聚酯膜的制造方法、聚酯膜、干膜抗蚀剂及剥离膜与流程

本发明涉及一种聚酯膜的制造方法、聚酯膜、干膜抗蚀剂及剥离膜。

背景技术：

1、聚酯膜是在将聚酯树脂熔融挤出而制膜之后，经由拉伸、热松弛等热处理等工序来制造。近年来，聚酯膜通过在该膜上涂布或贴附功能性材料而赋予各种功能，广泛用作功能性膜。例如，有时通过将感光性组合物作为功能性材料涂布于聚酯膜上而用作干膜抗蚀剂。

2、另一方面，近年来，随着电路配线的高密度化，对用于形成电路配线的干膜抗蚀剂要求高分辨率化。

3、并且，聚酯膜还用于制作在层叠陶瓷冷凝器的制造中所使用的陶瓷生片。

4、作为提高分辨率的尝试，在专利文献1中公开了一种技术，其中，在双轴拉伸聚酯膜的一个面形成的包含含有微粒的树脂层的支承膜及与支承膜的形成有含有微粒的树脂层的面相反的一侧的面层叠感光性树脂层。

5、在专利文献1中公开了一种感光性元件，其具备支承膜和配置于支承膜上的感光层，该感光性元件中，感光层含有粘合剂聚合物、具有烯属不饱和键的光聚合性化合物及光聚合引发剂，支承膜的感光层侧的表面上的直径为2μm以上的缺陷的数量为每2mm2在30个以下。

6、以往技术文献

7、专利文献

8、专利文献1：国际公开第2018/100730号

技术实现思路

1、发明要解决的技术课题

2、随着近年来的抗蚀剂图案的高分辨率化(精细化)，对于构成干膜抗蚀剂的支承膜，通常经由支承膜在感光性树脂层上形成图案，因此为了抑制由光散射引起的故障、性能降低，针对透明性，被要求比以往更高的性能。

3、本发明人等参考专利文献1中所记载的技术发现了，使用在聚酯膜上具有感光性组合物的干膜抗蚀剂，形成图案宽度更窄的精细的抗蚀剂图案(特别是7μm以下的线与空间(l/s)图案)的结果，由于聚酯膜的特性，发生针孔缺陷等光学故障。已知，若使用发生光学故障的干膜抗蚀剂形成l/s配线图案，则发生配线断线的断线故障，需要进行改善。

4、另一方面，近年来随着陶瓷冷凝器的大容量化和小型化，对于陶瓷生片要求进一步薄膜化。本发明者对陶瓷生片进行研究的结果，发现了由于在制造陶瓷生片中使用的聚酯膜的性状，有可能对陶瓷生片的性能产生影响。

5、鉴于上述实际情况，本发明的课题在于提供一种在与感光性树脂层等组合而用作干膜抗蚀剂时，能够抑制光学故障的聚酯膜的制造方法及聚酯膜。

6、并且，本发明的课题在于提供一种在用于制造陶瓷生片时，能够抑制局部的凹壮缺陷的聚酯膜的制造方法及聚酯膜。

7、并且，本发明的课题在于提供一种干膜抗蚀剂及剥离膜。

8、用于解决技术课题的手段

9、本发明人等对上述课题进行苦心研究的结果，发现了通过以下结构能够解决上述课题。

10、〔1〕一种聚酯膜的制造方法，其包括：工序1，在钛化合物的存在下连续地进行聚酯树脂前体的聚合，并在通过电感耦合等离子体质谱法对包含所制造的聚酯树脂的产物进行测量而获得的锑的含量相对于上述产物降低至1.0质量ppm以下之后，获得聚酯树脂；工序2，用包含粉末状烧结体的滤材及包含过滤精度为3μm以下的纤维状烧结体的滤材，对在上述工序1中获得的上述聚酯树脂的熔融物进行过滤；及工序3，使用在上述工序2中经过滤的上述熔融物制造聚酯膜。

11、〔2〕根据〔1〕所述的聚酯膜的制造方法，其中，

12、在使上述聚酯树脂前体连续地聚合之前，清洗用于聚合的反应槽内。

13、〔3〕根据〔1〕或〔2〕所述的聚酯膜的制造方法，其中，

14、上述聚酯膜具有实质上不包含无机粒子的聚酯基材。

15、〔4〕根据〔1〕至〔3〕中任一项所述的聚酯膜的制造方法，其中，

16、上述聚酯树脂前体包含二醇化合物和选自二羧酸及二羧酸酯化合物中的二羧酸化合物。

17、〔5〕根据〔1〕至〔4〕中任一项所述的聚酯膜的制造方法，其中，

18、上述聚酯膜包含选自镁及磷中的至少一种元素。

19、〔6〕一种聚酯膜，其雾度为0.6％以下，通过电感耦合等离子体质谱法进行测量而获得的锑的含量为1质量ppm以下，使用透射型偏光显微镜观测到的直径为9～20μm的异物及空隙的总数为10个/500mm2以下。

20、〔7〕根据〔6〕所述的聚酯膜，其用于制造干膜抗蚀剂。

21、〔8〕根据〔6〕或〔7〕所述的聚酯膜，其使用透射型偏光显微镜观测到的直径为3μm以上且小于9μm的异物及空隙的总数为200个/500mm2以下。

22、〔9〕一种聚酯膜，其在透射型偏光显微镜下观测到的直径为9～20μm的异物及空隙的总数为1.7个/mm3以下。

23、〔10〕根据〔9〕所述的聚酯膜，其用于制造陶瓷生片。

24、〔11〕根据〔9v或〔10v所述的聚酯膜，其通过电感耦合等离子体质谱法进行测量而获得的锑的含量为1质量ppm以下。

25、〔12〕根据〔9v至〔11v中任一项所述的聚酯膜，其使用透射型偏光显微镜观测到的直径为3μm以上且小于9μm的异物及空隙的总数为1.7个/mm3以下。

26、〔13v根据〔6〕至〔12〕中任一项所述的聚酯膜，其包含钛、镁及磷，通过电感耦合等离子体质谱法进行测量而获得的钛的含量、镁的含量及磷的含量分别相对于上述聚酯膜的总质量为1～100质量ppm。

27、〔14〕根据〔6〕至〔13〕中任一项所述的聚酯膜，其具有实质上不含无机粒子的聚酯基材。

28、〔15〕根据〔6〕至〔14〕中任一项所述的聚酯膜，其具有聚酯基材和粒子含有层。

29、〔16〕根据〔6〕至〔15〕中任一项所述的聚酯膜，其中，

30、上述聚酯膜的厚度为1～35μm。

31、〔17〕根据〔9〕至〔16〕中任一项所述的聚酯膜，其雾度为2.0％以下，厚度为1～35μm。

32、〔18〕一种干膜抗蚀剂，其具有〔6〕至〔17〕中任一项所述的聚酯膜和感光性树脂层。

33、〔19〕根据〔18〕所述的干膜抗蚀剂，其中，

34、上述感光性树脂层包含粘合剂聚合物、具有烯属不饱和键的聚合性化合物及光聚合引发剂。

35、〔20〕一种剥离膜，其具有〔6〕至〔17〕中任一项所述聚酯膜和剥离层。

36、发明效果

37、根据本发明，能够提供一种在与感光性树脂层等组合而用作干膜抗蚀剂时能够抑制光学故障的聚酯膜的制造方法及聚酯膜。并且，根据本发明，能够提供一种在用于制造陶瓷生片时，能够抑制局部的凹壮缺陷的聚酯膜的制造方法及聚酯膜。并且，根据本发明，能够提供一种干膜抗蚀剂及剥离膜。

技术特征：

1.一种聚酯膜的制造方法，其包括：

2.根据权利要求1所述的聚酯膜的制造方法，其中，

3.根据权利要求1或2所述的聚酯膜的制造方法，其中，

4.根据权利要求1或2所述的聚酯膜的制造方法，其中，

5.根据权利要求1或2所述的聚酯膜的制造方法，其中，

6.一种聚酯膜，其雾度为0.6％以下，

7.根据权利要求6所述的聚酯膜，其用于制造干膜抗蚀剂。

8.根据权利要求6或7所述的聚酯膜，其使用透射型偏光显微镜观测到的直径为3μm以上且小于9μm的异物及空隙的总数为200个/500mm2以下。

9.一种聚酯膜，其使用透射型偏光显微镜下观测到的直径为9μm～20μm的异物及空隙的总数为1.7个/mm3以下。

10.根据权利要求9所述的聚酯膜，其用于制造陶瓷生片。

11.根据权利要求9或10所述的聚酯膜，其通过电感耦合等离子体质谱法进行测量而获得的锑的含量为1质量ppm以下。

12.根据权利要求9或10所述的聚酯膜，其使用透射型偏光显微镜观测到的直径为3μm以上且小于9μm的异物及空隙的总数为27.0个/mm3以下。

13.根据权利要求6或9所述的聚酯膜，其包含钛、镁及磷，

14.根据权利要求6或9所述的聚酯膜，其具有实质上不含无机粒子的聚酯基材。

15.根据权利要求6或9所述的聚酯膜，其具有聚酯基材和粒子含有层。

16.根据权利要求6或9所述的聚酯膜，其中，

17.根据权利要求9或10所述的聚酯膜，其雾度为2.0％以下，厚度为1μm～35μm。

18.一种干膜抗蚀剂，其具有权利要求6或9所述的聚酯膜和感光性树脂层。

19.根据权利要求18所述的干膜抗蚀剂，其中，

20.一种剥离膜，其具有权利要求6或9所述的聚酯膜和剥离层。

技术总结本发明的课题在于提供一种在与感光性树脂层等组合而用作干膜抗蚀剂时能够抑制光学故障的聚酯膜的制造方法及聚酯膜。并且，本发明的课题在于提供一种干膜抗蚀剂及剥离膜。本发明的聚酯膜的制造方法包括：工序1，在钛化合物的存在下连续地进行聚酯树脂前体的聚合，并在通过电感耦合等离子体质谱法对包含所制造的聚酯树脂的产物进行测量而获得的锑的含量相对于上述产物降低至1.0质量ppm以下之后，获得聚酯树脂；工序2，用包含粉末状烧结体的滤材及包含过滤精度为3μm以下的纤维状烧结体的滤材，对上述聚酯树脂的熔融物进行过滤；及工序3，使用经过滤的上述熔融物制造聚酯膜。技术研发人员：福冈佑记,尾田年弘,森严弘,宫坂怜,宫宅一仁受保护的技术使用者：富士胶片株式会社技术研发日：技术公布日：2024/7/18