转印膜、以及抗水/抗油性外部装饰材料及其制造方法与流程

本发明涉及转印膜、以及抗水/抗油性外部装饰材料及其制造方法。

背景技术：

1、为了对成形体赋予耐划伤性等，在成形体的表面设置表面保护层。表面保护层例如通过涂覆或使用转印膜来形成(例如参照专利文献1)。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2004-345228号公报

技术实现思路

1、发明要解决的课题

2、在室外使用的外部装饰材料有时会暴露于严酷的耐候条件下，因此期望抗水性和抗油性优异。本发明的发明人们研究了如下方案：通过使用具有包含表面保护层的转印层的转印膜将该转印层转印至外部装饰材料，从而提高外部装饰材料的抗水性和抗油性。然而，本发明的发明人们发现：在使用转印膜将表面保护层设置于外部装饰材料上的情况下，转印至外部装饰材料后的表面保护层的抗水性和抗油性不充分。

3、本发明的一个课题在于提供一种转印膜，其能够将具有抗水性和抗油性优异的表面保护层的转印层转印至作为被转印体的外部装饰材料上。

4、用于解决课题的手段

5、在一个实施方式中，本发明的转印膜具有脱模膜和转印层，转印层具有表面保护层，表面保护层构成转印层中的脱模膜侧的表层，表面保护层的脱模膜侧表面的、通过x射线光电子能谱法测定的硅原子的含量为3atomic％以上且30atomic％以下，所述转印膜用于外部装饰材料。

6、发明效果

7、根据本发明，能够提供一种转印膜，其能够将具有抗水性和抗油性优异的表面保护层的转印层转印至作为被转印体的外部装饰材料上。

技术特征：

1.一种转印膜，其具有脱模膜和转印层，

2.根据权利要求1所述的转印膜，其中，将使所述转印层转印至被转印体而得到的试验片投入到下述条件的耐候性试验后，所述试验片的表面保护层面的通过x射线光电子能谱法测定的硅原子的含量为2.5atomic％以上且30atomic％以下，

3.一种转印膜，其具有脱模膜和转印层，

4.根据权利要求3所述的转印膜，其中，将使所述转印层转印至被转印体而得到的试验片投入到所述条件的耐候性试验后，所述试验片的表面保护层面的表面自由能为20mj/m2以上且40mj/m2以下。

5.一种转印膜，其具有脱模膜和转印层，

6.根据权利要求5所述的转印膜，其中，将使所述转印层转印至被转印体而得到的试验片投入到所述条件的耐候性试验后，所述试验片的表面保护层面的水接触角为85°以上。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的转印膜，其中，所述脱模膜的所述转印层侧表面的表面自由能为15mj/m2以上且35mj/m2以下。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的转印膜，其中，所述脱模膜与所述转印层中的所述表面保护层接触。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的转印膜，其中，所述转印层还具有粘接层。

10.根据权利要求9所述的转印膜，其中，所述转印层在所述表面保护层与所述粘接层之间还具有底涂层。

11.根据权利要求10所述的转印膜，其中，所述表面保护层、所述底涂层和所述粘接层中的至少1个层含有耐候性提高剂。

12.根据权利要求1～11中任一项所述的转印膜，其用于将所述转印层转印至外部装饰材料的表面的至少一部分上。

13.一种抗水/抗油性外部装饰材料，其具有外部装饰材料和设置于所述外部装饰材料的表面的至少一部分上的表面保护膜，

14.根据权利要求13所述的抗水/抗油性外部装饰材料，其中，所述转印层具有粘接层，或者

15.一种抗水/抗油性外部装饰材料的制造方法，其包括：

技术总结一种转印膜，其具有脱模膜和转印层，转印层具有表面保护层，表面保护层构成转印层中的脱模膜侧的表层，表面保护层的脱模膜侧表面的、通过X射线光电子能谱法测定的硅原子的含量为3atomic％以上且30atomic％以下，所述转印膜用于外部装饰材料。技术研发人员：宫崎沙织,秋田泰宏,中村胜二受保护的技术使用者：大日本印刷株式会社技术研发日：技术公布日：2024/9/2