基板处理装置的制作方法

本公开涉及一种基板处理装置。

背景技术：

1、已知一种技术，其在批次式的基板处理装置中，在1个装置内相邻地布置2个处理容器，并在设置于其背面侧的设备箱之间形成共同的维护区域(例如参照专利文献1)。

2、<现有技术文献>

3、<专利文献>

4、专利文献1：国际公开第2018/003072号

技术实现思路

1、<本发明要解决的问题>

2、本公开提供一种技术，其能够在减少占地面积的同时提高排气效率。

3、<用于解决问题的手段>

4、根据本公开的一个方面的基板处理装置包括：处理模块，具有在第一水平方向上隔开的第一侧壁和第二侧壁；以及输送模块，与所述第一侧壁相邻地布置，并且向所述处理模块输送基板，其中，所述处理模块具有在与所述第一水平方向正交的第二水平方向上彼此相邻的第一处理容器和第二处理容器，在所述第二侧壁上，设置有用于对所述第一处理容器和所述第二处理容器进行维护的共同的维护开口。

5、<发明的效果>

6、根据本公开，能够在减少占地面积的同时提高排气效率。

技术特征：

1.一种基板处理装置，包括：

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，

4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其中，

6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中，

7.根据权利要求1至6中任一项所述的基板处理装置，还包括：

8.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

9.一种基板处理装置，包括：

10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其中，

11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其中，

12.根据权利要求11所述的基板处理装置，其中，

13.根据权利要求12所述的基板处理装置，其中，

14.根据权利要求9所述的基板处理装置，其中，

15.根据权利要求9至14中任一项所述的基板处理装置，还包括：

16.根据权利要求9所述的基板处理装置，其中，

17.根据权利要求16所述的基板处理装置，还包括：

技术总结提供一种能够在减少占地面积的同时提高排气效率的基板处理装置。根据本公开的一个方面的基板处理装置包括：处理模块，具有在第一水平方向上隔开的第一侧壁和第二侧壁；以及输送模块，与所述第一侧壁相邻地布置，并且向所述处理模块输送基板，其中，所述处理模块具有在与所述第一水平方向正交的第二水平方向上彼此相邻的第一处理容器和第二处理容器，在所述第二侧壁上，设置有用于对所述第一处理容器和所述第二处理容器进行维护的共同的维护开口。技术研发人员：本间学受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社技术研发日：技术公布日：2024/7/29