镀膜设备及镀膜系统的制作方法

本申请属于镀膜，具体涉及一种镀膜设备及镀膜系统。

背景技术：

1、磁控溅射属于物理气相沉积技术之一，是通过外加电场的作用下，将氩气分子电离成大量的氩离子和电子，氩离子在电场与磁场的双重作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉积在电池片上成膜。在太阳能电池制造领域，通常采用磁控溅射的方式将氧化铟锡(ito)靶材分别溅射到电池片的正、背面形成镀层。

2、相关技术中，磁控溅射设备包括上料区、进料腔、加热腔、工艺腔、传输腔、出料腔和下料区，其中工艺腔分为上镀膜腔与下镀膜腔，在上镀膜腔对电池片的正面进行镀膜，在下镀膜腔对电池片的背面进行镀膜。

3、然而，氩离子轰击靶材溅射出的靶材原子，其中一部分沉积到电池片表面，还有一部分会溅射到工艺腔的内壁上，不仅造成了靶材的浪费，也增加了工艺腔的清洗维护成本。

技术实现思路

1、本申请旨在提供一种镀膜设备及镀膜系统，能够解决相关技术中的磁控溅射设备存在靶材浪费，且工艺腔的清洗维护成本较高的问题。

2、为了解决上述技术问题，本申请是这样实现的：

3、第一方面，本申请实施例提出了一种镀膜设备，包括：

4、至少两个镀膜腔，所述镀膜腔内设有镀膜源，所述镀膜源沿第一方向的两侧设有第一镀膜位和第二镀膜位，所述镀膜源用于对所述第一镀膜位和所

5、述第二镀膜位中的工件进行镀膜；

6、移载组件，所述移载组件设于相邻两个所述镀膜腔之间，用于承载所述工件在相邻两个所述镀膜腔之间转移，并在转移过程中对所述第一镀膜位和所述第二镀膜位中的工件进行换位。

7、可选地，所述移载组件包括：第一传输机构、第二传输机构和换位机构；

8、所述第一传输机构设于相邻两个所述镀膜腔的第一镀膜位之间，用于将所述工件移入或移出所述第一镀膜位；所述第二传输机构设于相邻两个所述镀膜腔的第二镀膜位之间，用于将所述工件移入或移出所述第二镀膜位；

9、所述换位机构设于相邻两个所述镀膜腔之间，用于将所述第一传输机构中的工件移载至所述第二传输机构中，以及将所述第二传输机构中的工件移载至所述第一传输机构中。

10、可选地，所述换位机构包括：支架和载台；

11、所述支架设于相邻两个所述镀膜腔之间，并与所述第一传输机构和所述第二传输机构相对设置；所述载台活动连接于所述支架，所述载台可在所述第一传输机构和所述第二传输机构之间移动，以将所述第一传输机构中的工件移载至所述第二传输机构中，以及将所述第二传输机构中的工件移载至所述第一传输机构中。

12、可选地，所述载台包括承载架和若干第一滚轮，所述承载架滑动连接于所述支架，所述第一滚轮转动连接于所述承载架，若干所述第一滚轮间隔成排设置。

13、可选地，相邻两个所述镀膜腔分别为第一腔室和第二腔室，所述第二腔室位于所述第一腔室的下行工位；

14、所述第一传输机构包括与所述第一腔室相对设置的第一传输部，以及与所述第二腔室相对设置的第二传输部；所述第二传输机构包括与所述第一腔室相对设置的第三传输部，以及与所述第二腔室相对设置的第四传输部；

15、所述支架设于所述第一传输部和所述第二传输部之间，以及所述第三传输部和所述第四传输部之间；所述载台可相对于所述支架移动，用于将所述

16、第一传输部中的工件移载至所述第四传输部中，以及将所述第三传输部中的工件移载至所述第二传输部中。

17、可选地，所述镀膜设备还包括：第一感应件和第二感应件；

18、所述第一感应件设于所述第一传输部靠近所述支架的一端，用于感应所述第一传输部中所述工件的位置；所述第二感应件设于所述第三传输部靠近支架的一端，用于感应所述第三传输部中所述工件的位置。

19、可选地，所述第一传输机构和所述第二传输机构中至少一个包括：基座、若干第二滚轮和载盘；

20、所述基座与所述镀膜腔相对设置，所述第二滚轮转动连接于所述基座，若干所述第二滚轮间隔成排设置，所述载盘活动连接于所述第二滚轮，所述第二滚轮可相对于所述基座转动以带动所述载盘移动，并通过所述载盘承载所述工件移入或移出所述镀膜腔。

21、可选地，所述镀膜源包括：环形靶材和磁性体；

22、所述环形靶材设于所述镀膜腔内，所述环形靶材转动连接于所述镀膜腔的内壁；所述环形靶材内设有容置腔，所述磁性体设于所述容置腔内。

23、可选地，所述容置腔内设有至少两个所述磁性体，至少两个所述磁性体中的一个所述磁性体靠近所述第一镀膜位设置，至少两个所述磁性体中的另一个所述磁性体靠近所述第二镀膜位设置。

24、可选地，沿所述第一方向，所述环形靶材的中心到所述第一镀膜位的距离等于所述环形靶材的中心到所述第二镀膜位的距离。

25、可选地，所述镀膜腔内还设有输气管路，所述输气管路中设有多个排气孔，多个所述排气孔沿所述第一方向间隔排布，所述排气孔用于向所述环形靶材的表面输送工艺气体。

26、可选地，沿第二方向，所述环形靶材的两侧均设有所述输气管路，所述第二方向垂直于所述第一方向。

27、可选地，所述镀膜设备还包括冷却管路，所述冷却管路至少部分穿设于所述环形靶材中，用于对所述环形靶材进行冷却。

28、第二方面，本申请实施例提出了一种镀膜系统，包括上述任一项所述的镀膜设备。

29、在本申请的实施例中，通过在镀膜设备中设置至少两个镀膜腔，每个镀膜腔内均设有镀膜源，在镀膜源的两侧分别设置镀膜位，以便利用镀膜源可以同时对两个镀膜位中的工件进行镀膜操作，进而提高了镀膜源的利用率，也能减少镀膜腔的内壁上的膜层沉积，降低镀膜腔的清洗维护成本。同时，通过在相邻两个镀膜腔之间设置移载组件，利用移载组件可以实现工件在相邻两个镀膜腔之间的转移，并在转移过程中对工件进行换位，以便在不同的镀膜腔内对工件的不同表面进行镀膜操作，从而可以同时对两个工件进行双面镀膜，大大提高了镀膜效率。

30、本申请的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。

技术特征：

1.一种镀膜设备，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述移载组件包括：第一传输机构、第二传输机构和换位机构；

3.根据权利要求2所述的镀膜设备，其特征在于，所述换位机构包括：支架和载台；

4.根据权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，所述载台包括承载架和若干第一滚轮，所述承载架滑动连接于所述支架，所述第一滚轮转动连接于所述承载架，若干所述第一滚轮间隔成排设置。

5.根据权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，相邻两个所述镀膜腔分别为第一腔室和第二腔室，所述第二腔室位于所述第一腔室的下行工位；

6.根据权利要求5所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜设备还包括：第一感应件和第二感应件；

7.根据权利要求2所述的镀膜设备，其特征在于，所述第一传输机构和所述第二传输机构中至少一个包括：基座、若干第二滚轮和载盘；

8.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜源包括：环形靶材和磁性体；

9.根据权利要求8所述的镀膜设备，其特征在于，所述容置腔内设有至少两个所述磁性体，至少两个所述磁性体中的一个所述磁性体靠近所述第一镀膜位设置，至少两个所述磁性体中的另一个所述磁性体靠近所述第二镀膜位设置。

10.根据权利要求8所述的镀膜设备，其特征在于，沿所述第一方向，所述环形靶材的中心到所述第一镀膜位的距离等于所述环形靶材的中心到所述第二镀膜位的距离。

11.根据权利要求8所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜腔内还设有输气管路，所述输气管路中设有多个排气孔，多个所述排气孔沿所述第一方向间隔排布，所述排气孔用于向所述环形靶材的表面输送工艺气体。

12.根据权利要求11所述的镀膜设备，其特征在于，沿第二方向，所述环形靶材的两侧均设有所述输气管路，所述第二方向垂直于所述第一方向。

13.根据权利要求8所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜设备还包括冷却管路，所述冷却管路至少部分穿设于所述环形靶材中，用于对所述环形靶材进行冷却。

14.一种镀膜系统，其特征在于，包括如权利要求1-13任一项所述的镀膜设备。

技术总结本申请公开了一种镀膜设备及镀膜系统，镀膜设备包括至少两个镀膜腔，镀膜腔内设有镀膜源，镀膜源沿第一方向的两侧设有第一镀膜位和第二镀膜位，镀膜源用于对第一镀膜位和第二镀膜位中的工件进行镀膜；移载组件，移载组件设于相邻两个镀膜腔之间，用于承载工件在相邻两个镀膜腔之间转移，并在转移过程中对第一镀膜位和第二镀膜位中的工件进行换位。通过在镀膜源的两侧分别设置镀膜位，利用镀膜源可以同时对两个镀膜位中的工件进行镀膜，提高了镀膜源的利用率，能够减少了镀膜腔内壁上的膜层沉积，降低镀膜腔的清洗维护成本。同时，利用移载组件可以实现工件在相邻两个镀膜腔之间的转移以及换位，从而可以同时对两个工件进行双面镀膜。技术研发人员：袁陨来,陈哲,邱江南,王建波,徐希翔受保护的技术使用者：隆基绿能科技股份有限公司技术研发日：20230913技术公布日：2024/6/11