成膜装置及真空蒸镀机的制作方法

本技术涉及真空蒸镀，尤其涉及一种成膜装置及真空蒸镀机。

背景技术：

1、在各种商品中应用平板显示器，要求平板显示器进一步大型化、高画质化、低耗电化。具备利用有机材料的电致发光(electroluminescences，简称el)的有机el元件的有机el显示装置，作为在全固体型、低压驱动、高速响应性、自发光性等方面优异的平板显示器，受到了高度的关注。在有机el显示装置的制造中，在形成构成有机el显示装置的有机发光元件(organic light-emitting diode，oled)时，通过经由形成有像素图案的掩模版将从成膜装置的蒸发源蒸发的蒸镀材料蒸镀到基板上，从而形成有机物层、金属层。

2、现有技术中，在向上蒸镀方式的成膜装置中，蒸发源设置在成膜装置的蒸镀腔体的下部，基板配置在蒸镀腔体的上部，在基板的下表面进行蒸镀。为了在基板上蒸镀金属薄膜或有机薄膜，需要支撑基板的两端，使得基板暴露出要蒸镀的表面。

3、然而，在使用大尺寸基板时，基板和掩模版的对位过程中发生误差，降低了oled的产品良率。

技术实现思路

1、本实用新型实施例提供一种成膜装置及真空蒸镀机，以解决在使用大尺寸基板时，基板和掩模版的对位过程中发生误差，降低了oled的产品良率的问题。

2、一方面，本实用新型实施例提供一种成膜装置，包括蒸镀腔体、基板、掩模版、推动件和吸附部件；

3、所述基板和所述掩模版可活动设置在所述蒸镀腔体内，所述掩模版在所述成膜装置的高度方向上与所述基板的成膜面相对设置；

4、所述推动件可活动设置在所述蒸镀腔体内，所述推动件可压在所述基板在成膜装置的长度方向的两端；

5、所述吸附部件可活动设置在所述蒸镀腔体内，所述吸附部件可吸附所述基板背离所述成膜面一侧的表面。

6、在一种可能的实施方式中，还包括第一支架、第二支架和第三支架；

7、所述第一支架可活动设置在所述蒸镀腔体上，所述基板放置在所述第一支架上，所述第一支架设置有第一限位结构，所述第一限位结构被构造为对所述基板在所述成膜装置的宽度方向上进行限位；

8、所述第二支架可活动设置在所述蒸镀腔体上，所述掩模版放置在所述第二支架上，所述第二支架设置有第二限位结构，所述第二限位结构被构造为对所述掩模版在所述成膜装置的宽度方向上进行限位；

9、所述第三支架可活动设置在所述蒸镀腔体上，所述吸附部件固定在所述第三支架上。

10、在一种可能的实施方式中，所述第一支架配置有第一驱动结构，所述第一支架包括第一驱动杆和第一支座，所述第一驱动杆与所述第一支座固定连接，所述第一驱动结构可驱动所述第一驱动杆在所述成膜装置的高度方向上移动；

11、所述第二支架配置有第二驱动结构，所述第二支架包括第二驱动杆和第二支座，所述第二驱动杆与所述第二支座固定连接，所述第二驱动结构可驱动所述第二驱动杆在所述成膜装置的高度方向上移动；

12、所述第三支架配置有第三驱动结构，所述第三驱动结构可驱动所述第三支架在所述成膜装置的高度方向上移动。

13、在一种可能的实施方式中，所述第一驱动结构包括第一气缸，所述第一气缸固定在所述蒸镀腔体上，所述第一气缸的活塞杆与所述第一驱动杆固定连接；

14、所述第二驱动结构包括第二气缸，所述第二气缸固定在所述蒸镀腔体上，所述第二气缸的活塞杆与所述第二驱动杆固定连接；

15、所述第三驱动结构包括第三气缸，所述第三气缸固定在所述蒸镀腔体上，所述第三气缸的活塞杆与所述第三支架固定连接。

16、在一种可能的实施方式中，所述第一限位结构设置在所述第一支座上，所述第一限位结构包括第一限位槽，所述第一支座设置有第一通孔，所述基板卡在所述第一限位槽中，所述基板的成膜面可通过所述第一通孔暴露；

17、所述第二限位结构设置在所述第二支座上，所述第二限位结构包括第二限位槽，所述第二支座设置有第二通孔，所述掩模版卡在所述第二限位槽中，所述掩模版可通过所述第二通孔暴露。

18、在一种可能的实施方式中，所述吸附部件为静电吸盘，所述静电吸盘固定在所述第三支架上。

19、在一种可能的实施方式中，还包括磁板和第四支架；

20、所述第四支架可活动设置在所述蒸镀腔体上，所述磁板位于所述蒸镀腔体内，所述磁板固定在所述第四支架上，所述磁板设置在所述吸附部件背离所述基板的一侧，所述磁板可通过磁力将所述掩模版朝向所述磁板拉动。

21、在一种可能的实施方式中，所述第四支架配置有第四驱动结构，所述第四驱动结构可驱动所述第四支架在所述成膜装置的高度方向上移动。

22、在一种可能的实施方式中，所述第四驱动结构包括第四气缸，所述第四气缸固定在所述蒸镀腔体上，所述第四气缸的活塞杆与所述第四支架固定连接。

23、另一方面，本实用新型实施例提供一种真空蒸镀机，包括如上所述的成膜装置。

24、本实用新型实施例提供一种成膜装置及真空蒸镀机，包括蒸镀腔体、基板、掩模版、推动件和吸附部件；基板和掩模版可活动设置在蒸镀腔体内，掩模版在成膜装置的高度方向上与基板的成膜面相对设置；推动件可活动设置在蒸镀腔体内，推动件可压在基板在成膜装置的长度方向的两端；吸附部件可活动设置在蒸镀腔体内，吸附部件可吸附基板背离成膜面一侧的表面。通过推动件在成膜装置的高度方向上压在基板在成膜装置的长度方向的两端，吸附部件吸附基板背离成膜面一侧的表面，可以减小基板的中间部分下垂，从而在基板和掩模版的对位过程中发生的误差减小，进而可以提高oled的产品良率。

技术特征：

1.一种成膜装置，其特征在于，包括蒸镀腔体、基板、掩模版、推动件和吸附部件；

2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，还包括第一支架、第二支架和第三支架；

3.根据权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，所述第一支架配置有第一驱动结构，所述第一支架包括第一驱动杆和第一支座，所述第一驱动杆与所述第一支座固定连接，所述第一驱动结构可驱动所述第一驱动杆在所述成膜装置的高度方向上移动；

4.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，所述第一驱动结构包括第一气缸，所述第一气缸固定在所述蒸镀腔体上，所述第一气缸的活塞杆与所述第一驱动杆固定连接；

5.根据权利要求4所述的成膜装置，其特征在于，所述第一限位结构设置在所述第一支座上，所述第一限位结构包括第一限位槽，所述第一支座设置有第一通孔，所述基板卡在所述第一限位槽中，所述基板的成膜面可通过所述第一通孔暴露；

6.根据权利要求4所述的成膜装置，其特征在于，所述吸附部件为静电吸盘，所述静电吸盘固定在所述第三支架上。

7.根据权利要求1-6任一项所述的成膜装置，其特征在于，还包括磁板和第四支架；

8.根据权利要求7所述的成膜装置，其特征在于，所述第四支架配置有第四驱动结构，所述第四驱动结构可驱动所述第四支架在所述成膜装置的高度方向上移动。

9.根据权利要求8所述的成膜装置，其特征在于，所述第四驱动结构包括第四气缸，所述第四气缸固定在所述蒸镀腔体上，所述第四气缸的活塞杆与所述第四支架固定连接。

10.一种真空蒸镀机，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的成膜装置。

技术总结本技术提供一种成膜装置及真空蒸镀机，涉及真空蒸镀技术领域。成膜装置包括蒸镀腔体、基板、掩模版、推动件和吸附部件；基板和掩模版可活动设置在蒸镀腔体内，掩模版在成膜装置的高度方向上与基板的成膜面相对设置；推动件可活动设置在蒸镀腔体内，推动件可压在基板在成膜装置的长度方向的两端；吸附部件可活动设置在蒸镀腔体内，吸附部件可吸附基板背离成膜面一侧的表面。通过推动件在成膜装置的高度方向上压在基板在成膜装置的长度方向的两端，吸附部件吸附基板背离成膜面一侧的表面，可以减小基板的中间部分下垂，从而在基板和掩模版的对位过程中发生的误差减小，进而可以提高OLED的产品良率。技术研发人员：鲁俊瑞,文炯敦,姜汉默,轩景泉,尹恩心,彭勃,池元圭,崔晶植,冯利凯受保护的技术使用者：上海升翕光电科技有限公司技术研发日：20240314技术公布日：2024/11/7