参数可调的中子调控装置和加速器中子治疗系统的制作方法

本发明涉及中子治疗疾病的，具体提供一种参数可调的中子调控装置和加速器中子治疗系统。

背景技术：

1、在加速器中子治疗系统中，通过加速器产生的质子束流轰击靶片产生中子束流，此时的中子束流不能直接用于患者治疗，需要使用中子调控装置对靶片产生的中子束流参数进行调控后才能用于治疗，其中，调控芯体对中子束流参数的调控起重要作用。中子束流参数品质会影响肿瘤的治疗效果，不同种类的肿瘤对中子束流参数品质的要求不同。

2、目前常用的加速器中子治疗系统的中子调控装置为固定式结构，其调控后的中子束流参数往往固定不变，不能根据肿瘤种类的不同进行调整，因此导致系统只有在治疗某种特定肿瘤时具有较好的治疗效果，进而影响了设备的使用范围。

3、相应地，本领域需要一种新的参数可调的中子调控装置来解决上述问题。

技术实现思路

1、本发明旨在解决上述技术问题，即，解决现有中子束流的参数固定不变，不能根据肿瘤种类调整中子束流的参数，因此只对某种特定肿瘤具有较好治疗效果，进而影响设备使用范围的问题。

2、在第一方面，本发明提供一种参数可调的中子调控装置，所述中子调控装置包括壳体、中子生产单元、调控机构和驱动机构；用于产生中子束流的所述中子生产单元安装于所述壳体并延伸于所述壳体的内部；所述调控机构设置于所述壳体的内部并和所述中子生产单元接触；所述驱动机构设置于所述壳体的内部并和所述调控机构连接，以便驱动所述调控机构转动，以使得所述调控机构调整所述中子束流的参数。

3、在上述参数可调的中子调控装置的优选技术方案中，所述调控机构包括多个结构相同、且并排设置的调控盘；每一个所述调控盘包括调控盘体、调控盘通孔、多个调控芯体和多个调控盘齿；所述调控盘通孔开设于所述盘体的中部；多个所述调控芯体以环形排布，且等距安装于所述盘体上；多个所述调控盘齿等距构造于所述盘体的外沿上，并和所述驱动机构连接；其中，当所述驱动机构驱动多个所述调控盘转动时，每个所述调控盘转中的一个所述调控芯体和所述中子生产单元同轴，以便所述中子束流打到所述调控芯体上以调整所述中子束流的参数。

4、在上述参数可调的中子调控装置的优选技术方案中，所述驱动机构包括电机、传动杆和多个驱动盘齿组；所述电机设置于所述壳体的外部；所述传动杆和所述电机连接，所述传动杆的前部延伸于所述壳体的内部；多个所述驱动盘齿组等距固定于所述传动杆的前部并和所述调控盘齿连接；其中，多个所述驱动盘齿组和多个所述调控盘一一对应设置。

5、在上述参数可调的中子调控装置的优选技术方案中，每一个所述驱动盘齿组包括多个驱动盘齿，多个所述驱动盘齿等距固定于所述传动杆的前部，并和对应的所述调控盘齿以齿合形式连接，以便驱动所述调控盘转动。

6、在上述参数可调的中子调控装置的优选技术方案中，所述中子调控装置还包括调控盘转动杆，所述调控盘转动杆安装于所述壳体的内部并插于每一个所述调控盘通孔，以便所述调控机构以所述调控盘转动杆为轴心在所述驱动机构的驱动下转动。

7、在上述参数可调的中子调控装置的优选技术方案中，所述中子生产单元包括加速器质子束流管和靶片；所述加速器质子束流管安装于所述壳体上，所述加速器质子束流管的前部延伸于所述壳体的内部，以便传输质子束流；所述靶片设置于所述壳体的内部，并位于所述加速器质子束流管的前端和对应的所述调控芯体之间；其中，所述靶片的一面和所述加速器质子束流管的前端接触，以便所述靶片被所述质子束流轰击以产生所述中子束流，所述靶片的另一面和对应的所述调控芯体接触，进而改变所述中子束流的参数。

8、在上述参数可调的中子调控装置的优选技术方案中，所述中子调控装置还包括准直器，所述准直器设置于所述壳体的内部，并位于所述壳体和对应的所述调控芯体之间，所述准直器和所述加速器质子束流管、所述靶片、对应的所述调控芯体同轴设置，以聚焦改变参数后的所述中子束流。

9、在上述参数可调的中子调控装置的优选技术方案中，所述壳体开设有治疗口，所述治疗口和所述准直器相抵，以便所述中子束流射出。

10、在上述参数可调的中子调控装置的优选技术方案中，所述壳体内部填充有反射材料，以形成反射层，并将所述中子生产单元的一部分、所述调控机构和所述驱动机构的一部分包围。

11、在采用上述技术方案的情况下，在本发明的参数可调的中子调控装置包括壳体、中子生产单元、调控机构和驱动机构，用于产生中子束流的中子生产单元安装于壳体并延伸于壳体的内部，调控机构设置于壳体的内部并和中子生产单元接触，驱动机构设置于壳体的内部并和调控机构连接，以便驱动调控机构转动，以使得调控机构调整中子束流的参数，通过设置驱动机构和调控机构，利用驱动机构驱动调控机构转动，调控机构可根据肿瘤种类的不同调整中子束流的参数，增加了设备使用范围。

12、进一步地，本发明的参数可调的中子调控装置中的调控机构包括多个结构相同、且并排设置的调控盘，调控盘包括调控盘体、调控盘通孔、多个调控芯体和多个调控盘齿。其中，调控盘通孔开设于盘体的中部，多个调控芯体以环形排布，且等距安装于盘体上，多个所调控盘齿等距构造于盘体的外沿上，并和驱动机构连接。当驱动机构驱动多个调控盘转动时，每个调控盘中的一个调控芯体和中子生产单元同轴，以便中子束流打到调控芯体上以调整中子束流的参数。通过设置上述结构形式的调控盘可根据肿瘤种类的不同调整中子束流的参数，一个设备可治疗多类肿瘤，增加了设备使用范围，进而节省成本。

13、更进一步地，本发明的参数可调的中子调控装置中的驱动机构包括电机、传动杆和多个驱动盘齿组。其中，电机设置于壳体的外部，传动杆和电机连接，传动杆的前部延伸于壳体的内部，多个驱动盘齿组等距固定于传动杆的前部并和调控盘齿连接，多个驱动盘齿组和多个调控盘一一对应设置。通过电机驱动传动杆转动，促使驱动盘齿组跟随驱动传动杆转动，和驱动盘齿组相连接的调控盘可以被驱动转动，这样中子束流可以轰击在设定的调控芯体上，进而改变中子束流的参数，可以治疗该参数所对应的肿瘤种类。

14、在第二方面，本发明提供一种加速器中子治疗系统，所述加速器中子治疗系统包括上述第一方面所述的参数可调的中子调控装置。

15、本技术方案的加速器中子治疗系统包括本发明任一技术方案的参数可调的中子调控装置，因而其具有本发明任一技术方案的参数可调的中子调控装置的全部技术效果。

技术特征：

1.一种参数可调的中子调控装置，其特征在于，所述中子调控装置包括壳体、中子生产单元、调控机构和驱动机构；

2.根据权利要求1所述的参数可调的中子调控装置，其特征在于，所述调控机构包括多个结构相同、且并排设置的调控盘；

3.根据权利要求2所述的参数可调的中子调控装置，其特征在于，所述驱动机构包括电机、传动杆和多个驱动盘齿组；

4.根据权利要求3所述的参数可调的中子调控装置，其特征在于，每一个所述驱动盘齿组包括多个驱动盘齿，多个所述驱动盘齿等距固定于所加速器中子治疗系统述传动杆的前部，并和对应的调控盘齿以齿合形式连接，以便驱动所述调控盘转动。

5.根据权利要求2所述的参数可调的中子调控装置，其特征在于，所述中子调控装置还包括调控盘转动杆，所述调控盘转动杆安装于所述壳体的内部并插于每一个所述调控盘通孔，以便所述调控机构以所述调控盘转动杆为轴心在所述驱动机构的驱动下转动。

6.根据权利要求2所述的参数可调的中子调控装置，其特征在于，所述中子生产单元包括加速器质子束流管和靶片；

7.根据权利要求6所述的参数可调的中子调控装置，其特征在于，所述中子调控装置还包括准直器，所述准直器设置于所述壳体的内部，并位于所述壳体和对应的所述调控芯体之间，所述准直器和所述加速器质子束流管、所述靶片、对应的所述调控芯体同轴设置，以聚焦改变参数后的所述中子束流。

8.根据权利要求7所述的参数可调的中子调控装置，其特征在于，所述壳体开设有治疗口，所述治疗口和所述准直器相抵，以便所述中子束流射出。

9.根据权利要求1所述的参数可调的中子调控装置，其特征在于，所述壳体内部填充有反射材料，以形成反射层，并将所述中子生产单元的一部分、所述调控机构和所述驱动机构的一部分包围。

10.一种加速器中子治疗系统，其特征在于，所述加速器中子治疗系统包括上述权利要求1-9所述的参数可调的中子调控装置。

技术总结本发明涉及中子治疗疾病技术领域，具体提供一种参数可调的中子调控装置和加速器中子治疗系统，旨在解决现有中子束流的参数固定不变，不能根据肿瘤种类调整中子束流的参数，因此只对某种特定肿瘤具有较好治疗效果，进而影响设备使用范围的问题。为此目的，本发明的中子调控装置包括壳体、中子生产单元、调控机构和驱动机构；中子生产单元安装于壳体并延伸于壳体的内部；调控机构设置于壳体的内部并和中子生产单元接触；驱动机构设置于壳体的内部并和调控机构连接，以便驱动调控机构转动调整中子束流的参数。本发明的参数可调的中子调控装置通过设置驱动机构和调控机构，调控机构可根据癌症种类的不同调整中子束流的参数，增加设备使用范围。技术研发人员：请求不公布姓名,请求不公布姓名,请求不公布姓名,请求不公布姓名受保护的技术使用者：国重医疗科技（重庆）有限公司技术研发日：技术公布日：2024/9/9