分子膜、分子膜集成体、红外线遮蔽膜和结构体的制作方法

本发明涉及分子膜、分子膜集成体、红外线遮蔽膜和结构体。

背景技术：

1、专利文献1中公开了一种红外线遮蔽材料微粒分散体，其特征在于，为红外线遮蔽材料微粒分散于介质中的红外线遮蔽材料微粒分散体，上述红外线遮蔽材料微粒含有钨氧化物微粒或/和复合钨氧化物微粒，上述红外线遮蔽材料微粒的粒子直径为1nm以上800nm以下。

2、专利文献2中公开了一种日照遮蔽用层合结构体，其特征在于，为使包含具有日照遮蔽功能的微粒的中间层介于选自板玻璃、塑料、包含具有日照遮蔽功能的微粒的塑料中的2张层合板间而成的日照遮蔽用层合结构体，上述具有日照遮蔽功能的微粒由钨氧化物的微粒和/或复合钨氧化物的微粒构成。

3、专利文献3中公开了一种透明导电膜，其特征在于，包含钨氧化物或/和复合钨氧化物，波长400nm以上780nm以下的区域中的透射率的最大值为10％以上且小于92％，膜的表面电阻(薄层电阻)为1.0×1010ω/□以下。

4、现有技术文献

5、专利文献

6、专利文献1:国际公开第2005/037932号

7、专利文献2:国际公开第2005/087680号

8、专利文献3:日本特开2006-96656号公报

9、非专利文献

10、非专利文献1:acs nano 2020，14，15216

技术实现思路

1、发明所要解决的课题

2、专利文献1～专利文献3所公开那样，已知钨氧化物、复合钨氧化物作为红外线遮蔽材料、透明导电膜等起作用，能够用于各种用途。

3、而且，以新的功能的表现、对于新的用途的适用为目的，要求含有钨和氧的新的膜状体。

4、因此，本发明的一侧面中，目的在于提供含有钨和氧的分子膜。

5、用于解决课题的方法

6、本发明的一侧面中，提供包含钨-氧八面体块(block)的分子膜。

7、发明的效果

8、本发明的一侧面中，能够提供含有钨和氧的分子膜。

1.一种分子膜，其包含钨-氧八面体块。

2.根据权利要求1所述的分子膜，其包含由通式mxwyoz所表述的复合钨氧化物，其中，m为选自包含h、b、c、n、f、li、na、k、rb、cs、fr、ca、sr、ba、ra、sc、y、la、ce、pr、nd、pm、sm、eu、gd、tb、dy、ho、er、tm、yb、lu、be、mg、zr、cr、mn、fe、ru、co、rh、ir、ni、pd、pt、cu、ag、au、zn、cd、al、ga、in、tl、si、ge、sn、pb、sb、p、s、se、cl、br、i、te、ti、nb、v、mo、ta、re、hf、os、bi的元素组，和包含bi2o2、oh、h2o、h3o的原子团组中的1种以上，w为钨，o为氧，0.001≤x/y≤1、2.0≤z/y≤3.5。

3.根据权利要求2所述的分子膜，所述m包含选自h、li、na、k、rb、cs、fr、ca、sr、ba、fe、cu、ag、in、tl、sn、pb、yb中的1种以上。

4.根据权利要求2或3所述的分子膜，所述m包含选自cs、rb中的1种以上。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的分子膜，其包含通式wyoz所表述的钨氧化物，其中，w为钨，o为氧，2.0≤z/y＜3.5。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的分子膜，其具有变色特性。

7.一种分子膜集成体，其含有权利要求1～6中任一项所述的分子膜。

8.一种红外线遮蔽膜，其包含权利要求7所述的分子膜集成体。

9.一种红外线遮蔽膜，其包含:

10.根据权利要求9所述的红外线遮蔽膜，所述基材包含选自单晶材料、多结晶材料、玻璃、金属、合金、陶瓷、树脂中的1种以上。

11.根据权利要求8～10中任一项所述的红外线遮蔽膜，其具有层叠结构。

12.根据权利要求11所述的红外线遮蔽膜，作为所述层叠结构的一部分，含有高折射率材料。

13.根据权利要求12所述的红外线遮蔽膜，所述高折射率材料为选自氧化钛、氧化锰、氧化钽、氧化铌、钛酸盐、钽酸盐、铌酸盐、氮化硼中的1种以上。

14.根据权利要求8～13中任一项所述的红外线遮蔽膜，

15.一种结构体，其包含权利要求1～6中任一项所述的分子膜。

16.根据权利要求15所述的结构体，其具有: