化妆料用六方晶氮化硼粉末和化妆料的制作方法

本发明涉及化妆料用六方晶氮化硼粉末和使用该六方晶氮化硼粉末的化妆料。

背景技术：

1、六方晶氮化硼(以下也简称为氮化硼或bn)被广泛用作化妆料(化妆品)的颜料。

2、例如，专利文献1中公开了一种六方晶氮化硼粉末，其中，呈扁平形状的粉末的侧面以在六方晶系的晶体显示中与(100)面等价的6种晶面和与(110)面等价的6种晶面作为晶习面。

3、另外，专利文献2中公开了一种化妆料用氮化硼粉末，其特征在于，由平均长径为2～20μm且厚度为0.05～0.5μm的呈扁平形状的一次粒子层叠而成的板状的聚集体构成，比表面积为1～10m2/g、且网眼45μm筛下的聚集体的含有率为50质量%以上，并且可溶性硼量为100ppm以下。

4、另外，专利文献3中公开了一种化妆料用氮化硼粉末，其特征在于，由平均长径为4～15μm、厚度为0.2～0.7μm且长径比大于20的呈鳞片状的一次粒子的聚集体构成，比表面积为2～8m2/g，并且可溶性硼量为100ppm以下。

5、现有技术文献

6、专利文献

7、专利文献1：日本特开平5-186205号公报

8、专利文献2：日本特开2012-176910号公报

9、专利文献3：日本特开2015-140337号公报

技术实现思路

1、发明所要解决的问题

2、对于近年来的化妆料而言，与遮盖力相比，更要求裸肤感，优选遮瑕力低。另外，在涂抹于肌肤时要求轻轻地延展的感觉，优选光滑性高。另外，要求在具有对肌肤的贴合感的同时具有不因附着力过强而产生厚涂感的适度的附着感，即，优选具有适度的肌肤亲和性。

3、但是，不能说上述专利文献1～3中公开的六方晶氮化硼粉末满足了低遮瑕力、光滑性、肌肤亲和性这些全部的要求。

4、本发明是鉴于上述问题而完成的，目的在于提供作为化妆料使用时遮瑕力低、光滑性、肌肤亲和性优良的化妆料用六方晶氮化硼粉末和使用该六方晶氮化硼粉末的化妆料。

5、在此，遮瑕力低是指：在黑色的人造皮革上用尼龙毛的平头刷(刷毛长度15mm、刷头宽度1.1cm)将六方晶氮化硼粉末涂布于2cm×2cm的范围，测量白色度，反复进行测量和利用刷除去表面附着，将白色度的值的变动为0时作为终点，从终点的白色度中减去人造皮革的白色度(18.6)而得到的值即遮瑕力为16以下。

6、另外，光滑性优良是指：使用トリラボハンディートライボマスターtl201ts(株式会社trinity lab制造)，设定为载荷30g、移动速度10mm/s、往复距离50mm、往复次数20次，在人造皮革上载置0.05g的六方晶氮化硼粉末，测定往复第20次的动摩擦系数，动摩擦系数为0.31以下。

7、另外，肌肤亲和性优良是指：使用トリラボハンディートライボマスターtl201ts(株式会社trinity lab制造)，设定为载荷30g、移动速度10mm/s、往复距离50mm、往复次数2次，在人造皮革上载置0.05g的六方晶氮化硼粉末，测定动摩擦系数，第一次与第二次的动摩擦系数之差即肌肤亲和性指数为0.04～0.08。

8、用于解决问题的方法

9、本发明人针对上述问题进行了深入研究，结果发现，通过使六方晶氮化硼粉末的一次粒子(晶体、基质粒子)堆叠形成的二次粒子(聚集体)的个数为规定的比例以下，能够实现遮瑕力低、光滑性和肌肤亲和性优良的状态。

10、图1是用于说明六方晶氮化硼粉末1中的一次粒子10、11和二次粒子12的示意图。另外，图2是用于说明一次粒子和二次粒子的六方晶氮化硼粉末的电子显微镜照片。如图1所示，通过在扁平状的一次粒子(大粒子)11的表面上层叠一个或两个以上小粒子10，形成呈阶梯状层叠的二次粒子12。在图2中示出作为呈阶梯状层叠的二次粒子的一例的电子显微镜照片。本发明人还发现，为了使如上所述的二次粒子12为规定的比例以下，控制对用于得到六方晶氮化硼粉末1的粗bn进行加热处理时的条件即可。

11、在此，本发明中所述的二次粒子是指在粒径为3～20μm的一次粒子(大粒子)上层叠一次粒子(小粒子)而成的粒子，其中，一次粒子(小粒子)的粒径为一次粒子(大粒子)的粒径的10～80%。

12、一次粒子(小粒子)的粒径大于一次粒子(大粒子)的粒径的80%的粒子可以视为与一次粒子(大粒子)等同，而不是一次粒子(小粒子)。

13、例如，大粒子的粒径为3μm时，小粒子的粒径为0.3～2.4μm，大粒子的粒径为20μm时，小粒子的粒径为2～16μm。

14、图3是用于说明一次粒子(大粒子)和一次粒子(小粒子)的示意图。

15、图3(a)示出粒径较大的二次粒子12a的例子，图3(b)示出粒径较小的二次粒子12b的例子。

16、二次粒子12a是一次粒子(小粒子)10a层叠在一次粒子(大粒子)11a上而形成的，二次粒子12b是一次(小粒子)10b层叠在一次粒子(大粒子)11b上而形成的。此时，如上所述，只要满足一次粒子(小粒子)的粒径为一次粒子(大粒子)的粒径的10～80%这样的条件，则一次粒子(小粒子)的粒径的范围就没有限制，并且一次粒子(大粒子)的粒径的范围也没有限制。即，例如，一次粒子(小粒子)10a与一次粒子(大粒子)11b可以是粒径均为x的具有相同或同等大小的粒子，在粒径较大的二次粒子12a中，一次粒子10a可以是小粒子，在粒径较小的二次粒子12b中，一次粒子11b可以是大粒子。

17、另外，二次粒子如上所述是指在一次粒子(大粒子)上层叠一次粒子(小粒子)而得到的粒子，将在1个一次粒子(大粒子)上层叠两个以上一次粒子(小粒子)而得到的粒子设为1个二次粒子。

18、另外，在一次粒子(大粒子)上层叠一次粒子(大粒子)而得到的粒子、在一次粒子(小粒子)上层叠一次粒子(小粒子)而得到的粒子不包含在二次粒子中。将在1个一次粒子(大粒子)上层叠1个一次粒子(大粒子)而得到的粒子作为2个一次粒子，将在1个一次粒子(小粒子)上层叠1个一次粒子(小粒子)而得到的粒子作为2个一次粒子。

19、一次粒子的直径利用sem(倍率：4000倍)进行观察求出。关于二次粒子，将六方晶氮化硼粉末用刷涂布，使六方晶氮化硼粉末的扁平面与人造皮革密合，用空气干燥器喷吹，使多余的粉末落下，成为粉末彼此不堆叠的状态。其结果是，能够观察其层叠状态，只测定能够明确地判断为层叠的粒子的个数。

20、本发明是基于上述见解而完成的，如下所述。

21、[1]一种化妆料用六方晶氮化硼粉末，其是包含鳞片状的一次粒子和该一次粒子层叠而形成的二次粒子的六方晶氮化硼粉末，

22、上述粉末的平均粒径为4～15μm，长径比为30以下，

23、上述一次粒子的平均厚度为0.3～0.7μm，

24、上述二次粒子的个数为一次粒子和二次粒子的全部粒子的个数的40%以下。

25、[2]根据上述[1]所述的化妆料用六方晶氮化硼粉末，其中，氧浓度为1.0质量%以下。

26、[3]一种化妆料，其含有上述[1]或[2]所述的六方晶氮化硼粉末。

27、发明效果

28、根据本发明，可提供遮瑕力低、光滑性和肌肤亲和性优良的化妆料用六方晶氮化硼粉末和使用该六方晶氮化硼粉末的化妆料。