一种具有凹凸效果的双区定位釉面砖及制备方法与流程

本发明涉及建筑陶瓷，尤其涉及一种具有凹凸效果的双区定位釉面砖及制备方法。

背景技术：

1、随着生活水平的提高和技术的快速发展，人们对于室内装修也越来越注重。对于建筑陶瓷行业来说，陶瓷砖不仅仅应用于建筑外墙的装饰，目前也被广泛应用于室内装饰领域，而对于内墙装饰效果而言，图案、纹理、层次成为了消费者最关注的焦点。对于市场的这种需求，提升陶瓷砖产品档次和产品附加值成为大势所趋，目前在行业中，干粒釉产品成为了各大建陶企业开发的重点方向。

2、公开号为cn109574632a的中国发明专利公开了一种替代模花制作表面凹凸效果的多色瓷质砖及制造方法，其主要的工艺是实现多种不同颜色干粒的装饰效果，从而达到使陶瓷砖表面具有凹凸模具效果的目的；另外，从其工艺步骤来看，主要是通过重复地在坯体表面进行打印定位胶水、干粒布料和吹走多余干粒三个步骤，以实现坯体表面多个区域中不同干粒的布料。上述工艺存在以下两方面的缺陷：第一，采用常规的胶水干粒定位工艺时，想要实现大面积定位干粒就需要通过喷墨打印机打印大面积的定位胶水，这样容易造成喷墨打印机喷头超负荷工作，产生喷头印、拉线等缺陷。第二，由于干粒布施时会产生扬尘现象，容易污染与其相邻的喷墨打印机的喷头，造成喷头堵塞；因此，在实际生产中需要用到胶水干粒定位工艺时，一般会将喷墨打印机与干粒布料机之间的距离拉开。但釉线上各设备间距离太开，会导致定位干粒与其他装饰层（如颜色图案层等）中的纹理图案难以实现精确对位，从而降低釉层的装饰效果。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提出一种具有凹凸效果的双区定位釉面砖及制备方法，在保证瓷砖表面具有凹凸效果和两种干粒的装饰效果的前提下，简化釉线的施釉工艺，解决现有技术中出现喷头超负荷工作、喷头堵塞和对位不精确的技术问题。

2、为达此目的，本发明采用以下技术方案：

3、一种具有凹凸效果的双区定位釉面砖的制备方法，包括以下步骤：

4、a、制备复合干粒釉，包括：

5、（1）将定位熔块破碎后，加入至pva浆料进行混合，烘干后过筛得到定位干粒；

6、（2）制备面釉；其中，所述面釉的原料包括跟随熔块，且按照质量百分比，所述面釉的细度为过325目筛，筛余0.2～2.0%；

7、（3）将所述定位干粒浸泡于水中，将浸泡后的定位干粒与所述面釉添加至球磨机中，混合得到复合干粒釉；其中，所述复合干粒釉的混合时间≤10min，所述复合干粒釉中定位干粒的细度为120～300目；

8、b、准备陶瓷坯料，将陶瓷坯料进行压制，干燥得到坯体层；

9、c、在所述坯体层的顶部按照预设图案打印颜色墨水，形成喷墨印花层；

10、d、在所述喷墨印花层的顶部按照预设图案打印精雕墨水，形成精雕墨水层；

11、e、在所述精雕墨水层的顶部布施所述复合干粒釉，形成双区定位釉层；

12、f、干燥后入窑烧制，抛光后得到具有凹凸效果的双区定位釉面砖。

13、优选的，步骤a（1）中，按照质量百分比计算，所述定位干粒的水分含量≤0.5%，烘干温度为80～150℃。

14、优选的，步骤a（3）中，按照质量比，所述定位干粒和水的浸泡比例为2：（1～2），浸泡时间为0.5～1h。

15、优选的，步骤a（3）中，按照质量比，所述面釉的干料和所述定位干粒的混合比例为20：（1～9）。

16、优选的，步骤a（1）中，按照质量百分比计算，所述pva浆料的固含量为2～10%。

17、优选的，步骤a（2）中，按照质量份数计算，所述面釉的原料包括钾长石15～25份、钠长石5～10份、水洗高岭土6～10份、氧化锌2～5份、石英40～65份、煅烧氧化铝2～5份、滑石0～3份、硅灰石5～15份和跟随熔块10～25份；

18、按照质量百分比计算，所述跟随熔块的化学成分包括sio2 45～65%、al2o3 6～15%、k2o 3～7%、na2o 0～2.5%、cao 6～15%、mgo 0～1%、bao 0～2%和zno 3～12%；

19、按照质量百分比计算，所述面釉的化学成分包括sio2 55～78%、al2o3 5～12%、k2o1.5～4%、na2o 0.5～5%、cao 5.5～15.5%、mgo 0～1.2%、bao 0～2%和zno 3～6%。

20、优选的，步骤e中，所述复合干粒釉的布施方式为喷釉或淋釉中的任意一种。

21、优选的，步骤e中，所述复合干粒釉的布施方式为喷釉；

22、所述复合干粒釉的比重为1.4～1.65，喷釉量为200～350g/m2。

23、优选的，步骤e中，所述复合干粒釉的布施方式为淋釉；

24、所述复合干粒釉的比重为1.6～1.85，喷釉量为300～500g/m2。

25、一种具有凹凸效果的双区定位釉面砖，使用上述具有凹凸效果的双区定位釉面砖的制备方法制备而成。

26、本发明提供的技术方案可以包括以下有益效果：

27、1、本方案首先制备同时具有两种不同颗粒度干粒的复合干粒釉，一种是由定位熔破碎后，再经pva浆料包裹而成的、颗粒度可达到120～300目的定位干粒，另一种是由跟随熔块与面釉中的其他原料加水后球磨而成的、细度达到325目以下的跟随干粒；然后依次在坯体层的顶部打印颜色墨水和精雕墨水后，在精雕墨水层的顶部布施复合干粒釉，通过油性墨水与水性釉料接触会产生张力的机制，利用油性的精雕墨水物理性地排开后续布施的水性复合干粒釉，由于跟随干粒的颗粒度较细，而定位干粒的颗粒度相对较大，使得跟随干粒会跟随复合干粒釉被精雕墨水顺利排开，即跟随干粒位于有釉区，而定位干粒则停留在原地，即定位干粒同时位于有釉区和无釉区，从而在双区定位釉层形成凹凸纹理，且该釉层具有两种干粒的装饰效果。

28、2、通过本制备方法的工艺改进，只需要采用简单的釉线施釉工艺（即一次施釉），即可实现现有技术中两种干粒的定位布料，且能有效避免现有技术中容易出现的喷头超负荷工作、喷头堵塞和对位不精确的技术问题，极大地简化了生产工艺，降低了生产成本，提升了生产可控性，同时稳定生产质量。

29、3、本方案通过pva浆料包裹破碎后的定位熔块，可以在定位干粒表面形成一层pva膜，而由于pva膜具有亲水性和高分子量的链状结构，从而使得其具备一定的悬浮性，实现定位干粒在复合干粒釉中的均匀分布。

30、4、在定位干粒与面釉的混合过程中，首先需要将定位干粒进行一定时间的泡发，使其表面的pva膜层与水充分接触，其长链分子更好地形成悬浮作用，从而保证定位干粒与面釉的充分分散。另外，由于本方法中“双区定位”效果的实现需要依赖定位干粒和跟随干粒的细度差，因此，为了避免削弱两种干粒间的细度差，本方案需在球磨混合过程中限定其混合时间，以防止球磨过度。

技术特征：

1.一种具有凹凸效果的双区定位釉面砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种具有凹凸效果的双区定位釉面砖的制备方法，其特征在于，步骤a（1）中，按照质量百分比计算，所述定位干粒的水分含量≤0.5%，烘干温度为80～150℃。

3.根据权利要求1所述的一种具有凹凸效果的双区定位釉面砖的制备方法，其特征在于，步骤a（3）中，按照质量比，所述定位干粒和水的浸泡比例为2：（1～2），浸泡时间为0.5～1h。

4.根据权利要求1所述的一种具有凹凸效果的双区定位釉面砖的制备方法，其特征在于，步骤a（3）中，按照质量比，所述面釉的干料和所述定位干粒的混合比例为20：（1～9）。

5.根据权利要求1所述的一种具有凹凸效果的双区定位釉面砖的制备方法，其特征在于，步骤a（1）中，按照质量百分比计算，所述pva浆料的固含量为2～10%。

6.根据权利要求1所述的一种具有凹凸效果的双区定位釉面砖的制备方法，其特征在于，步骤a（2）中，按照质量份数计算，所述面釉的原料包括钾长石15～25份、钠长石5～10份、水洗高岭土6～10份、氧化锌2～5份、石英40～65份、煅烧氧化铝2～5份、滑石0～3份、硅灰石5～15份和跟随熔块10～25份；

7.根据权利要求1所述的一种具有凹凸效果的双区定位釉面砖的制备方法，其特征在于，步骤e中，所述复合干粒釉的布施方式为喷釉或淋釉中的任意一种。

8.根据权利要求7所述的一种具有凹凸效果的双区定位釉面砖的制备方法，其特征在于，步骤e中，所述复合干粒釉的布施方式为喷釉；

9.根据权利要求7所述的一种具有凹凸效果的双区定位釉面砖的制备方法，其特征在于，步骤e中，所述复合干粒釉的布施方式为淋釉；

10.一种具有凹凸效果的双区定位釉面砖，其特征在于，使用权利要求1～9任意一项所述的具有凹凸效果的双区定位釉面砖的制备方法制备而成。

技术总结本发明涉及建筑陶瓷技术领域，尤其涉及一种具有凹凸效果的双区定位釉面砖及制备方法，制备方法中首先制备同时具有两种不同颗粒度干粒的复合干粒釉，然后依次在坯体层的顶部打印颜色墨水和精雕墨水后，在精雕墨水层的顶部布施复合干粒釉，利用油性的精雕墨水物理性地排开后续布施的水性复合干粒釉，使得跟随干粒会跟随复合干粒釉被精雕墨水顺利排开，而定位干粒则停留在原地，从而在双区定位釉层形成凹凸纹理，且该釉层具有两种干粒的装饰效果。本方案提出的双区定位釉面砖的制备方法，在保证瓷砖表面具有凹凸效果和两种干粒的装饰效果的前提下，简化釉线的施釉工艺，解决现有技术中出现喷头超负荷工作、喷头堵塞和对位不精确的技术问题。技术研发人员：曾权,李中全,王万意,杨显,曾立华,李刚,王永端受保护的技术使用者：佛山市东鹏陶瓷有限公司技术研发日：技术公布日：2024/9/2