一种双筒埋式压力水位计的制作方法

本技术属于水位观测，具体涉及一种双筒埋式压力水位计。

背景技术：

1、压力式水位计采用先进的隔离型扩散硅敏感元件制作而成，直接投入容器或水体中即可精确测量出水位计末端到水面的高度，并将水位值通过4-20ma电流或rs485信号对外输出。压力式水位计广泛应用于城市供排水、污水处理、地下水、水库、河道、海洋等水位监测领域。

2、现有的双筒埋式压力水位计还存在部分缺陷，大多数双筒埋式压力水位计在使用过程中，沉入水底后，因为水流过快，导致检测仪器移动，导致测量不准和对仪器损坏，为此我们提出一种双筒埋式压力水位计。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种双筒埋式压力水位计，以解决上述背景技术中提出仪器进入水底不稳定的问题。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种双筒埋式压力水位计，包括底座，所述底座底部设有防滑块，所述防滑块和底座固定连接，所述底座顶部设有第一加重块，所述第一加重块顶部设有第一螺栓，所述第一加重块与底座通过第一螺栓固定连接，所述底座顶部设有第二加重块，所述第二加重块顶部设有第二螺栓，所述第二加重块与底座通过第二螺栓固定连接，所述底座顶部设有防护壳，所述防护壳和底座固定连接，所述防护壳内部设有进水箱，所述进水箱和底座固定连接。

3、优选的，所述进水箱顶部设有进水管，所述进水管和进水箱固定连接。

4、优选的，所述进水管一端设有第一防尘过滤网，所述进水管一端设有第二防尘过滤网。

5、优选的，所述进水箱内部设有绝淤容器，所述绝淤容器顶部设有反u型管。

6、优选的，所述绝淤容器内部设有压力水位计，所述压力水位计一端设有信号线。

7、优选的，所述信号线表面设有防护线，所述防护线表面设有连接法兰片。

8、优选的，所述防护线和连接法兰片可拆卸连接，所述信号线一端设有仪器支架。

9、与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

10、1、通过设有底座、防滑块、第一加重块、第一螺栓、第二加重块、第二螺栓、防护壳、进水箱和进水管，实现了双筒埋式压力水位计对水位计进行保护和固定在水底的功能，提高了双筒埋式压力水位计在水底的稳定性。

11、2、通过设有第一防尘过滤网、第二防尘过滤网、绝淤容器、反u型管、压力水位计、信号线、防护线和仪器支架，实现了双筒埋式压力水位计对水位测试的功能，提高了压力水位计使用时长。

技术特征：

1.一种双筒埋式压力水位计，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)底部设有防滑块(2)，所述防滑块(2)和底座(1)固定连接，所述底座(1)顶部设有第一加重块(3)，所述第一加重块(3)顶部设有第一螺栓(4)，所述第一加重块(3)与底座(1)通过第一螺栓(4)固定连接，所述底座(1)顶部设有第二加重块(5)，所述第二加重块(5)顶部设有第二螺栓(6)，所述第二加重块(5)与底座(1)通过第二螺栓(6)固定连接，所述底座(1)顶部设有防护壳(7)，所述防护壳(7)和底座(1)固定连接，所述防护壳(7)内部设有进水箱(8)，所述进水箱(8)和底座(1)固定连接。

2.根据权利要求1所述的一种双筒埋式压力水位计，其特征在于：所述进水箱(8)顶部设有进水管(9)，所述进水管(9)和进水箱(8)固定连接。

3.根据权利要求2所述的一种双筒埋式压力水位计，其特征在于：所述进水管(9)一端设有第一防尘过滤网(10)，所述进水管(9)一端设有第二防尘过滤网(11)。

4.根据权利要求1所述的一种双筒埋式压力水位计，其特征在于：所述进水箱(8)内部设有绝淤容器(12)，所述绝淤容器(12)顶部设有反u型管(13)。

5.根据权利要求4所述的一种双筒埋式压力水位计，其特征在于：所述绝淤容器(12)内部设有压力水位计(14)，所述压力水位计(14)一端设有信号线(15)。

6.根据权利要求5所述的一种双筒埋式压力水位计，其特征在于：所述信号线(15)表面设有防护线(17)，所述防护线(17)表面设有连接法兰片(16)。

7.根据权利要求6所述的一种双筒埋式压力水位计，其特征在于：所述防护线(17)和连接法兰片(16)可拆卸连接，所述信号线(15)一端设有仪器支架(18)。

技术总结本技术公开了水位观测技术领域的一种双筒埋式压力水位计，包括底座，所述底座底部设有防滑块，所述防滑块和底座固定连接，所述底座顶部设有第一加重块，所述第一加重块顶部设有第一螺栓，所述第一加重块与底座通过第一螺栓固定连接，所述底座顶部设有第二加重块，所述第二加重块顶部设有第二螺栓，所述第二加重块与底座通过第二螺栓固定连接，所述底座顶部设有防护壳，所述防护壳和底座固定连接，所述防护壳内部设有进水箱，通过设有底座、防滑块、第一加重块、第一螺栓、第二加重块、第二螺栓、防护壳、进水箱和进水管，实现了双筒埋式压力水位计对水位计进行保护和固定在水底的功能，提高了双筒埋式压力水位计在水底的稳定性。技术研发人员：张爱平,陈耀祖受保护的技术使用者：上海衡谱科技有限公司技术研发日：20240109技术公布日：2025/1/14