用于制造显示装置的设备以及掩模组件的制作方法

本公开的实施方式涉及设备和方法，并且例如涉及用于制造显示装置的设备、掩模组件和制造该显示装置的方法。

背景技术：

1、近来，电子装置被广泛使用。诸如移动电子装置和固定电子装置的电子装置以一种或多种合适的方式被利用，并且这些电子装置包括可提供诸如图像或视频的可视信息以支持一种或多种合适的功能的显示装置。

2、通过沉积一个或多个合适的层(诸如，有机层、金属层等)来形成显示装置，所述显示装置是配置成可视地显示数据的装置。可以对沉积材料进行沉积以形成显示装置的多个层。例如，沉积材料从沉积源喷射并通过掩模组件沉积在衬底上。在这种情况下，当掩模片变形或在掩模片和屏蔽杆之间发生阻断时，沉积材料不会沉积到衬底上的期望或合适的位置上，并且因此，降低了沉积的质量。

3、以上描述的相关技术可以包括申请人所拥有的用于衍生出本公开或在衍生本公开期间获得的技术信息，并且不一定是在应用本公开的申请之前向公众公开的合适技术。

技术实现思路

1、实施方式的方面涉及用于制造显示装置的设备、掩模组件和制造显示装置的方法，通过其可以校正在将掩模片固定到掩模框架的工艺中发生的开口的变形。

2、另外的方面将部分地在随后的描述中阐述，并且部分地将从描述中显而易见，或者可以通过本公开的所呈现的实施方式的实践而习得。

3、根据一个或多个实施方式，用于制造显示装置的设备包括：掩模组件，包括掩模框架和掩模片，掩模框架包括开口区域，并且掩模片覆盖开口区域，其中，掩模片包括：主体，固定到掩模框架；开口，布置在主体中，并且沉积材料穿过开口；以及校正器，布置在主体中，并且配置成校正开口的变形，其中，校正器包括：校正孔，穿透主体；以及校正构件，与校正孔的至少一部分交叉，并且可切割地连接到主体。

4、根据一个或多个实施方式，校正孔包括：第一孔；第二孔，从第一孔在第一方向上延伸；以及第三孔，从第一孔在第二方向上延伸。

5、根据一个或多个实施方式，第一方向与第二方向彼此交叉。

6、根据一个或多个实施方式，校正构件包括：第一校正构件，与第二孔交叉；以及第二校正构件，与第三孔交叉。

7、根据一个或多个实施方式，校正孔的平面具有十字形形状。

8、根据一个或多个实施方式，校正构件的厚度可以小于主体的厚度。

9、根据一个或多个实施方式，开口设置为多个开口，多个开口布置在第一开口方向上和与第一开口方向交叉的第二开口方向上，以及校正器的至少一部分布置在选自多个开口中的彼此相邻的四个开口之间的区域中。

10、根据一个或另一实施方式，掩模组件包括：掩模框架，包括开口区域；以及掩模片，覆盖开口区域，其中，掩模片包括：主体，在拉伸状态下固定到掩模框架；开口，布置在主体中，沉积材料穿过开口；以及校正器，布置在主体中并且能够至少部分地切割以校正在主体被拉伸时引起的开口的变形。

11、根据一个或多个实施方式，校正器可以包括：校正孔，穿透主体；以及校正构件，覆盖校正孔的至少一部分并且可切割地连接到主体。

12、根据一个或多个实施方式，校正构件的厚度可以小于主体的厚度。

13、根据一个或多个实施方式，开口设置为多个开口，多个开口布置在第一开口方向和与第一开口方向交叉的第二开口方向上，以及校正器的至少一部分布置在选自多个开口中的彼此相邻的四个开口之间的区域中。

技术特征：

1.用于制造显示装置的设备，其特征在于，所述设备包括：

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述校正孔包括：

3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述第一方向与所述第二方向彼此交叉。

4.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述校正构件包括：

5.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述校正孔在所述校正孔的平面图中具有十字形形状。

6.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述校正构件的厚度小于所述主体的厚度。

7.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，

8.掩模组件，其特征在于，包括：

9.根据权利要求8所述的掩模组件，其特征在于，所述校正器包括：

10.根据权利要求9所述的掩模组件，其特征在于，所述校正构件的厚度小于所述主体的厚度。

技术总结本申请涉及用于制造显示装置的设备和掩模组件。用于制造显示装置的设备包括：掩模组件，包括掩模框架和掩模片，掩模框架包括开口区域，并且掩模片覆盖开口区域，其中，掩模片包括：主体，固定到掩模框架；开口，布置在主体中，沉积材料穿过开口；以及校正器，布置在主体中，并且配置成校正开口的变形，并且校正器包括：校正孔，穿透主体；以及校正构件，与校正孔的至少一部分交叉，并且可切割地连接到主体。技术研发人员：金桢国,金辉,文英慜,李娥凜受保护的技术使用者：三星显示有限公司技术研发日：20230516技术公布日：2024/6/5