氧化触媒与其形成方法与处理烟气的方法与流程

本发明涉及氧化触媒，特别涉及其形成方法与应用方式。

背景技术：

1、目前需使烟气中残余的甲烷、一氧化碳、或上述的组合再次氧化以提升能源的利用率，同时达到减污的功效。然而现有触媒(如含贵金属的触媒)无法承受高温(如700℃至1000℃)，因此无法使高温烟气中的甲烷、一氧化碳、或上述的组合进一步氧化而加温高温烟气。

2、综上所述，目前亟需新的触媒，不仅符合贫氧的高温操作环境，且能快速大量制备以降低成本。

技术实现思路

1、本发明一实施例提供的氧化触媒，其化学式为cu1-xmxoy，其中m为ce或mn；x为0.1至0.9；以及y为对应cu与m的价数的数值，其中氧化触媒同时具有中孔与巨孔。

2、在一些实施例中，氧化触媒的中孔为10nm至50nm，而巨孔为100nm至400nm。

3、在一些实施例中，氧化触媒不含pt、pd、rh、ru、au、或ag。

4、本发明一实施例提供的氧化触媒的形成方法，包括：将cu的盐类、m的盐类、甘胺酸、与蔗糖溶于水中以形成中性水溶液，其中m为ce或mn；以及加热中性水溶液至350℃到500℃而产生大量气体，待水干燥后即得氧化触媒，其中氧化触媒的化学式为cu1-xmxoy，x为0.1至0.9；以及y为对应cu与m的价数的数值，其中氧化触媒同时具有中孔与巨孔。

5、在一些实施例中，cu的盐类与m的盐类的摩尔数与甘胺酸的摩尔数的比例为1∶0.5至1∶1.5。

6、在一些实施例中，cu的盐类与m的盐类的摩尔数与蔗糖的摩尔数的比例为1∶0.05至1∶0.3。

7、在一些实施例中，氧化触媒的中孔为10nm至50nm，而巨孔为100nm至400nm。

8、在一些实施例中，氧化触媒不含pt、pd、rh、ru、au、或ag。

9、在一些实施例中，上述方法更包括锻烧氧化触媒，且锻烧温度介于850℃至1150℃。

10、本发明一实施例提供的处理烟气的方法，包括：将650℃至1050℃的烟气通入氧化触媒，以氧化烟气中的甲烷和/或一氧化碳，生成水与二氧化碳，其中氧化触媒的化学式为cu1-xmxoy，其中m为ce或mn；x为0.1至0.9；以及y为对应cu与m的价数的数值，其中氧化触媒同时具有中孔与巨孔。

11、在一些实施例中，氧化触媒的中孔为10nm至50nm，而巨孔为100nm至400nm。

12、在一些实施例中，氧化触媒不含pt、pd、rh、ru、au、或ag。

13、在一些实施例中，烟气包括50ppm至5000ppm的甲烷、50ppm至5000ppm的一氧化碳、或上述的组合，以及1％至5％的氧气。

技术特征：

1.一种氧化触媒，其特征在于，其化学式为cu1-xmxoy，

2.根据权利要求1所述的氧化触媒，其特征在于，所述氧化触媒的中孔为10nm至50nm，所述巨孔为100nm至400nm。

3.根据权利要求1所述的氧化触媒，其特征在于，所述氧化触媒不含pt、pd、rh、ru、au、或ag。

4.一种氧化触媒的形成方法，其特征在于，包括：

5.根据权利要求4所述的氧化触媒的形成方法，其特征在于，所述cu的盐类与所述m的盐类的摩尔数与所述甘胺酸的摩尔数的比例为1∶0.5至1∶1.5。

6.根据权利要求4所述的氧化触媒的形成方法，其特征在于，所述cu的盐类与所述m的盐类的摩尔数与所述蔗糖的摩尔数的比例为1∶0.05至1∶0.3。

7.根据权利要求4所述的氧化触媒的形成方法，其特征在于，所述氧化触媒的中孔为10nm至50nm，所述巨孔为100nm至400nm。

8.根据权利要求4所述的氧化触媒的形成方法，其特征在于，所述氧化触媒不含pt、pd、rh、ru、au、或ag。

9.根据权利要求4所述的氧化触媒的形成方法，其特征在于，还包含锻烧该氧化触媒，且锻烧温度介于850℃至1150℃。

10.一种处理烟气的方法，其特征在于，包括：

11.根据权利要求10所述的处理烟气的方法，其特征在于，所述氧化触媒的中孔为10nm至50nm，所述巨孔为100nm至400nm。

12.根据权利要求10所述的处理烟气的方法，其特征在于，所述氧化触媒不含pt、pd、rh、ru、au、或ag。

13.根据权利要求10所述的处理烟气的方法，其特征在于，所述烟气包括50ppm至5000ppm的甲烷和/或50ppm至5000ppm的一氧化碳，以及1％至5％的氧气。

技术总结本发明提供了一种氧化触媒的形成方法，包括：将Cu的盐类、M的盐类、甘胺酸、与蔗糖溶于水中以形成中性水溶液，其中M为Ce或Mn；以及加热中性水溶液至350℃到500℃而产生大量气体，待水干燥后即得氧化触媒，其中氧化触媒的化学式为Cu<subgt;1‑x</subgt;M<subgt;x</subgt;O<subgt;y</subgt;，其中x为0.1至0.9；以及y为对应Cu与M的价数的数值，其中氧化触媒同时具有中孔与巨孔。技术研发人员：傅崇玮,林依杏,赖宇伦,沈政宪受保护的技术使用者：财团法人工业技术研究院技术研发日：技术公布日：2024/5/29