全自动投影光刻机的制作方法

本技术属于光刻机，具体涉及一种全自动投影光刻机。

背景技术：

1、光刻是半导体制造过程中一道非常重要的工序，它是将一系列掩模板上的芯片图形通过曝光依次转移到硅片相应层上的工艺过程，被认为是大规模集成电路制造中的核心步骤。半导体制造中一系列复杂而耗时的光刻工艺主要由相应的光刻机来完成。现有的光刻机有手动光刻机、半自动光刻机和全自动光刻机，其中半自动光刻机如何实现工件的高度度调节以及掩模板对位调节，是目前需要解决的问题。

技术实现思路

1、本实用新型旨在至少在一定程度上解决上述技术问题。为此，本实用新型目的在于提供一种全自动投影光刻机。

2、本实用新型所采用的技术方案为：

3、一种全自动投影光刻机，包括机架，机架上安装有平台，平台上安装有x轴直线电机和立柱，x轴直线电机的活动端上安装有y轴直线电机，y轴直线电机的活动端上安装有浮动机构，立柱上设有安装台，安装台的上端面上设有xyq对位平台、左对位镜头、平行光源和右对位镜头，xyq对位平台上安装有掩模板，平行光源位于掩模板上方；安装台的下端面上设有测距镜头、投影镜头和激光测距仪。

4、优选地，所述浮动机构的工件盘上安装有吸盘，吸盘与负压源连通。所述安装台上设有光源安装架，平行光源安装在光源安装架上。

5、本实用新型的有益效果为：

6、本实用新型所提供的全自动投影光刻机，工件放到吸盘上，投影镜头可以识别工件上的标记并实时对位，浮动机构调整工件高度，xyq对位平台对位掩模板图形，对位工程后平行光源自动曝光，最后取出吸盘和工件，重复上述循环即可实现自动化的光刻作业。

技术特征：

1.一种全自动投影光刻机，其特征在于：包括机架(1)，机架(1)上安装有平台(2)，平台(2)上安装有x轴直线电机(3)和立柱(4)，x轴直线电机(3)的活动端上安装有y轴直线电机(5)，y轴直线电机(5)的活动端上安装有浮动机构(6)，立柱(4)上设有安装台(7)，安装台(7)的上端面上设有xyq对位平台(8)、左对位镜头(9)、平行光源(10)和右对位镜头(12)，xyq对位平台(8)上安装有掩模板(13)，平行光源(10)位于掩模板(13)上方；安装台(7)的下端面上设有测距镜头(14)、投影镜头(15)和激光测距仪(16)。

2.根据权利要求1所述的全自动投影光刻机，其特征在于：所述浮动机构(6)的工件盘上安装有吸盘(17)，吸盘(17)与负压源连通。

3.根据权利要求1所述的全自动投影光刻机，其特征在于：所述安装台(7)上设有光源安装架(11)，平行光源(10)安装在光源安装架(11)上。

4.根据权利要求1所述的全自动投影光刻机，其特征在于：所述立柱(4)为四根，四根立柱(4)分别与安装台(7)的四个角相连。

5.根据权利要求1所述的全自动投影光刻机，其特征在于：所述机架(1)底部设有多个调平脚(18)。

6.根据权利要求1所述的全自动投影光刻机，其特征在于：所述左对位镜头(9)和右对位镜头(12)对称设于xyq对位平台(8)的两侧。

7.根据权利要求1-6任一所述的全自动投影光刻机，其特征在于：所述平台(2)由大理石制成。

技术总结本技术属于光刻机技术领域，公开了一种全自动投影光刻机，包括机架，机架上安装有平台，平台上安装有X轴直线电机和立柱，X轴直线电机上安装有Y轴直线电机，Y轴直线电机上安装有浮动机构，立柱上设有安装台，安装台的上端面上设有XYQ对位平台、左对位镜头、平行光源和右对位镜头，XYQ对位平台上安装有掩模板，平行光源位于掩模板上方；安装台的下端面上设有测距镜头、投影镜头和激光测距仪。本技术将工件放到吸盘上，投影镜头可以识别工件上的标记并实时对位，浮动机构调整工件高度，XYQ对位平台对位掩模板图形，对位工程后平行光源自动曝光，最后取出吸盘和工件，重复上述循环即可实现半自动化的光刻作业。技术研发人员：张其文,扶小莲,刘阳波,陈正洪受保护的技术使用者：四川鸿源鼎芯科技有限公司技术研发日：20230925技术公布日：2024/6/2