移动而移动，从而可以方便靠近和远离零件，方便对零件不同部位进行打磨处理；同时，压缩机通过进气管从外界大气中吸取空气，并对空气进行压缩，压缩后的空气经出气管从喷气头喷出，这样可以利用喷气头喷出的高压高速空气对打磨区域的碎屑进行吹扫清理，提高了清扫效果。

4、另外，根据本实用新型上述的等离子刻蚀设备维护保养平台，还可以具有如下附加的技术特征：

5、进一步地，操作台上设有一固定板，固定板上设有围成一圈均匀间隔设置的多个限位槽，固定板上设有一载物台，载物台上设有能够与限位槽配合的限位块。

6、进一步地，操作台上设有一凹槽，凹槽位于滑动台和固定板的下方，凹槽靠近滑动台水平移动路径一侧的侧壁上形成第一作业窗口。

7、进一步地，凹槽相对的两侧壁均设有第二滑槽，至少部分覆盖第一作业窗口的抽屉的两侧分别滑动设置在两个第二滑槽内，且抽屉位于滑动台和固定板的下方。

8、进一步地，操作台上设有用于遮盖滑动台和固定板的上方空间的抵挡罩，抵挡罩上设有第二作业窗口。

9、进一步地，抵挡罩一侧铰接在操作台上，另一侧通过锁件固定在操作台上。

10、进一步地，锁件包括锁座、锁环、锁钩，锁座固定在操作台上，锁环转动设置在锁座上，锁钩固定在抵挡罩上。

11、进一步地，操作台上设置有放物桶。

12、进一步地，进气管和出气管上均设有止气阀。

13、进一步地，操作台上设有电池，用于为压缩机和电机提供能量。

技术特征：

1.一种等离子刻蚀设备维护保养平台，其特征在于，所述等离子刻蚀设备维护保养平台包括：

2.根据权利要求1所述的等离子刻蚀设备维护保养平台，其特征在于，所述操作台上设有一固定板，所述固定板上设有围成一圈均匀间隔设置的多个限位槽，所述固定板上设有一载物台，所述载物台上设有能够与所述限位槽配合的限位块。

3.根据权利要求2所述的等离子刻蚀设备维护保养平台，其特征在于，所述操作台上设有一凹槽，所述凹槽位于所述滑动台和所述固定板的下方，所述固定板与所述凹槽侧壁之间设有一空隙，所述凹槽靠近所述滑动台水平移动路径一侧的侧壁上形成第一作业窗口。

4.根据权利要求3所述的等离子刻蚀设备维护保养平台，其特征在于，所述凹槽相对的两侧壁均设有第二滑槽，至少部分覆盖所述第一作业窗口的抽屉的两侧分别滑动设置在两个所述第二滑槽内，且所述抽屉位于所述滑动台和所述固定板的下方。

5.根据权利要求2所述的等离子刻蚀设备维护保养平台，其特征在于，所述操作台上设有用于遮盖所述滑动台和所述固定板的上方空间的抵挡罩，所述抵挡罩上设有第二作业窗口。

6.根据权利要求5所述的等离子刻蚀设备维护保养平台，其特征在于，所述抵挡罩一侧铰接在所述操作台上，另一侧通过锁件固定在所述操作台上。

7.根据权利要求6所述的等离子刻蚀设备维护保养平台，其特征在于，所述锁件包括锁座、锁环、锁钩，所述锁座固定在所述操作台上，所述锁环转动设置在所述锁座上，所述锁钩固定在所述抵挡罩上。

8.根据权利要求1至7任一项所述的等离子刻蚀设备维护保养平台，其特征在于，所述操作台上设置有放物桶。

9.根据权利要求1至7任一项所述的等离子刻蚀设备维护保养平台，其特征在于，所述进气管和所述出气管上均设有止气阀。

10.根据权利要求1至7任一项所述的等离子刻蚀设备维护保养平台，其特征在于，所述操作台上设有电池，用于为所述压缩机和所述电机提供能量。

技术总结本技术提供了一种等离子刻蚀设备维护保养平台，涉及半导体设备维护保养技术领域，等离子刻蚀设备维护保养平台包括：操作台、吹扫组件、打磨组件，操作台设有第一滑槽，吹扫组件包括压缩机、进气管、出气管、喷气头，进气管的两端分别连通外界大气和压缩机的进气口，出气管的两端分别连通压缩机的出气口和喷气头的进气口，打磨组件包括滑动台、电机、固定件、打磨头，滑动台设滑动设置在第一滑槽内，电机通过固定件固定在滑动台上，电机的转轴与打磨头传动连接。本技术可以实现对等离子刻蚀设备刻蚀腔内的相关零件进行打磨处理，同时可以对打磨后堆砌在一起的碎屑进行吹扫清理。技术研发人员：徐吉红,段良飞,董国庆,文国昇,金从龙受保护的技术使用者：江西兆驰半导体有限公司技术研发日：20231012技术公布日：2024/6/5