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大面积介质阻挡射流等离子表面处理装置的制作方法

  • 国知局
  • 2024-08-02 15:46:01

本技术涉及等离子材料表面改性,特别涉及大面积介质阻挡射流等离子表面处理装置。

背景技术:

1、低温射流等离子是指大气常压环境下,在一个相对开放的区间,由高频电场激发气体,产生包含电子、激发态离子以及原子团自由基等多种活性粒子的形成的等离子射流,进而利用等离子射流中高能态粒子的光、电以及化学特性,与被处理对象进行反应,实现有机污染物的去除,表面分子结构重组,形成活性基团等,目的大气射流等离子表面处理装置结构简单,安装方便,可对塑料、橡胶、金属、玻璃、陶瓷、纸质等材料进行表面处理,已经广泛应用于印刷、包装、电子、汽车、医疗、新能源等行业。

2、介质阻挡放电(die lectr ic barr ier discharge,dbd)是有绝缘介质插入放电空间的一种非平衡态气体放电又称介质阻挡电晕放电或无声放电。介质阻挡放电能够在高气压和很宽的频率范围内工作,通常的工作气压为10~10000。

3、比如公开号为cn105101603b的公开实用新型,该一种介质阻挡放电等离子体射流装置包括绝缘介质柱、放电电极和供电电源;绝缘介质柱的轴心开有通孔,通孔作为介质腔;介质腔的一端为载气入口,另一端为等离子体喷射口;沿绝缘介质柱的外壁周向均匀分布有至少两个与放电电极相适配的扇形槽,每个扇形槽内分别嵌入一个放电电极;其中相邻的两个放电电极分别连接供电电源的两端。本实用新型通过把放电电极嵌入绝缘介质柱的扇形槽中保证了放电电极的同轴度,并增大了放电面积,提高了放电性能和放电效率,避免了放电不稳定现象;同时放电电极位于介质腔的外侧,避免了放电电极与离子源直接接触,进而防止放电电极在放电过程中因蒸发或溅射污染离子源,但是仍然存在以下问题。

4、在进行大面积的表面处理作业时,需要较长的时间,影响产品处理效率,且较长的工作时间会导致喷口位置处长时间保持高温,影响使用寿命。

技术实现思路

1、为解决上述技术问题,本实用新型提供了大面积介质阻挡射流等离子表面处理装置。

2、本实用新型的技术方案是:大面积介质阻挡射流等离子表面处理装置,包括:旋转模组,所述旋转模组由转子和定子组成;贯穿所述旋转模组并通过其转动的金属轴管;设于所述金属轴管底端的喷枪模组;与所述喷枪模组连接用于提供高频高压能量的等离子发生模组;套设于所述喷枪模组外部的绝缘罩;以及,用于连接所述金属喷枪与所述金属轴管且度弯折的弯管;其中,所述喷枪模组包括:固于所述金属轴管贯穿端的金属固定盘;与所述金属固定盘固连的紧固模组;固于所述紧固模组上的两具有一定间隔的第一电极片与第二电极片;以及贯穿所述金属固定盘、第一电极片和第二电极片且与弯管连接的石英玻璃管。

3、进一步的,所述金属轴管为空心设置,且金属轴管贯穿转子并与其固定。

4、进一步的,所述等离子发生模组包括:等离子发生器;设于所述等离子发生器上且与所述绝缘罩固连接高压线和接地线,所述高压线的输出口位于绝缘罩的内壁。

5、进一步的,所述绝缘罩呈圆形设置,且表面开设有若干均匀间隔分布的散热孔。

6、进一步的,所述定子上设有第一气管,所述金属轴管的顶端设有转动连接的第二气管。

7、进一步的,所述第一电极片为馈入级,第二电极片为接地极。

8、进一步的,所述绝缘罩上设有与所述紧固模组转动连接的连接轴承。

9、进一步的,所述金属轴管上开设有若干用于气体输出的输出口,所述弯管的一端与所述输出口固连另一端与所述石英玻璃管固连。

10、本实用新型的有益技术效果是:金属固定盘用于固定多组石英玻璃管,并将多组石英玻璃管进行间隔分布,石英玻璃管能够通过弯管与金属轴管连接,从而将气体引入,紧固模组可以将第一电极片与第二电极片进行上下间隔安装,由于石英玻璃管穿过第一电极片与第二电极片,当等离子发生模组产生的高频高压能量进入绝缘罩内,并接触第一电极片与第二电极片时,可产生等离子反应电场,从石英玻璃管经过的气体可通过反应电场时,即可形成介质阻挡等离子射流,由于喷枪模组固于金属轴管上,因此金属轴管通过转子转动时,即可带动等离子射流实现范围喷射,扩大处理面积,降低处理时间。

技术特征:

1.一种大面积介质阻挡射流等离子表面处理装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的大面积介质阻挡射流等离子表面处理装置,其特征在于,所述金属轴管(2)为空心设置,且金属轴管(2)贯穿转子并与其固定。

3.根据权利要求1所述的大面积介质阻挡射流等离子表面处理装置,其特征在于,所述等离子发生模组包括:等离子发生器(4);设于所述等离子发生器(4)上且与所述绝缘罩(5)固连接高压线(41)和接地线(42),所述高压线(41)的输出口位于绝缘罩(5)的内壁。

4.根据权利要求1所述的大面积介质阻挡射流等离子表面处理装置,其特征在于,所述绝缘罩(5)呈圆形设置,且表面开设有若干均匀间隔分布的散热孔(51)。

5.根据权利要求1所述的大面积介质阻挡射流等离子表面处理装置,其特征在于,所述定子上设有第一气管(7),所述金属轴管(2)的顶端设有转动连接的第二气管(8)。

6.根据权利要求1所述的大面积介质阻挡射流等离子表面处理装置,其特征在于,所述第一电极片(32)为馈入级,第二电极片(33)为接地极。

7.根据权利要求1所述的大面积介质阻挡射流等离子表面处理装置,其特征在于,所述绝缘罩(5)上设有与所述紧固模组(31)转动连接的连接轴承(9)。

8.根据权利要求1所述的大面积介质阻挡射流等离子表面处理装置,其特征在于,所述金属轴管(2)上开设有若干用于气体输出的输出口,所述弯管(6)的一端与所述输出口固连另一端与所述石英玻璃管(34)固连。

技术总结本技术公开了一种大面积介质阻挡射流等离子表面处理装置,属于等离子材料表面改性技术领域。该处理装置包括:旋转模组,所述旋转模组由转子和定子组成;贯穿所述旋转模组并通过其转动的金属轴管;设于所述金属轴管底端的喷枪模组;与所述喷枪模组连接用于提供高频高压能量的等离子发生模组;套设于所述喷枪模组外部的绝缘罩。该大面积介质阻挡射流等离子表面处理装置,当等离子发生模组产生的高频高压能量进入绝缘罩内,并接触第一电极片与第二电极片时,可产生等离子反应电场,气体通过反应电场时,即可形成介质阻挡等离子射流,金属轴管通过转子转动时,即可带动等离子射流实现范围喷射,扩大处理面积,降低处理时间。技术研发人员:郭峰,包纪云,王宇受保护的技术使用者:昆山普乐斯电子科技有限公司技术研发日:20231123技术公布日:2024/7/25

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