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含硅铝合金用除垢剂和含硅铝合金的除垢方法与流程

  • 国知局
  • 2024-11-06 15:08:47

本发明涉及含硅铝合金用除垢剂和含硅铝合金的除垢方法。

背景技术:

1、专利文献1公开了在含硅铝合金的阳极氧化处理方法和镀敷方法中,使用包含无机酸和氟化物的除垢剂,进行除垢处理。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1:日本特开2016-125100

技术实现思路

1、发明所要解决的技术问题

2、本发明的目的在于提供新型的除垢剂。

3、用于解决技术问题的技术方案

4、本发明的发明人进行了深入研究,结果开发了如下技术:通过在含有碱性化合物和硅酸盐且不含氟化物的除垢剂中浸渍含硅铝合金,能够良好地除去含硅铝合金的污垢(smut)。

5、即,本发明包括如下的含硅铝合金用除垢剂和含硅铝合金的除垢方法。

6、项1.

7、一种除垢剂,其是含硅铝合金用除垢剂,含有碱性化合物和硅酸盐。

8、项2.

9、如上述项1所述的除垢剂,其中,上述碱性化合物为选自下述化合物中的至少1种碱性化合物:选自锂、钠、钾、铷和铯中的碱金属的氢氧化物;以及选自四甲基氢氧化铵(tmah)、四乙基氢氧化铵(teah)、四丙基氢氧化铵(tpaoh)、四丁基氢氧化铵(tbaoh)、乙二胺邻苯二酚(edp)、氢氧化铵(nh4oh)和肼中的铵化合物。

10、项3.

11、如上述项1或2所述的除垢剂,其中,上述硅酸盐为选自硅酸锂、硅酸钠和硅酸钾中的至少1种硅酸盐。

12、项4.

13、如上述项1~3中任一项所述的除垢剂,其还含有过硫酸盐。

14、项5.

15、如上述项4所述的除垢剂,其中,上述过硫酸盐为选自过硫酸钠、过硫酸钾、过硫酸铵以及由过硫酸氢钾、硫酸氢钾和硫酸钾形成的复盐中的至少1种过硫酸盐。

16、项6.

17、如上述项1~5中任一项所述的除垢剂,其中,在上述除垢剂中含有1.0质量%~20.0质量%的上述碱性化合物。

18、项7.

19、如上述项1~6中任一项所述的除垢剂,其中,在使用硅酸钠和/或硅酸钾作为上述硅酸盐时,在上述除垢剂中含有20.0质量%~38.0质量%的sio2、6.5质量%~19.0质量%的na2o和/或k2o。

20、项8.

21、如上述项1~6中任一项所述的除垢剂,其中,在使用硅酸锂作为上述硅酸盐时,在上述除垢剂中含有20.0质量%~22.0质量%的sio2、1.3质量%~3.1质量%的li2o。

22、项9.

23、如上述项4~8中任一项所述的除垢剂,其中,在上述除垢剂中含有0.1质量%~10.0质量%的上述过硫酸盐。

24、项10.

25、一种除垢方法,其是含硅铝合金的除垢方法,其包括:

26、(1)在含有碱性化合物和硅酸盐除垢剂中浸渍含硅铝合金的工序。

27、项11.

28、如上述项10所述的除垢方法,其中,上述除垢剂还含有过硫酸盐。

29、发明的效果

30、本发明能够提供新型的除垢剂。

技术特征:

1.一种除垢剂,其是含硅铝合金用除垢剂,所述除垢剂的特征在于:

2.如权利要求1所述的除垢剂,其特征在于:

3.如权利要求1或2所述的除垢剂,其特征在于:

4.如权利要求1~3中任一项所述的除垢剂,其特征在于:

5.如权利要求4所述的除垢剂,其特征在于:

6.如权利要求1~5中任一项所述的除垢剂,其特征在于:

7.如权利要求1~6中任一项所述的除垢剂,其特征在于:

8.如权利要求1~6中任一项所述的除垢剂,其特征在于:

9.如权利要求4~8中任一项所述的除垢剂,其特征在于:

10.一种除垢方法,其是含硅铝合金的除垢方法,其特征在于,包括:

11.如权利要求10所述的除垢方法,其特征在于:

技术总结本发明的目的在于提供新型的除垢剂。本发明的含硅铝合金用除垢剂含有碱性化合物和硅酸盐。技术研发人员:山口佑也,原健二,田中克幸受保护的技术使用者:奥野制药工业株式会社技术研发日:技术公布日:2024/11/4

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