一种硅片超声波清洗机的制作方法

本发明属于半导体清洗设备，具体涉及到一种硅片超声波清洗机。

背景技术：

1、硅片是指用硅单晶或多晶硅材料制成的薄片，通常具有平整的表面和特定的晶体结构，在半导体工业中，硅片是制造集成电路和其他电子器件的基础材料，硅片在进行加工时，需要进行多次清洗，去除表面的残留物和有机杂质，以便于进行加工，硅片清洗包括超声波清洗、等离子清洗以及其他清洗方式，超声波清洗是一种常用于硅片清洗的有效方法，它利用超声波在液体中形成的高频振动波，通过液体中的微小气泡的破裂和冲击效应，可以对硅片表面的污染物进行有效去除。

2、现有的硅片超声波清洗机一般都是自动化进行，将硅片放到清洗篮中，通过清洗机上的钩子自动将清洗篮依次放到酸碱清洗槽和纯水清洗槽内，通过超声波进行清洗，清洗后再进行烘干，此方式虽然效率较高，但是仍有一些不足，将清洗篮放入到酸碱清洗槽内时，清洗篮是静止不动，通过超声波进行清洗时，无法对硅片与清洗篮接触的死角进行清洗，导致对硅片清洗不彻底，进而影响硅片后续的加工质量。

技术实现思路

1、本发明所要解决的技术问题在于克服上述现有技术的缺点，提供一种硅片超声波清洗机。

2、解决上述技术问题所采用的技术方案是：一种硅片超声波清洗机，包括支撑机构，所述支撑机构中心一侧固定连接有上料架，所述支撑机构中心固定安装有清洗机构，所述支撑机构中心另一侧固定连接有下料架；

3、所述清洗机构中心一侧安装有升降机构，所述清洗机构中心另一侧固定安装有烘干机构，所述上料架和清洗机构上均设有清洗篮，两个所述清洗篮上均设有若干个硅片主体；

4、所述支撑机构上滑动连接有左右移动机构，所述左右移动机构上安装有上下移动机构，所述上下移动机构的底部安装有钩起机构。

5、进一步的，所述支撑机构包括底架，所述底架的顶部前后端均固定连接有支撑架，两个所述支撑架上均固定连接有第一滑轨，两个所述第一滑轨的内表面均固定连接有第一齿条。

6、通过上述技术方案，两个第一滑轨和第一齿条与左右移动机构配合，实现钩起机构左右移动，进而带动清洗篮内的多个硅片主体进行移动，以便于进行清洗。

7、进一步的，所述清洗机构包括固定连接于底架顶部中心的清洗柜，所述清洗柜上依次分别开设有第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽和烘干槽，所述第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽和烘干槽内壁均固定连接有超声波发射器，所述底架的顶部中心前端固定连接有超声波发生器，所述超声波发生器与多个超声波发射器之间均固定连接有导线。

8、通过上述技术方案，对清洗篮内的多个硅片主体进行清洗时，首先工作人员分别在第一清洗槽、第二清洗槽和第三清洗槽内投入有机溶液、酸碱溶液和纯化水，再将装有硅片主体的清洗篮放置在上料架上，通过钩起机构钩起清洗篮，再通过左右移动机构和上下移动机构进行移动，将清洗篮放置到第一清洗槽内的升降机构上，启动超声波发生器，将电能转换为机械振动能，通过导线进行输送到相连接的超声波发射器内，再通过超声波发射器输送到第一清洗槽内的有机溶液中，有机溶液产生微小波动对清洗篮内的硅片主体进行超声波清洗，清洗一定时间后，再以同样的方式通过左右移动机构、上下移动机构和钩起机构将第一清洗槽内清洗篮依次移至第二清洗槽和第三清洗槽内，依次启动超声波发生器，以同样的方式对清洗篮的硅片主体进行超声波清洗，清洗一定时间后，通过左右移动机构、上下移动机构和钩起机构将清洗篮移动至烘干槽内，通过烘干机构对其进行烘干，烘干结束后，再通过左右移动机构、上下移动机构和钩起机构将清洗篮移动至下料架上，完成对若干个硅片主体的清洗。

9、进一步的，所述升降机构包括固定连接于清洗柜前后端外壁一侧的两个电动推杆，两个所述电动推杆活塞的顶端均固定连接有连接架，两个所述连接架之间固定连接有支撑底座，两个所述连接架的内壁均固定连接有限位条，所述清洗柜上且位于第一清洗槽的内壁前后端均固定连接有凹形条，两个所述限位条与对应的凹形条滑动连接。

10、通过上述技术方案，当清洗篮放置到支撑底座上时，启动两个电动推杆，两个电动推杆分别通过活塞慢慢推动对应的连接架，使得两个连接架带动支撑底座向上移动，使得支撑底座带动清洗篮上升，慢慢移动一定高度后，两个电动推杆活塞再回缩，带动清洗篮慢慢下降，两个电动推杆活塞升降往复移动，实现清洗篮升降往复移动，使得清洗篮内的硅片主体更好的接收到超声波清洗，有利于有机溶液从清洗篮的底部对硅片主体进行清洗，提高对硅片主体的清洗效率和清洗质量。

11、进一步的，所述烘干机构包括固定连接于清洗柜前端另一侧的两个第一安装壳，两个所述第一安装壳的内部中心前端位置均安装有多个送风机，两个所述第一安装壳的内部中心后端位置均固定连接有多个加热条，所述清洗柜的后端一侧固定连接有两个第二安装壳，两个所述第二安装壳内均固定安装有多个排风机。

12、通过上述技术方案，当清洗篮移动至烘干槽内时，启动多个送风机和多个加热条，对清洗篮内的硅片主体吹热风，再启动多个排风机，对烘干槽内的热风进行排走，加速烘干槽内的气体循环，以提高对硅片主体的烘干效率。

13、进一步的，所述左右移动机构包括设置于两个第一滑轨之间的移动架，所述移动架的前后端四角处均转动连接有滑轮，多个所述滑轮分别与对应的第一滑轨滑动连接，所述移动架中心一侧转动连接有贯穿的第一连接轴，所述第一连接轴的外壁两端均固定连接有第一齿轮，两个所述第一齿轮分别与对应的第一齿条啮合，所述第一连接轴的外壁中心固定连接有第二齿轮，所述移动架的底部内表面后端固定安装有第一电机，所述第一电机输出轴的外壁固定连接有第三齿轮，所述第三齿轮与第二齿轮啮合。

14、通过上述技术方案，当钩起机构钩住清洗篮时，需要进行移动，启动第一电机，使得第一电机通过输出轴带动第三齿轮转动，进而带动第二齿轮转动，第二齿轮转动带动第一连接轴转动，进而带动两个第一齿轮在对应的第一齿条上转动，实现移动架来回移动。

15、进一步的，所述上下移动机构包括固定连接于移动架前后端内壁的两个第二滑轨，两个所述第二滑轨上均滑动连接有滑条，两个所述滑条的内表面均固定连接有升降板，两个所述升降板的一侧均固定连接有第二齿条，所述移动架的底部内表面前后端均固定连接有固定座，两个所述固定座之间转动连接有第二连接轴，所述第二连接轴的外壁前后端均固定连接有第四齿轮，两个所述第四齿轮分别与对应的第二齿条啮合，所述第二连接轴的外壁中心固定连接有第五齿轮，所述移动架的底部内表面前端固定安装有第二电机，所述第二电机输出轴的外壁固定连接有第六齿轮，所述第六齿轮与第五齿轮啮合，两个所述升降板的底部之间固定连接有安装板。

16、通过上述技术方案，需要将钩起的清洗篮移至第一清洗槽内时，启动第二电机，使得第二电机通过输出轴转动带动第六齿轮转动，进而带动第五齿轮转动，第五齿轮转动带动第二连接轴转动，进而带动两个第四齿轮转动，两个第四齿轮转动分别在对应的第二齿条上滚动，进而带动两个升降板向下移动，从而带动安装板向下移动，进而带动清洗篮向下移动至第一清洗槽内，第二电机输出轴反转时，便带动安装板向上移动，以便后续对清洗篮的升降处理。

17、进一步的，所述钩起机构包括转动连接于安装板中心的转轴，所述转轴的底端固定连接有连接板，所述连接板的底部四角均固定连接有钩子，所述转轴的外壁顶端固定连接有第七齿轮，所述安装板的顶部一侧固定连接有第三电机，所述第三电机输出轴的外壁固定连接有第八齿轮。

18、通过上述技术方案，对上料架上的清洗篮钩起时，通过左右移动机构和上下移动机构带动多个钩子移动至清洗篮的附近，慢慢靠近清洗篮连接耳的旁边，再通过左右移动机构移动多个钩子，使得多个钩子分别移动至清洗篮连接耳的下方，再通过上下移动机构上升，使得多个钩子分别钩住清洗篮上的连接耳，实现对清洗篮钩住，再有序将钩住的清洗篮依次放入到第一清洗槽、第二清洗槽和第三清洗槽内进行清洗。

19、进一步的，所述第八齿轮与第七齿轮啮合。

20、通过上述技术方案，放入到第二清洗槽内时，启动第三电机，第三电机通过输出轴转动带动第八齿轮转动，进而带动第七齿轮转动，第七齿轮转动带动转轴转动，进而带动连接板和多个钩子转动，实现对钩住清洗篮的转动，以便于第二清洗槽内酸碱溶液对其进行超声波清洗，超声波发射器所发出的振动，能够对硅片主体与清洗篮的死角处进行清洗，大大提高了对硅片主体的清洗范围以及清洗质量。

21、本发明的有益效果如下：（1）本发明通过设计升降机构和钩起机构，在对硅片进行超声波清洗时，通过升降机构升降往复移动，使得清洗液更好的接触硅片，能够让硅片的不同角度进行清洗，同时钩起机构可以进行转动，能够对硅片与清洗篮的死角处进行清洗，大大提高了对硅片的清洗范围以及清洗质量；（2）本发明通过设计左右移动机构和上下移动机构，使得该装置更加自动化，能够快速将硅片进行清洗和烘干处理，并且依次进行，工作效率较高，进而提高对硅片的清洗效率。