一种在低真空度下生产镀膜玻璃的方法及一种镀膜玻璃与流程

本发明属于镀膜玻璃生产，具体涉及一种在低真空度下生产镀膜玻璃的方法及一种镀膜玻璃。

背景技术：

1、玻璃由于其良好的通透性，具有透光、防紫外线及防风雪的功能，成为一种优良的建筑材料而被广泛的用于建筑上。其中low-e玻璃以其美观大方的颜色、较好的质感以及优良的节能特性，在建筑幕墙领域已受到广泛应用。其中可钢low-e玻璃由于适用于大面积生产，具备目前最高效的生产流程，可以进行后续切、磨、钢、夹层等工艺的加工，因此广受关注，成为low-e玻璃发展的大趋势。

2、但目前的可钢low-e玻璃对于生产条件的要求也相对较高，如磁控溅射的镀膜需要在高真空状态下进行，真空度要求在4.0×10-6mbar以下才可以生产，这样的真空度要求，镀膜高真空设备通常要抽气7天才能满足生产条件，生产节奏慢。

3、如中国专利cn105150633a公开了真空磁控溅射生产low-e玻璃的方法，其包括以下步骤：将清洗并烘干的玻璃基板放入磁控镀膜机的真空室内；使真空室内的真空度至少达到7.9×10-6mbar；向真空室内充入放电介质气体，使真空室内的真空度达到2.8×10-3mbar～5.0×10-3mbar；在纯氩或氩氧气氛中，在玻璃基板形成陶瓷tiox基层；在纯氩气氛中，采在陶瓷tiox基层上形成底层阻挡保护层；在纯氩中气氛中，在底层阻挡保护层上依次沉积上铜层和银层；在纯氩气氛中，在银层上形成顶层阻挡保护层；在纯氩或氩氧气氛中，在顶层阻挡保护层上形成底层电介质层；在氮氩气氛中，在底层电介质层上形成顶层电介质层。此专利中需要在真空室内的真空度至少达到7.9×10-6mbar后，而将真空室内抽至此真空度耗费的时间过长。

技术实现思路

1、为解决上述技术问题，本发明提供了一种在低真空度下生产镀膜玻璃的方法，该方法能够在1.0×10-5mbar的低真空度下生产出性能优异的可钢化镀膜玻璃，该方法能大大节省工艺时间、提高经济效益。

2、本发明还提供了一种镀膜玻璃，采用本发明所述的方法生产得到，该镀膜玻璃的性能与高真空度下生产出来的镀膜玻璃的性能相当，甚至更优。

3、本发明采取的技术方案如下：

4、一种在低真空度下生产镀膜玻璃的方法，在1.0×10-5mbar的低真空度下进行磁控溅射镀膜；在进行第一银层的蒸镀时，控制25～35％体积百分比的银被氧化。如果低于此范围则氧化程度不足，达不到提高可见光，透过率的效果，起不到高透膜系产品对性能的要求。如果高于此范围，则氧化程度过高，甚至银层会发生全氧化，则失去了设置银层来提高可见光的效果。

5、进一步地，通过控制氩气与氧气的流量比在1000:30～50来控制第一银层中的25～35％体积百分比的银被部分氧化。

6、银靶溅射功率为2.0～5.0kw。

7、本发明提供的所述在低真空度下生产镀膜玻璃的方法之一，具体包括以下步骤：

8、(1)对真空室抽真空处理，使真空室内的真空度达到1.0×10-5mbar，然后对玻璃基片进行磁控溅射镀膜；

9、(2)在纯氩气氛中，在玻璃基片上形成第一介质层；

10、(3)在纯氩气氛中，在第一介质层上形成第一种子层；

11、(4)在氩气与氧气的流量比在1000:30～50的混合气氛下，在第一种子层上形成第一银层；

12、(5)在纯氩气氛中，在第一银层上形成第一银保护层；

13、(6)在氩气与氧气混合气氛下，在第一银保护层上形成第二种子层；

14、(7)在纯氩气氛中，在第二种子层上形成第二银层；

15、(8)在纯氩气氛中，在第二银层上形成第二银保护层；

16、(9)在氩气与氧气混合气氛下，在第二银保护层上形成第三种子层；

17、(10)在纯氩气氛中，在第三种子层上形成顶层保护层。

18、所述第一介质层为非金属氮化物膜层；所述第一种子层为金属氧化物膜层；所述第一银保护层为金属膜层；所述第二种子层为金属氧化物膜层；所述第二银保护层为金属膜层；所述第三种子层为金属氧化物膜层；所述顶层保护层为非金属氮化物膜层。

19、进一步地，所述方法之一具体包括以下步骤：

20、(1)对真空室抽真空处理，使真空室内的真空度达到1.0×10-5mbar，然后对玻璃基片进行磁控溅射镀膜；

21、(2)在600～800ml/min纯氩气氛中，在玻璃基片上形成60～85nm厚的第一介质层sin层；

22、(3)在900～1100ml/min纯氩气氛中，在第一介质层上形成12～15nm厚的第一种子层znalo层；

23、(4)在800～1500ml/min氩气与30～50ml/min氧气的混合气氛下，在第一种子层上形成6～8nm厚的部分氧化的第一银层；

24、(5)在900～1100ml/min纯氩气氛中，在第一银层上形成2～3nm厚的第一银保护层nicr层；

25、(6)在900～1100ml/min氩气与700～900ml/min氧气混合气氛下，在第一银保护层上形成80～92nm厚的第二种子层znsno层；

26、(7)在900～1100ml/min纯氩气氛中，在第二种子层上形成18～22nm厚的第二银层；

27、(8)在900～1100ml/min纯氩气氛中，在第二银层上形成2～5nm厚的第二银保护层nicr层；

28、(9)在900～1100ml/min氩气与700～900ml/min氧气混合气氛下，在第二银保护层上形成10～11nm厚的第三种子层znalo层；

29、(10)在600～800ml/min纯氩气氛中，在第三种子层上形成83～95nm厚的顶层保护层sin层。

30、本发明提供的所述在低真空度下生产镀膜玻璃的方法之二，具体包括以下步骤：

31、(1)对真空室抽真空处理，使真空室内的真空度达到1.0×10-5mbar，然后对玻璃基片进行磁控溅射镀膜；

32、(2)在纯氩气氛中，在玻璃基片上形成第一介质层；

33、(3)在纯氩气氛中，在第一介质层上形成第一种子层；

34、(4)在氩气与氧气的流量比在1000:30～50的混合气氛下，在第一种子层上形成第一银层；

35、(5)在纯氩气氛中，在第一银层上形成铜层；

36、(6)在纯氩气氛中，在铜层上形成第二银层保护层镍铬层；

37、(7)在氩气与氧气混合气氛下，在第一银保护层上形成第二种子层；

38、(8)在纯氩气氛中，在第二种子层上形成第二银层；

39、(9)在纯氩气氛中，在第二银层上形成第二银保护层；

40、(10)在氩气与氧气混合气氛下，在第二银保护层上形成第三种子层；

41、(11)在纯氩气氛中，在第三种子层上形成顶层保护层。

42、所述第一介质层为非金属氮化物膜层；所述第一种子层为金属氧化物膜层；所述第一银保护层为金属膜层；所述第二种子层为金属氧化物膜层；所述第二银保护层为金属膜层；所述第三种子层为金属氧化物膜层；所述顶层保护层为非金属氮化物膜层。

43、进一步地，所述方法之二具体包括以下步骤：

44、(1)对真空室抽真空处理，使真空室内的真空度达到1.0×10-5mbar，然后对玻璃基片进行磁控溅射镀膜；

45、(2)在600～800ml/min纯氩气氛中，在玻璃基片上形成45～53nm厚的第一介质层sin层；

46、(3)在900～1100ml/min纯氩气氛中，在第一介质层上形成7～10nm厚的第一种子层znalo层；

47、(4)在800～1500ml/min氩气与30～50ml/min氧气的混合气氛下，在第一种子层上形成4～10nm厚的部分氧化的第一银层；

48、(5)在纯氩气氛中，在第一银层上形成6～8nm厚的铜层；

49、(6)在纯氩气氛中，在铜层上形成2～2.8nm厚的第一银保护层nicr层；

50、(7)在900～1100ml/min氩气与700～900ml/min氧气混合气氛下，在第一银保护层上形成85～95nm厚的第二种子层znsno层；

51、(8)在900～1100ml/min纯氩气氛中，在第二种子层上形成12～15.2nm厚的第二银层；

52、(9)在900～1100ml/min纯氩气氛中，在第二银层上形成2.5～5nm厚的第二银保护层nicr层；

53、(10)在900～1100ml/min氩气与700～900ml/min氧气混合气氛下，在第二银保护层上形成6～8nm厚的第三种子层znalo层；

54、(11)在600～800ml/min纯氩气氛中，在第三种子层上形成55～63nm厚的顶层保护层sin层。本发明还提供了按照本发明所述的方法生产的镀膜玻璃。

55、所述镀膜玻璃的透过率为50～70％。

56、本发明提供的在低真空度下生产镀膜玻璃的方法，通过在进行第一银层的磁控溅射镀膜时，控制第一银层发生部分氧化，这样能人为可控的生成少量ago作为晶种，加快结晶膜的形成，提升初期成核密度，降低ag的金属活性；这样在玻璃基片镀第二种子层时，第一银层不会和再和氧气发生反应而破坏金属银层功能。

57、如果在进行第一银层的溅射镀膜时，在1.0×10-5mbar的低真空度下，在纯氩气的气氛下进行，则ag层结晶膜形成时由于缺少晶种成核密度低结晶困难，形成的结晶膜不稳定，ag的金属活性较高。这样在玻璃基片镀第二种子层时，由于第二种子层需要在氩气与氧气混合气氛下进行溅射镀膜，则第一银层会和氧气发生反应而不可控的破坏金属银层的功能，无法达到预期镀膜效果，此现象在第一层银层厚度在2nm以下时尤其明显。产品多表现为膜层局部氧化,反射降低、透过率降低，造成产品颜色、性能不稳定。

58、与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：

59、本发明在1.0×10-5mbar的低真空度下，也可以生产出性能优异的双银镀膜玻璃产品，相对于4.0×10-6mbar以上的生产条件，大大节省了工艺时间、提升了生产效率，显著提高了经济效益。